摘要:
Bei der Herstellung einer Druckform wird in die Oberfläche eines Druckformrohlings (1) ein Relief dadurch eingebracht, daß Material des Druckformrohlings (1) entlang von Spuren durch Strahlung abgetragen wird. Zu diesem Zweck werden entlang jeweils ein und derselben Spur unterschiedlich tief liegende Reliefbereiche durch entsprechend häufiges Bestrahlen erzeugt.
摘要:
Beschrieben werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines Siebdruckzylinders (1), der aus einem zwischen zwei Endringen (2, 3) gehaltenen flexiblen und für Flüssigkeiten bzw. pastöse Massen durchlässigen Mantel (4) besteht. Bei dem Verfahren wird der Mantel (4), zum Beispiel eine Gaze, durch Verschieben der Endringe (2, 3) voneinanderweg gespannt und von innen durch eine nur an einer Seite der Zylinderlängsachse (5) des Siebdruckzylinders (1) liegenden und sich wenigstens annähernd über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders (1) erstreckenden Anlage (21) in eine parallel zur Zylinderlängsachse (5) liegende Position gedrückt. Dabei nimmt die Anlage (21) während der Drehung des Siebdruckzylinders (1) eine feste Winkellage ein. Ferner wird die Bemusterung des Siebdruckzylinders (1) von außen bei dessen Drehung nur im Bereich dieser Anlage (21) durchgeführt, so daß ein Abstand zwischen Mantel (4) und einer Bearbeitungsstation (23) zur Bemusterung des Mantels (4) im Bereich der Anlage (21) stets konstant bleibt. Dies führt zu einer verbesserten Druckqualität.
摘要:
Beschrieben werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bildung eines Musters auf einer Unterlage (1, 41), indem mittels eines wenigstens eine Düse (18) aufweisenden Spritzkopfs (6) eine Flüssigkeit musterbedingt auf die Unterlage (1, 41) aufgebracht wird. Im Rahmen der Bemusterung wird zusätzlich ein automatischer Reinhaltungsprozeß zur Reinhaltung der Düse (18) ausgeführt. Dadurch lassen sich auch mit sehr feinen Düsen größere Unterlagen über relativ lange Zeit qualitativ hochwertig bemustern.
摘要:
Zur Herstellung einer Siebdruckschablone (1) wird eine auf der Oberfläche eines sich drehenden Siebdruckzylinders (1a) liegende Lackschicht (63) mittels eines wenigstens annähernd radial auf den Siebdruckzylinder (1a) auftreffenden und in dessen Axialrichtung bewegten Strahls (19) punktweise bestrahlt. Der Siebdruckzylinder (1a) wird nur im Bereich seiner sich gegenüberliegenden Stirnseiten abgestützt, während er über wenigstens eine dieser Stirnseiten durch ein Druckgas von bis zu 20.000 Pa so stark aufgeblasen wird, daß er einen kreisrunden Querschnitt erhält.
摘要:
Bei einem Halbton-Druckverfahren nach der Erfindung erfolgen die Bereitstellung wenigstens einer Halbton-Druckschablone (1) mit mindestens zwei Bereichen (4), die gleichmäßige Schablonenöffnungsstrukturen aufweisen, welche jedoch von Bereich zu Bereich verschieden sind; die Durchführung eines Probedrucks mit einer derartigen Halbton-Druckschablone (1) zur Erzeugung von den jeweiligen Bereichen (4) zugeordneten Druckbildern (12); der Vergleich von optischen Daten derjeweiligen Druckbilder (12) mit entsprechenden Sollwerten; und die Nachstellung von Druckparametern, derart, daß sich die optischen Daten beim nächsten Druck den entsprechenden Sollwerten annähern. Vorzugsweise kann hierzu eine optische Meßeinrichtung (13) zur Messung der optischen Daten in vorgegebenen Bereichen des Halbtondrucks vorhanden sein, wobei eine Steuereinheit die Druckparameter in Abhängigkeit der gemessenen optischen Daten verändert.
摘要:
Bei der Herstellung einer Halbtonschablone (1) wird in einem vorbestimmten Schablonenmusterbereich (2) eines Schablonengrundkörpers eine Schablonenmuster-Lochstruktur zur Bildung eines Schablonenmusters (3) eingraviert. Ferner werden in den Schablonengrundkörper mehrere außerhalb des Schablonenmusterbereichs (2) liegende, gleichmäßige Referenzlochstrukturen (4) eingraviert, die jeweils unterschiedliche Durchlässigkeitsgrade aufweisen. Diese Referenzlochstrukturen werden beim späteren Druck zur Erzeugung von Druckmustern herangezogen, welche ihrerseits zur Beurteilung der Qualität bzw. Farbtreue eines Schablonenmusterdrucks dienen.
摘要:
Ein Verfahren zum Herstellen einer Siebdruckschablone, insbesondere zum Bedrucken von Textilien, bei dem ein an seiner äußeren Oberfläche mit einer Lackschicht (L) beschichteter Trägerkörper (1) mittels eines Laserstrahls (S) bestrahlt wird, um in diese ein gewünschtes Muster einzubringen, zeichnet sich dadurch aus, daß die Strahlungswellenlänge des Laserstrahls (S) größer als 450 nm ist.