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    A GAS-PARTICLE PROCESSOR
    2.
    发明公开
    A GAS-PARTICLE PROCESSOR 有权
    气体粒子处理器

    公开(公告)号：EP2643649A1

    公开(公告)日：2013-10-02

    申请号：EP11842609.7

    申请日：2011-11-25

    申请人： Potter, Owen

    发明人： Potter, Owen

    IPC分类号： F26B17/00 ,  B01J8/08 ,  F26B21/00

    CPC分类号： B65G53/66 ,  B01J8/0015 ,  B01J8/005 ,  B01J8/08 ,  B01J2208/00088 ,  B01J2208/00548 ,  B01J2208/0084 ,  B65G53/16 ,  F26B3/0923 ,  F26B17/10 ,  F26B17/101 ,  F26B17/104 ,  F26B21/003 ,  F28C3/12 ,  F28D19/02

    摘要： A gas-particle processor comprising: a chamber having a gas inlet, a gas outlet and one or more particle inlets; a gas flow arrangement operable to flow gas through the chamber from the gas inlet to the gas outlet at a first controlled mass flow-rate; and a particle flow arrangement operable to introduce particles in one or more streams into the chamber at a second controlled mass flow-rate, each particle stream flowing through respective processing regions in the chamber, wherein the processor is operable to control the first and/or second controlled mass flow-rates to provide a gas-particle mixture porosity in a substantial portion of each processing region of 0.900-0.995.

    摘要翻译： 一种气体粒子处理器，包括：具有气体入口，气体出口和一个或多个粒子入口的腔室; 气体流动装置，其可操作以使气体以第一受控质量流率从所述气体入口流动通过所述腔室到所述气体出口; 以及粒子流布置，其可操作用于以第二受控质量流率将一股或更多股流中的粒子引入所述室中，每种粒子流流过所述室中的相应处理区域，其中所述处理器可操作以控制所述第一和/或 第二受控质量流率以在每个处理区域的基本部分中提供0.900-0.995的气体 - 颗粒混合物孔隙率。