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公开(公告)号：JP2017125222A
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：JP2016003256
申请日：2016-01-12
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Abstract: 【課題】ウェブ状成膜対象物が回転保持される回転保持体を共用し、ウェブ状成膜対象物の両面を成膜することにある。 【解決手段】移動機構2は、ウェブ状成膜対象物1を接触保持して駆動回転し且つ予め決められた温度に調整される回転保持体4と、第1の片面を成膜対象面とし、当該ウェブ状成膜対象物1を回転保持体4の一方の区分領域に接触搬送する第1の搬送機構5と、第2の片面を成膜対象面とし、当該ウェブ状成膜対象物1を回転保持体4の他方の区分領域に接触搬送する第2の搬送機構6と、片面成膜済みのウェブ状成膜対象物1’を回転保持体4の回転方向下流側から離れる方向に搬送し、回転保持体4の回転方向上流側に戻す戻し搬送機構7と、両面成膜済みのウェブ状成膜対象物1”を回転保持体4の回転方向下流側から離れる方向に搬送し、予め決められた収容位置に両面成膜体10として収容する収容搬送機構8と、を備える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017101290A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2015235596
申请日：2015-12-02
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】ウェブ状成膜対象物の搬送方向に交差する幅方向へのシワの発生を抑制しつつ、回転保持体の周面のうちウェブ状成膜対象物の通過領域周辺における成膜粒子による汚れを簡単に除去する。 【解決手段】回転保持体1は、駆動回転し且つ予め決められた温度に調整される円形断面状の回転部材2と、回転部材2の周面のうちウェブ状成膜対象物5の保持領域端部に沿って設けられ、当該端部を含んで保持領域の内外に及ぶ幅寸法にて回転部材2の周方向に沿って帯状に形成される離型層3と、を備え、離型層3は、当該離型層3に隣接する回転部材2の周面に対して段差なく設けられ、回転部材2の周面の摩擦抵抗よりも小さい摩擦抵抗を有する。また、この回転保持体1を用いてウェブ状成膜対象物5に成膜して成膜体5’を製造する成膜体製造装置をも含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017101282A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2015234948
申请日：2015-12-01
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】耐熱性長尺樹脂フィルムに作用する熱負荷が増大してもフィルム皺の発生が回避される真空成膜装置(成膜方法)を提供する。 【解決手段】冷却キャンロール56とこの外周面に沿って配置された熱負荷を伴うマグネトロンスパッタリングカソード(成膜手段)57-60と前フィードロール55を備え、ロールツーロールにより搬送される長尺樹脂フィルム52が前フィードロールを介し冷却キャンロールに巻き付けられると共に長尺樹脂フィルムの表面側に成膜処理を行う真空成膜装置(方法)であって、冷却キャンロール56の外周面が軸方向中央部より軸方向両端部が低いクラウン状に形成され、かつ、上記前フィードロール55の外周面に対し接離可能に制御されたニップロール65が付設されていることを特徴とする。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6070455B2
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：JP2013150159
申请日：2013-07-19
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
IPC: C23C14/56
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公开(公告)号：JP2016188412A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：JP2015069300
申请日：2015-03-30
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】サンプル基準が無くてもインライン反射率測定器を用いて金属吸収層の成膜条件を正確に制御可能な成膜方法を提供する。 【解決手段】この成膜方法は、長尺フィルムの金属層上に膜厚と反応条件が異なる反応性スパッタリングにより成膜された複数サンプル用金属吸収層の分光反射率特性を反射率測定器で測定しかつサンプル毎に反射率極小値の波長と極大値/極小値の比を特定するデータ収集工程と、収集された数値群から目標とする金属吸収層の波長λと比αを特定しかつ分光反射率を測定しながら波長λと比αに設定できる成膜初期条件を設定する工程と、該条件に従い金属層上に連続成膜される金属吸収層の分光反射率を上記反射率測定器により継続して測定しかつ波長λと比αが維持されるように反応性ガスの調整または/およびスパッタリング電力の調整を行う条件維持工程を有することを特徴とする。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够通过使用直列式反射测量仪器即使没有样品参考来精确地控制金属吸收层的沉积条件的沉积方法。解决方案：沉积方法包括：测量光谱的数据采集步骤 通过使用反射测量仪器，多个样品金属吸收层的反射特性，金属吸收层通过反应溅射沉积在长膜的金属层上，并且具有彼此不同的膜厚度和反应条件，并且为每个样品定义， 最小反射率值的波长和最大值与最小值的比值; 从采集的数组中确定靶向金属吸收层的波长λ和比率α，并测量光谱反射率，同时设置能够设定波长λ和比率α的沉积初始条件的步骤; 以及条件维持步骤，通过使用反射测量仪器，根据条件连续测量金属吸收层上的金属吸收层的光谱反射率，并进行反应气体和/或溅射功率的调节，以便保持波长 λ和比例α。选择图：图4
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5892086B2
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：JP2013028641
申请日：2013-02-18
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
IPC: C23C14/56
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公开(公告)号：JP2016020418A
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：JP2014143876
申请日：2014-07-14
