-
-
公开(公告)号：JP2016164296A
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2015044913
申请日：2015-03-06
Applicant: コニカミノルタ株式会社
IPC: B32B9/00 , C23C16/505
Abstract: 【課題】本発明の課題は、ガスバリアー性及び色味が良好なガスバリアー性フィルムの製造方法及び製造装置を提供することである。 【解決手段】本発明のプラズマCVD法を用いたガスバリアー性フィルムの製造方法は、少なくとも、連続して搬送される基材上に、プラズマCVD法によりガスバリアー層を形成する工程を有し、ガスバリアー層を形成する工程では、原料ガスの供給量を、成膜ローラーを通過する基材の面積速度1m 2 /min.あたり、2.0〜70.0sccm(0℃、1atm)の範囲内とし、かつ、投入する電力密度を10.0〜80.0kW/m 2 の範囲内とすることを特徴とする。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供具有优异的阻气性和色调的阻气膜的制造方法和制造装置。解决方案：根据本发明的用于制造阻气膜的CVD方法的制造方法具有 通过等离子体CVD法在连续转印的基板上形成阻气层的工序。 在形成阻气层的过程中，原料气体的供给量在通过膜沉积的基板的每1m / min的面积速率为2.0-70.0sccm（0℃，1atm）的范围内 辊，输入的功率密度在10.0-80.0 kW / m的范围内。选择图：图1
-
公开(公告)号：JPWO2017099239A1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2016086801
申请日：2016-12-09
Applicant: コニカミノルタ株式会社
Abstract: 【課題】ガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア性および湿熱耐性を向上させるとともに、工程適性をも向上させうる手段を提供する。 【解決手段】樹脂基材の少なくとも一方の面に、互いに隣接する下地層およびガスバリア層がこの順に配置されてなるガスバリア性フィルムにおいて、前記ガスバリア層の平均組成をSiO x C y (xおよびyは化学量論係数)で表したときに、yを0.40
【選択図】なし-
公开(公告)号：JP2016145649A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2013110536
申请日：2013-05-27
Applicant: コニカミノルタ株式会社
CPC classification number: F26B13/10 , B05C9/14 , B05D3/0254 , F26B25/006 , F26B3/30 , B05D1/26 , B05D2252/02
Abstract: 【課題】乾燥の均一性を向上させる。 【解決手段】乾燥装置1Aは、搬送される基板f1上の塗布膜と対面し、当該塗布膜からの溶媒の蒸気を凝縮して乾燥する凝縮板11と、基板f1を介して凝縮板11と対向する位置に配置され、基板f1を加熱する1又は複数の加熱装置12と、を備えている。乾燥装置1Aは、基板f1上の塗布膜の温度が段階的に上昇するように、加熱装置12により加熱する。1又は複数の加熱装置12は、基板f1との距離が基板f1の搬送方向yにおいて段階的に短くなるように、基板面に対して傾斜して配置されている。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提高干燥的均匀性。方案：干燥装置1A包括冷凝板11，冷凝板11面向要运输的基板f1上的施加膜，并将来自施加膜的溶剂的蒸汽冷凝以干燥蒸汽，以及一个或 多个加热装置12以与基板f1插入的方式配置在与冷凝板11相对的位置，并加热基板f1。 干燥装置1A利用加热装置12进行加热，使得基板f1上的涂布膜的温度逐步增加。 一个或多个加热装置12相对于基板表面倾斜地布置，使得与基板f1的距离在基板f1的输送方向y上逐步缩短。图1
-
公开(公告)号：JP2016145648A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2013110533
申请日：2013-05-27
Applicant: コニカミノルタ株式会社
IPC: F26B13/04
Abstract: 【課題】凝縮乾燥の乾燥効率の低下を抑え、塗布膜の故障を減らす。 【解決手段】基板f1上の塗布膜と対面する凝縮板11を備え、当該凝縮板11により塗布膜からの溶媒の蒸気を凝縮して乾燥する乾燥装置1であって、塗布膜は、シラン系ガスを発生させるケイ素化合物を含有し、凝縮板11の乾燥前に、塗布膜から発生するシラン系ガスを回収する回収手段として、基板f1上の塗布膜と対面して配置される平面状の回収部材13を備えている乾燥装置1。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：为了抑制冷凝干燥中的干燥效率的降低，并降低涂布膜的破坏。解决方案：提供一种干燥装置1，其包括在基板f1上面向施加膜的冷凝板11，并将蒸汽 的溶剂从具有冷凝板11的应用膜中干燥蒸汽。 应用膜含有生成硅烷气体的硅化合物。 干燥装置1还包括平面回收构件13，其以基板f1上的施加膜的方式布置，作为用于在用冷凝板11干燥之前回收从施加膜产生的硅烷气体的回收装置。选择的图示：图1
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5929775B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2013023844
申请日：2013-02-08
Applicant: コニカミノルタ株式会社
IPC: B32B9/00
-
-
-
-
公开(公告)号：JPWO2016159206A1
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：JP2017510168
申请日：2016-03-31
Applicant: コニカミノルタ株式会社
Abstract: 本発明の課題は、ガスバリアー性能、屈曲耐性及び密着性に優れたガスバリアーフィルム及びその製造方法を提供することである。本発明のガスバリアーフィルムは、可撓性基材上にガスバリアー層を有するガスバリアーフィルムであって、当該ガスバリアー層が、下記要件(1)及び(2)を満たすことを特徴とする。(1)前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素、酸素及び炭素を構成元素として含有する。(2)前記ガスバリアー層中の酸素量に対する炭素量の比の値を厚さ方向にプロットした炭素/酸素分布曲線が極大値を有し、前記極大値の数と前記ガスバリアー層の厚さとの比率が0.10/nm以上である。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.023 seconds)
