公开(公告)号：EP4449207A1

公开(公告)日：2024-10-23

申请号：EP22830249.3

申请日：2022-12-05

申请人： Nivarox-FAR S.A.

发明人： CHARBON, Christian ,  MIGNOT, Jean-Pierre ,  VERARDO, Marco

IPC分类号： G04B17/06 ,  G04B43/00 ,  G04B13/02

公开(公告)号：EP3742237B1

公开(公告)日：2024-10-16

申请号：EP19176259.0

申请日：2019-05-23

发明人： VERARDO, Marco ,  CHARBON, Christian

IPC分类号： G04B17/06 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  B81C1/00

公开(公告)号：EP4381352A1

公开(公告)日：2024-06-12

申请号：EP22754105.9

申请日：2022-07-28

申请人： ROLEX SA

发明人： CALAME, Florian ,  MULTONE, Xavier

IPC分类号： G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  G04B19/04 ,  G04D3/00

CPC分类号： G04B19/042 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  G04D3/0046

公开(公告)号：EP4137447B1

公开(公告)日：2024-06-12

申请号：EP22188620.3

申请日：2022-08-03

IPC分类号： B81C3/00 ,  F16B5/04 ,  F16B19/06 ,  G04B13/02 ,  G04D1/00

CPC分类号： B81C3/001 ,  B81C2203/03820130101 ,  F16B5/04 ,  F16B19/06 ,  G04B13/022 ,  G04D1/0042

公开(公告)号：EP2734897B1

公开(公告)日：2024-06-12

申请号：EP12737539.2

申请日：2012-07-17

IPC分类号： G04B1/14 ,  G04B15/14 ,  G04B31/004 ,  G04B13/02 ,  B81C99/00

CPC分类号： G04B1/145 ,  G04B13/022 ,  G04B31/004 ,  B81C99/0095 ,  B81B2201/03520130101 ,  G04B15/14

公开(公告)号：EP4327162A1

公开(公告)日：2024-02-28

申请号：EP22723119.8

申请日：2022-04-14

申请人： Acrotec R&D SA

发明人： JACOT, Philippe ,  CALDERON, Ivan

IPC分类号： G04B1/16 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  G04B17/06 ,  B23K26/0622

公开(公告)号：EP4312084A1

公开(公告)日：2024-01-31

申请号：EP22187006.6

申请日：2022-07-26

申请人： Nivarox-FAR S.A.

发明人： VERARDO, Marco ,  CUSIN, Pierre

IPC分类号： G04B13/02 ,  G04B19/04 ,  G04B19/10 ,  G04B21/04

摘要： L'invention concerne un procédé de fabrication d'une composant horloger (1) en silicium présentant un profil externe fonctionnel.

公开(公告)号：EP3839624B1

公开(公告)日：2023-09-13

申请号：EP19217372.2

申请日：2019-12-18

发明人： CUSIN, Pierre ,  GANDELHMAN, Alex ,  MUSY, Michel ,  GOLFIER, Clare

IPC分类号： G03F7/00 ,  G04B19/12 ,  B81C99/00 ,  C25D5/02 ,  C25D1/00 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  G04B19/06

公开(公告)号：EP4227742A1

公开(公告)日：2023-08-16

申请号：EP23156117.6

申请日：2023-02-10

申请人： Sigatec SA

发明人： Clivaz, Johannes ,  Tille, Nicolas ,  Glassey, Marc-André

IPC分类号： G04B1/14 ,  B81C1/00 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14 ,  G04B17/06 ,  G04B19/04 ,  B81C99/00

摘要： La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce en silicium, dans lequel
a) on fournit un substrat (1000) comprenant une première couche (10) de silicium, une couche intermédiaire (30) de dioxyde de silicium, et une deuxième couche (20) de silicium,
b) on grave la première couche (10) pour y former au moins une pièce,
c) dans la deuxième couche (20), on grave une rainure de détachement (200) pour délimiter une portion à détacher (21), au moins une portion (220) de la rainure de détachement (200) étant gravée de sorte qu'une partie (222) de la deuxième couche, formant lien, soit conservée au droit de ladite portion (220),
d) on retire partiellement la couche intermédiaire (30) en éliminant le dioxyde de silicium,
e) on sépare mécaniquement la portion à détacher du reste du substrat en brisant le lien (222).

公开(公告)号：EP3839627B1

公开(公告)日：2023-07-26

申请号：EP19217760.8

申请日：2019-12-18

发明人： LORENZ, Hubert ,  GENOLET, Grégoire ,  MARTINS, John

IPC分类号： G03F7/00 ,  G04D3/00 ,  C25D1/00 ,  C25D5/02 ,  G04B13/02