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】UV−A(320〜400nm)波長域における紫外線遮蔽効果が高く、触媒活性が抑制されて日焼け止め等の原料に利用できる紫外線遮蔽性粉末(紫外線カットパウダー)とその製造方法を提供すること。 【解決手段】UV−B(280〜320nm)波長域に紫外線遮蔽効果を有する酸化ニッケル、酸化錫から選択された平均粒径10〜500nmの微粒子から成る微粒子基材50と、上記UV−A波長域に紫外線遮蔽効果を有する二酸化チタン、酸化亜鉛ZnO、酸化セリウムから選択されかつ微粒子基材50を覆う被覆層51と、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムから選択されかつ上記被覆層を覆う被覆処理層52とで構成され、上記被覆層と被覆処理層が原子層堆積法(ALD法)により成膜された1層以上の原子層でそれぞれ構成されていることを特徴とする。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供在UV-A（320-400nm）波长范围内具有高紫外线屏蔽效果的紫外线屏蔽粉末（紫外线切割粉末），可用于防晒剂等的原料 由于抑制催化活性及其制造方法。紫外线屏蔽粉末由选自氧化镍和氧化锡的平均粒径为10〜500nm的细颗粒构成的微粒基板50构成， 在UV-B（280〜320nm）波长范围内的紫外线屏蔽效果，在UV-A波长范围内具有紫外线屏蔽效果的二氧化钛，氧化锌ZnO和氧化铈的涂层51， 细颗粒基板50和涂覆处理层52，其中涂覆处理层52选自二氧化硅和氧化铝，并涂覆涂层。 涂层和涂层处理层由通过原子层沉积法（ALD法）沉积的一个或多个原子层构成。选择的图：图2
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公开(公告)号：JP2016009285A
公开(公告)日：2016-01-18
申请号：JP2014128876
申请日：2014-06-24
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】高輝度照明下において電極等の回路パターンが視認され難く、入射光の入射角度が大きくなっても視認され難い電極基板フィルムとその製造方法を提供する。 【解決手段】樹脂フィルムから成る透明基板と、該透明基板の少なくとも片面に設けられかつ金属製細線から成るメッシュ構造の回路パターンを具備する電極基板フィルムであって、複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した錐状突起群により構成される反射防止構造体部が上記透明基板の少なくとも片面に設けられ、かつ、上記反射防止構造体部上に線幅20μm以下の金属製細線で構成される回路パターンが設けられている。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种在高亮度照度下几乎不可视觉识别电极等的电路图案的电极基板膜，即使入射光的入射角度增大也难以视觉识别，并且 其制造方法。电解质膜包括由树脂膜构成的透明基材和设置在透明基材的至少一个表面上并由金属细线组成的网状结构的电路图案。 在透明基板的至少一个表面上设置由以矩阵状设置多个锥形突起而形成的锥形突起组构成的抗反射结构。 在防反射结构上设置由线宽为20μm以下的金属细线构成的电路图案。
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公开(公告)号：JP2016008318A
公开(公告)日：2016-01-18
申请号：JP2014128662
申请日：2014-06-23
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
IPC: C23C14/34
Abstract: 【課題】 長時間にわたって連続的に使用しても閉塞しにくく且つコンパクトな構造のガス放出パイプを提供する。 【解決手段】 スパッタリング成膜装置10の真空チャンバー11内に取り付けられ、反応性ガスを放出する複数のガス放出孔31を有するガス放出パイプ30であって、複数のガス放出孔31の各々は、その入口側から出口側に向かって段階的に拡径する構造を有しており、且つその中心軸Oを通る面で切断した断面形状において、最も内径が小さい部分31bの出口側端部Ebと2番目に内径が小さい部分31aの出口側端部Eaとを結んだ直線Cと中心軸Oとのなす角αが15°以上45°以下である。 【選択図】 図7
Abstract translation: 要解决的问题：提供即使长时间连续使用也难以闭合的气体排出管，并且也具有紧凑的结构。解决方案：提供一种气体排出管30，其装配在溅射的真空室11中 膜沉积装置10，具有用于排出反应性气体的多个气体排出孔31，其中多个气体排出孔31从入口侧到出口侧逐渐增大直径，并且包含在中心 并且连接具有最小内径的部分31b的出口侧端部Eb和具有第二小内径的部分31b的直线为15-45°，剖面形状通过中心轴线的平面切割 O.
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公开(公告)号：JP2015081373A
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013220243
申请日：2013-10-23
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】両面に金属膜が成膜された直後における長尺体を巻き取った際、金属膜同士が貼り付いてしまうブロッキング現象が起こり難い両面成膜方法と両面成膜装置を提供する。 【解決手段】ロール・ツー・ロールで搬送される長尺体F両面に減圧下で金属膜を成膜する両面成膜方法において、第一スパッタリング手段により長尺体の一方の面に金属膜を成膜する第一成膜工程と、第二スパッタリング手段により長尺体の他方面に金属膜を成膜する第二成膜工程と、上記金属膜上に原子層堆積(Atomic Layer Deposition:ALD)法にて金属酸化物膜若しくは金属窒化物膜から成るブロッキング防止層を形成する第三成膜工程と、ブロッキング防止層が形成された長尺体を巻き取りロールに巻き取る巻き取り工程を具備し、上記第一成膜工程、第二成膜工程および第三成膜工程を連続して行なうことを特徴する。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于双面胶片沉积的方法和装置，其防止金属膜粘附在一起的阻塞现象，当在两面上沉积金属膜之后立即滚动长体时。本发明的方法 在低压气氛中通过辊对辊输送的长体两侧沉积金属膜的双面沉积包括：通过第一次溅射在金属膜的一个表面上沉积金属膜的第一沉积步骤 手段; 第二沉积步骤，通过第二溅射装置在所述长体的另一个表面上沉积金属膜; 以及通过原子层沉积（ALD）法在金属膜上形成由金属氧化物膜或金属氮化物膜构成的阻挡层的第三沉积步骤; 以及轧制其上形成有阻挡层的长体并将其卷绕在卷取卷轴上的轧制步骤。 第一沉积步骤，第二沉积步骤和第三沉积步骤是连续执行的。
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