Charged particle beam lens and manufacturing method thereof
    2.
    发明专利
    Charged particle beam lens and manufacturing method thereof 审中-公开
    充电颗粒光束及其制造方法

    公开(公告)号:JP2014053408A

    公开(公告)日:2014-03-20

    申请号:JP2012196069

    申请日:2012-09-06

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam lens in which pressure resistance in a peripheral part of the lens is enhanced, and a manufacturing method for manufacturing the charged particle beam lens at low cost.SOLUTION: A charged particle beam lens 1 comprises at least a first electrode 11, a second electrode 12 and an insulator 13 disposed between the first electrode 11 and the second electrode 12. Each of the insulator 13, the first electrode 11 and the second electrode 12 includes at least one beam passing part (21, 22, 23) for passing a charged beam therethrough. An outer edge of the first electrode 11 is disposed inside of an outermost edge of the insulator 13 and an outer edge of the second electrode 12, and a step is provided in a direction where at least a part of a surface of the insulator 13 which is exposed without contacting the first electrode 11 is retracted with respect to a coarse surface 14 or a contact surface between the first electrode 11 and the insulator 13.

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种带电粒子束透镜,其中透镜的周边部分的耐压性得到提高,并且制造低成本的带电粒子束透镜的制造方法。解决方案:带电粒子束透镜1包括 设置在第一电极11和第二电极12之间的至少第一电极11,第二电极12和绝缘体13.绝缘体13,第一电极11和第二电极12中的每一个包括至少一个光束通过部分 21,22,23),用于使带电的光束通过其中。 第一电极11的外边缘设置在绝缘体13的最外边缘和第二电极12的外边缘的内侧,并且沿绝缘体13的至少一部分表面的方向设置台阶 露出而不接触第一电极11相对于粗糙表面14或第一电极11和绝缘体13之间的接触表面缩回。

    Electrostatic lens
    3.
    发明专利
    Electrostatic lens 审中-公开
    静电镜

    公开(公告)号:JP2013084638A

    公开(公告)日:2013-05-09

    申请号:JP2011221424

    申请日:2011-10-05

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrostatic lens having an electrode protection film that allows suppression of axis deviation of a charged particle line in the electrostatic lens, or allows achievement and retention of a highly precise positioned state of a component member.SOLUTION: An electrostatic lens comprises: a plurality of electrodes 1 each having a through hole 3; and an insulating spacer 2 disposed between the electrodes and defines a distance between the electrodes. The insulating spacer 2 is integrated with the electrodes 1 opposed to each other by allowing both surfaces of the insulating spacer 2 to be respectively joined to the electrodes. An electrode protection film 4 is disposed on both surfaces of each of the electrodes 1. The electrode protection film 4 exists on an inner wall of the through hole 3 and on the surfaces of the electrode 1 in a region around the through hole 3 continuously connected from the inner wall to end parts of the electrode 1. The electrode protection film 4 does not exist at the interface between the electrode 1 and the insulating spacer 2.

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种具有电极保护膜的静电透镜,其能够抑制静电透镜中带电粒子线的轴偏移,或者允许实现并保持组件的高精度定位状态。 解决方案:静电透镜包括:多个电极1,每个电极具有通孔3; 以及设置在电极之间并且限定电极之间的距离的绝缘间隔件2。 绝缘间隔物2通过使绝缘间隔物2的两面分别与电极接合而与彼此相对的电极1一体化。 电极保护膜4设置在每个电极1的两个表面上。电极保护膜4存在于通孔3的内壁上,并且在通孔3周围的区域中,电极1的表面连续地连接 电极保护膜4不存在于电极1和绝缘垫片2之间的界面处。(C)2013,JPO&INPIT

    Electron emitting element, electron source, and image forming apparatus
    4.
    发明专利
    Electron emitting element, electron source, and image forming apparatus 审中-公开
    电子发射元件,电子源和图像形成装置

