Verfahren zur Reinigung der Oberflächen von Walzen
    2.
    发明公开
    Verfahren zur Reinigung der Oberflächen von Walzen 审中-公开
    Verfahren zur Reinigung derOberflächenvon Walzen

    公开(公告)号:EP1621263A1

    公开(公告)日:2006-02-01

    申请号:EP05105190.2

    申请日:2005-06-14

    IPC分类号: B08B7/00 D21G3/00

    摘要: Bei einem Verfahren zur Reinigung der Oberflächen (1a) von Walzen (1) einer Maschine zur Herstellung und/oder Veredelung einer Papier-, Karton- oder anderen Faserstoffbahn (2) ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass die Oberflächen (1a) der Walzen (1) mit einem Laser (4) gereinigt werden.

    摘要翻译: 辊(1)表面(1a)被激光(4)清洁。 激光器安装在辊上的横向(5)上。 它沿着滚轮的长度在横移上移动。 运动(I-III)是振荡的,连续的或逐步的。 激光能量密度为0.1W / cm2> 0.5MW / cm2>。 使用准分子激光器,波长为100-400nm,使用Nd-YAG激光器为1000-2000nm,使用CO2激光器为5000-12000nm。 脉冲间隔为1 fs至1 ms。 激光波长在500和900nm之间。 被污染的沉积物(3)被取出,被吸走。 调整激光束在辊表面上的设定入射角。

    ANSTEUERUNG FÜR EINEN EXCIMER-STRAHLER
    4.
    发明公开
    ANSTEUERUNG FÜR EINEN EXCIMER-STRAHLER 有权
    ANSTEUERUNGFÜREINEN EXCIMER-STRAHLER

    公开(公告)号:EP1634484A2

    公开(公告)日:2006-03-15

    申请号:EP04739155.2

    申请日:2004-05-08

    IPC分类号: H05B41/24

    CPC分类号: H01S3/225 B41P2235/12

    摘要: The invention relates to a control for an excimer emitter, particularly for the dryer in a printing press, comprised of an HF generator that is connected on the output side to an excimer emitter. The aim of the invention is to improve the design of a control of this type for an excimer emitter as to enable a higher UV intensity of radiation. To this end, the invention provides that: the HF generator (1) is provided in the form of a tube-type generator with a feedback; the output of the HF generator (1) is connected to the input of a working circuit (3) comprising a capacitor (C) and an inductive resistor (L), and; the excimer emitter (5) is connected to the output of the working circuit (3).

    摘要翻译: 本发明涉及用于准分子发射器的控制器,特别是用于印刷机中的干燥器的控制器,其包括在输出侧连接到准分子发射器的HF发生器。 本发明的目的是改进准分子发射体的这种类型的控制设计,以实现更高的UV辐射强度。 为此,本发明提供:HF发生器(1)以具有反馈的管式发电机的形式提供; 高频发生器(1)的输出端连接到包括电容器(C)和感应电阻器(L)的工作电路(3)的输入端; 准分子发射体(5)连接到工作电路(3)的输出端。

    ANSTEUERUNG FÜR EINEN EXCIMER-STRAHLER
    7.
    发明授权
    ANSTEUERUNG FÜR EINEN EXCIMER-STRAHLER 有权
    控制对准分子聚光灯

    公开(公告)号:EP1634484B1

    公开(公告)日:2006-11-22

    申请号:EP04739155.2

    申请日:2004-05-08

    IPC分类号: H05B41/24

    CPC分类号: H01S3/225 B41P2235/12

    摘要: The invention relates to a control for an excimer emitter, particularly for the dryer in a printing press, comprised of an HF generator that is connected on the output side to an excimer emitter. The aim of the invention is to improve the design of a control of this type for an excimer emitter as to enable a higher UV intensity of radiation. To this end, the invention provides that: the HF generator (1) is provided in the form of a tube-type generator with a feedback; the output of the HF generator (1) is connected to the input of a working circuit (3) comprising a capacitor (C) and an inductive resistor (L), and; the excimer emitter (5) is connected to the output of the working circuit (3).