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    SCHUTZSCHICHT FÜR PHOTOPOLYMER
    3.
    发明公开
    SCHUTZSCHICHT FÜR PHOTOPOLYMER 审中-公开

    公开(公告)号：EP3435156A1

    公开(公告)日：2019-01-30

    申请号：EP17183344.5

    申请日：2017-07-26

    申请人： Covestro Deutschland AG

    发明人： Die Erfindernennung liegt noch nicht vor

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03H1/02 ,  G11B7/245

    摘要： Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau umfassend eine Photopolymerschicht B und eine zumindest teilweise gehärtete Schutzschicht C, ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtaufbaus, ein Kit-of-parts, die Verwendung einer zumindest teilweise gehärteten Schutzschicht C zum Schutz einer Photopolymerschicht B, sowie optische Anzeigen und Sicherheitsdokumente, umfassend den erfindungsgemäßen Schichtaufbau.

    SUBSTITUIERTE TRIAZINE
    4.
    发明公开
    SUBSTITUIERTE TRIAZINE 审中-公开
    取代的三嗪

    公开(公告)号：EP3313827A1

    公开(公告)日：2018-05-02

    申请号：EP16733370.7

    申请日：2016-06-21

    申请人： Covestro Deutschland AG

    发明人： RÖLLE, Thomas ,  KAWAMURA, Koichi ,  CHIOVETTA, Giuseppe

    IPC分类号： C07D251/24 ,  G03C7/02 ,  G11B7/245 ,  G11B7/24044 ,  G03F7/00

    摘要： The invention relates to aromatic 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl- compounds of formula (I). The invention also relates to a photopolymer formulation containing a photopolymerisable component and at least one aromatic 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl- compound of formula (I), and a photopolymer comprising matrix polymers, a writing monomer, a photoinitiator and at least one aromatic 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl- compound of formula (I), a holographic medium that contains the corresponding claimed photopolymer, a hologram containing a claimed holographic medium, a method for producing a hologram using pulsed laser radiation, and the use of a claimed holographic medium to record a hologram.

    SCHUTZLACKE UND KLEBSTOFFE AUF ACRYLATBASIS
    8.
    发明公开
    SCHUTZLACKE UND KLEBSTOFFE AUF ACRYLATBASIS 有权
    SCHLEZLACKE UND KLEBSTOFFE AUF ACRYLATBASIS

    公开(公告)号：EP2962302A1

    公开(公告)日：2016-01-06

    申请号：EP14706629.4

    申请日：2014-02-26

    申请人： Covestro Deutschland AG

    发明人： WEISER, Marc-Stephan ,  FLEMM, Ute ,  HENTSCHEL, Daniel ,  BRUDER, Friedrich-Karl ,  RÖLLE, Thomas ,  BERNETH, Horst ,  HÖNEL, Dennis ,  FÄCKE, Thomas

    IPC分类号： G11B7/245 ,  G11B7/254

    CPC分类号： C09D133/14 ,  B05D3/067 ,  B29C63/0095 ,  B29K2049/00 ,  B29L2009/00 ,  C09D133/08 ,  G11B7/245 ,  G11B7/254 ,  G11B2007/240025

    摘要： The invention relates to a layer structure having a protective layer and an exposed photopolymer layer, wherein the protective layer is obtainable by reacting a mixture comprising or consisting of at least one radiation-curing resin I), a multifunctional radiation-curing resin II) and a photoinitiator system III), and the radiation-curing resin I) includes ≤ 5% by weight of compounds having a weight-average molecular weight 1000, the multifunctional radiation-curing resin II) comprises or consists of at least one acrylate having at least two radiation-curing groups and the mixture includes at least 55% by weight of the radiation-curing resin I) and not more than 35% by weight of the multifunctional radiation-curing resin II). The invention additionally relates to a process for producing such a layer structure and to the use thereof.

    摘要翻译： 本发明涉及具有保护层和光敏聚合物层的分层结构，该保护层可通过包含至少一种辐射固化树脂I），多官能辐射固化树脂II）和 光引发剂体系III），辐射固化树脂I）包含5重量％ ％的重均分子量<500和≥75重量％的化合物。 ％的重均分子量> 1000的化合物，多官能辐射固化树脂II）包含至少一种具有至少两个辐射固化基团的丙烯酸酯或由至少一种具有至少两个辐射固化基团的丙烯酸酯组成，并且该混合物包含至少55wt。 ％的辐射固化树脂I）和不大于35wt。 ％的多官能辐射固化树脂II）。 本发明还涉及一种用于生产这种分层结构的方法，也涉及其用途。