    公开(公告)号:JP2005353463A

    公开(公告)日:2005-12-22

    申请号:JP2004174077

    申请日:2004-06-11

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron emitting element, an electronic source, and an image forming device wherein leakage current flowing at a gap end part neighborhood is completely eliminated and the leakage current is less. SOLUTION: Element electrodes 2, 3 are concentrically formed on a circuit board 1, a conductive membrane 4 is formed straddling over the element electrodes 2, 3, and a gap 5 to become an electron emitting part is formed in a loop-like shape (endlessness). By such a constitution, the electron emitting element in which there is no leakage current to flow through the element membrane end part and the leakage current is less as the total can be realized, and furthermore, the image forming apparatus having low power consumption and high quality can be realized by using that electron emitting element. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种电子发射元件,电子源和图像形成装置,其中在间隙端部附近流动的漏电流被完全消除,并且漏电流较小。 解决方案:元件电极2,3同心地形成在电路板1上,导电膜4跨越元件电极2,3形成,并且成为电子发射部分的间隙5形成为环形电极, 像形状(无尽)。 通过这样的结构,能够实现不存在通过元件膜端部流过的漏电流的电子发射元件和能够实现总体的漏电流的电子发射元件,此外,具有低功耗和高的图像形成装置 可以通过使用该电子发射元件来实现质量。 版权所有(C)2006,JPO&NCIPI

    Electron source substrate and image forming device
    6.
    发明专利
    Electron source substrate and image forming device 审中-公开
    电子源基板和图像形成装置

    公开(公告)号:JP2005294253A

    公开(公告)日:2005-10-20

    申请号:JP2005057094

    申请日:2005-03-02

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress a leakage current flowing between element electrodes 2, 3 at the time of the low voltage when un-driving in an electron source substrate having an electron emission element provided with a substrate 1, a pair of element electrodes 2, 3 located on the substrate 1 and a conductive thin film 4 provided with an electron emission part 5 between the element electrodes 2, 3 and a antistatic film 6 contacting with at least a pair of element electrodes 2, 3 and covering an exposed upper part of the substrate 1. SOLUTION: A antistatic film 6 is provided with a high impedance part 7 preventing a current generated between the pair of element electrodes 2, 3 through the antistatic film 6. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题:为了抑制在具有设置有基板1的电子发射元件的电子源基板中的非驱动时,在低电压时在元件电极2,3之间流动的漏电流,一对 位于基板1上的元件电极2,3和在元件电极2,3之间设置有电子发射部分5的导电薄膜4和与至少一对元件电极2,3接触的抗静电膜6并覆盖 曝光的基板1的上部。解决方案:抗静电膜6设置有高阻抗部分7,通过抗静电膜6防止在一对元件电极2,3之间产生的电流。版权所有(C) C)2006,JPO&NCIPI

    放射線発生管及びこれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム
    7.
    发明专利
    放射線発生管及びこれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム 审中-公开
    辐射发生管和使用该辐射发生器的辐射发生器,放射生成系统

    公开(公告)号:JP2015060731A

    公开(公告)日:2015-03-30

    申请号:JP2013193904

    申请日:2013-09-19

    Abstract: 【課題】ターゲットと冷却媒体との接触によるターゲット及び冷却媒体の損傷を防止するために、ターゲットの放射線放出側に密閉空間を設けた放射線発生管において、該密閉空間を設けるために遮蔽体に蓋体を接合するために用いた接合材による放射線の線量低下及び線質汚染を防止し、長時間使用可能な高信頼性の放射線発生装置を提供する。【解決手段】遮蔽体8の開口端において、遮蔽体8と蓋体9の少なくとも一方に突出部を設け、該突出部において他方と当接させ、該突出部の外周において、遮蔽体8と蓋体9とに挟まれた収納部に接合剤10を配設して、遮蔽体8と蓋体9とを接合する。【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供长时间使用的高度可靠的辐射发生器,通过防止由于用于将盖接合到屏蔽件上的接合材料的辐射的剂量减少和质量污染,以提供密封空间 在辐射产生管中,在靶的辐射发射侧设置有密封空间,以防止由于接触而造成的目标和冷却介质的损害。解决方案:在屏蔽8的开口端上,至少一个 并且盖9设置有突起并与另一个接触。 在突起的外周上,通过在由屏蔽8和盖9保持的壳体部中设置接合材料10而将屏蔽8和盖9接合。

    Radiation generating tube, radiation generating apparatus, and radiographic apparatus using them
    8.
    发明专利
    Radiation generating tube, radiation generating apparatus, and radiographic apparatus using them 有权
    辐射发生管,辐射发生装置和使用它们的放射性装置

