公开(公告)号：EP3987077A1

公开(公告)日：2022-04-27

申请号：EP19748783.8

申请日：2019-07-29

申请人： Microsoft Technology Licensing, LLC

发明人： KOSTAMO, Pasi ,  STANKEVIC, Tomas ,  JEPPESEN, Peter Krogstrup

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  G03F1/20 ,  G03F7/12 ,  H01L39/22 ,  H01L39/24

公开(公告)号：EP3948419A1

公开(公告)日：2022-02-09

申请号：EP20715837.9

申请日：2020-03-30

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT zur Förderung der angewandten Forschung e.V.

发明人： LORENZ, Andreas ,  POSPISCHIL, Maximilian ,  TEPNER, Sebastian ,  CLEMENT, Florian ,  KUCHLER, Martin

IPC分类号： G03F7/12 ,  H01L21/67 ,  B41F9/00 ,  B41M1/10 ,  H01L31/18 ,  B41J2/14

公开(公告)号：EP2824510B1

公开(公告)日：2021-09-22

申请号：EP13194498.5

申请日：2013-11-26

发明人： Ye, Tiansheng

IPC分类号： C23F1/02 ,  G03F7/12

公开(公告)号：EP3869269A1

公开(公告)日：2021-08-25

申请号：EP21158234.1

申请日：2021-02-19

申请人： SASU VIANORD ENGINEERING

发明人： DE CARIA, Riccardo

IPC分类号： G03F7/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

摘要： There are described a method and a device for finishing flexographic digital printing plates. The finishing device comprises:
- an exposure chamber (5) hermetic to UV rays, wherein radiating of the plate (1) to be treated is carried out;
- a plurality of UV-A LEDs and a plurality of UV-C LEDs, said LEDs being placed inside the exposure chamber so that that their radiating surface faces the surface of the plate to be treated and being suitable for radiating the plate to be treated;
- means for relative movement between the plate being processed, said plurality of UV-A LEDs and said plurality of UV-C LEDs, suitable for moving the plate being processed or the plurality of UV-A LEDs and the plurality of UV-C LEDs along a feed direction (x).

公开(公告)号：EP2875872B1

公开(公告)日：2018-03-28

申请号：EP13194261.7

申请日：2013-11-25

申请人： AKK GmbH

发明人： Kesper, Peter

IPC分类号： B05C9/06 ,  G03F7/00 ,  G03F7/12 ,  C23F1/00 ,  B41M7/00 ,  B44C1/00 ,  B41M1/20 ,  B44C1/22 ,  B29C33/38 ,  B29C45/37

CPC分类号： B41F15/34 ,  B29C45/372 ,  B41F19/00 ,  B41F23/00 ,  B41F31/00 ,  B41M7/00 ,  B41M7/0081 ,  B41M2205/00 ,  C23F1/00 ,  G03F7/12 ,  G03F7/24

公开(公告)号：EP2894697A4

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：EP13835967

申请日：2013-08-28

申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

发明人： ISHIKAWA KAORU ,  ASAI TAKAHIRO

IPC分类号： H01M4/13 ,  G03F7/00 ,  G03F7/12 ,  G03F7/40 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768 ,  H01M4/02 ,  H01M4/04 ,  H01M4/139 ,  H01M4/70 ,  H01M6/40 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0565 ,  H01M10/058

CPC分类号： H01M4/0414 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/12 ,  G03F7/40 ,  H01L21/288 ,  H01L21/76885 ,  H01M4/0404 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139 ,  H01M4/70 ,  H01M6/40 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0565 ,  H01M10/058 ,  H01M2004/025 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

公开(公告)号：EP2874005A2

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：EP14186497.5

申请日：2014-09-26

申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

发明人： Martinez, Christophe

IPC分类号： G03F7/00 ,  G11B7/26 ,  G03F7/12

CPC分类号： G03F7/2022 ,  G03F7/12 ,  G03F7/2051 ,  G11B7/261

摘要： L'invention concerne un procédé d'inscription d'une image source, dans lequel on réalise sous la forme d'une matrice de motifs élémentaires, une reproduction de l'image source.
Le procédé comprend les étapes suivantes :
- dépôt (401) sur un premier substrat (41) d'une première couche opaque (42) ;
- gravure (402) de la première couche opaque (42), de façon à former une matrice de premières cellules (440) présentant chacune un parmi plusieurs premiers motifs prédéterminés ;
- dépôt d'au moins une deuxième couche opaque (45) ; et
- gravure de la deuxième couche opaque (45), de façon à former une matrice de deuxièmes cellules (470) présentant chacune un parmi plusieurs deuxièmes motifs prédéterminés, les motifs élémentaires étant définis par la superposition d'un deuxième motif et d'un premier motif.
L'invention concerne également un support d'image obtenu à l'aide d'un tel procédé.

公开(公告)号：EP2268845B1

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：EP08873931.3

申请日：2008-12-01

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： LANDGRAF, Heike ,  SCHÜSSLER, Uwe ,  BANGERT, Stefan

IPC分类号： C23C14/04 ,  B05C21/00 ,  G03F7/12 ,  H05B33/10

CPC分类号： C23C14/042 ,  B05C21/005 ,  C23C14/04 ,  G03F7/12 ,  H05B33/10 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49863

公开(公告)号：EP2558908A1

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：EP11718182.6

申请日：2011-04-12

申请人： Ikonics Corporation

发明人： MENOR, Daniel, B. ,  LIBERI, Vincent, E.

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  G03F7/12

CPC分类号： G03F7/0388 ,  B24C1/04

摘要： A photoresist film and method of using the photoresist film is described. The photoresist film allows for fine-detail abrasive blasting of substrates without the use of organic solvents for development. The photoresist film can be formed without the use of a membrane or adhesive layer, both of which are typically used to secure one side of the photoresist film to a carrier and one side of the photoresist film to a substrate. The photoresist films of the present invention typically include an ethylene-vinyl acetate copolymer ("EVA"), a polyvinyl acetate ("PVAc"), and a photo polymer. Suitable photopolymers include polyvinyl alcohol photopolymers.

公开(公告)号：EP2063320A2

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：EP08169477.0

申请日：2008-11-20

申请人： Samsung Mobile Display Co., Ltd.

发明人： Hong, Jong-Won ,  Kang, Eugene ,  Park, Si-Young

IPC分类号： G03F7/12 ,  C23C14/04

CPC分类号： G03F7/12 ,  C23C14/042

摘要： A method and apparatus for fabricating a vertical deposition mask capable of welding a mask sheet and a mask frame for preventing a large area mask from drooping due to the weight of the mask. The apparatus includes a tensioning device for tensioning a mask sheet and a welder for attaching a mask frame to a circumference of the mask sheet. The tensioning device includes clamps for supporting the mask sheet and tensioners coupled to the clamps for applying tensile force to the clamps and to evenly fix in place the mask sheet by the clamps.

摘要翻译： 一种用于制造能够焊接掩模片和掩模框架以防止大面积掩模由于掩模重量而下垂的垂直沉积掩模的方法和设备。 该设备包括用于张紧掩模片的张紧装置和用于将掩模框架附接到掩模片周边的焊机。 张紧装置包括用于支撑面罩片的夹具和与夹具连接的张紧器，用于向夹具施加张力并通过夹具均匀地固定面罩片材。