    公开(公告)号:JP2014136083A

    公开(公告)日:2014-07-28

    申请号:JP2013006831

    申请日:2013-01-18

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a brazing material for bonding a shield and a target from reaching an electron passage, thereby preventing the deterioration of radiation quality caused by electron beams hitting flowed out brazing material, even if the brazing material flows out.SOLUTION: A radiation generating tube comprises: an electron emission source 3 for emitting electrons; a target 9 for generating radiation when radiated with the electrons; a tubular electron passage 8 whose one opening is spaced from and opposed to the electron emission source and whose other opening faces the target; a rear shield 7c positioned nearer the electron emission source than the target; and a brazing material 14 for connecting the rear shield and a periphery of the target at a position spaced from the other opening. In the radiation generating tube, a closed space 20 separated from the electron passage is provided between the target and the rear shield.

    Abstract translation: 要解决的问题:为了防止用于将屏蔽物和靶材接合的钎焊材料达到电子通道,从而防止电子束撞击流出的钎焊材料引起的辐射质量的劣化,即使钎焊材料流出。解决方案: 辐射发生管包括:用于发射电子的电子发射源3; 用于当用电子辐射时产生辐射的目标9; 管状电子通道8,其一个开口与电子发射源隔开并与电子发射源相对,并且其另一个开口面向目标; 位于比目标更靠近电子发射源的后屏蔽7c; 以及钎焊材料14,用于在与另一个开口间隔开的位置处连接后罩和靶的周边。 在辐射产生管中,在目标和后屏蔽之间设置与电子通道分离的封闭空间20。

    放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置と放射線撮影システム
    9.
    发明专利
    放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置と放射線撮影システム 有权
    辐射发生管和辐射发生装置及其使用的放射线系统

    公开(公告)号:JP2015015227A

    公开(公告)日:2015-01-22

    申请号:JP2013246985

    申请日:2013-11-29

    Abstract: 【課題】簡易な手段によって放射線発生管の耐圧性を向上させる技術を提供する。【解決手段】絶縁管5の一方の開口にカソード2を、他方にアノード4を接合して成る放射線発生管1において、絶縁管5の外周に絶縁管5よりもシート抵抗値の低い抵抗膜6を配置してカソード2とアノード4とを電気的に接続し、100℃で100kVの電圧を印加した際のカソード2とアノード4の間の暗電流を0.1μA以上、10μA以下となる様に制御する。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种通过简单的手段提高辐射发生管的耐压性的技术。解决方案:通过将阴极2接合到绝缘管5的一个开口并结合来获得辐射发生管1 阳极4到另一个开口,其中阴极2和阳极4通过布置电阻膜6而彼此电连接,电阻膜6的薄层电阻值低于绝缘管5的电阻值 在100℃下施加100kV电压时,绝缘管5和阴极2与阳极4之间的暗电流被控制在0.1μA以上且10μA以下。

    放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム
    10.
    发明专利
    放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム 审中-公开
    使用该辐射发生装置和放射线系统

    公开(公告)号:JP2014220096A

    公开(公告)日:2014-11-20

    申请号:JP2013098250

    申请日:2013-05-08

    CPC classification number: H01J35/08

    Abstract: 【課題】ターゲットからの脱ガスを常時安定的にゲッタにより吸着し、ターゲットからの脱ガスによる放射線発生管内の真空度の悪化を防止し、長時間使用可能な高い信頼性を持つ放射線発生装置を提供する。【解決手段】透過基材9a上にターゲット層9bを配置し、該ターゲット層9bの周囲に非蒸発型ゲッタ層9cを配置することにより、非蒸発型ゲッタ層9cにも電子放出源3から放出させた電子線5を照射して活性化する。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种辐射产生装置,用于通过吸气剂以恒定的方式吸收从目标物脱气的气体,防止由于从目标物脱气引起的辐射产生管道中的真空度的劣化,以及 能够长时间使用并且具有高可靠性。解决方案:目标层9b设置在透明基材9a上,在目标层9b的周围设置非蒸发型吸气剂层9c, 用从电子发射源3发射的电子束5照射蒸发型吸气剂层9c,以激活非蒸发型吸气剂层9c。

Patent Agency Ranking