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公开(公告)号：JP2017155286A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016039545
申请日：2016-03-02
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】真空チャンバー内における長尺樹脂フィルムの安定した搬送が可能な処理装置を提供する。 【解決手段】長尺樹脂フィルムFを巻き付けるキャンロール58とその前段又は後段のモーター駆動のフィードロール56、64とを備えた処理装置であって、キャンロール58はその外周肉厚部に回転軸方向に延在する複数のガス導入路13が周方向に均等に配設されており、各ガス導入路13は外周面側で等間隔に開口する複数のガス放出孔14を有しており、長尺樹脂フィルムFが巻き付けられるラップ部Aの角度範囲内に位置するガス導入路13群にのみガスを供給するガスロータリージョイント15を備えており、長尺樹脂フィルムFの搬送の開始又は停止の信号に基づいて選択されたキャンロール58又はフィードロール56、64によって長尺樹脂フィルムFの搬送制御を行う搬送制御手段が設けられている。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017043822A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015169199
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
IPC: C23C14/56
Abstract: 【課題】 真空チャンバー内の放出ガス用ガス溜め空間に該真空チャンバーの外部からガスを供給する際に安定してガスを供給することが可能なガス供給手段を提供する。 【解決手段】 真空チャンバー51内に設けたガスロータリージョイント20のガス分配路25のような放出ガス用ガス溜め空間に真空チャンバー51の外部からガスを供給するガス供給手段であって、所定の流量でガスが流れるように流量制御される主供給系31と、該主供給系31の最大設計流量以下の最大設計流量を有する副供給系32との少なくとも2つの供給系からなり、副供給系32では該ガス溜め空間のガス圧が一定になるように流量制御される。 【選択図】 図9
Abstract translation: 的气体供给装置，它能够在真空室中的空间供应从真空室的外部的放电气体气体气体贮存时提供一个稳定的气体。 本发明涉及一种气体供给装置，用于诸如在真空腔室51，以预定的流速提供的气体的气体分配通路25的旋转接头20从真空室51，以释放气体的气体存储空间，的外部供给的气体 在主供给系统31，其流量来控制流过的气体由至少两个供给系统和具有主供应系统31以下的最大设计流量最大设计流量的辅助电源系统32的，在副供给系统32 在气体贮存器空间的气体压力流量控制为恒定。 9系统技术领域
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公开(公告)号：JP6048602B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2016028608
申请日：2016-02-18
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2016188413A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：JP2015069301
申请日：2015-03-30
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】サンプル基準が無くてもインライン反射率測定器を用いて金属吸収層の成膜条件を正確に制御可能な成膜方法を提供する。 【解決手段】この成膜法は、金属メッキが施されたキャンロール等ロールの外周面上にて測定された長尺フィルムの分光反射率特性を反射率基準とする工程、膜厚と反応条件が異なるスパッタリング成膜で得られた複数サンプル用金属吸収層の分光反射率特性と上記反射率基準から各相対分光反射率特性を求めかつ「反射率極大値の波長−反射率極小値の波長」と「反射率極大値−反射率極小値」の差分値群を得る工程、差分値群から目標とする金属吸収層の差分値(λ、α)を特定し分光反射率を測定しながら上記差分値(λ、α)に調整できる初期条件を設定する工程と、設定された差分値(λ、α)が維持されるように反応性ガスの調整、スパッタリング電力の調整を行う工程を有することを特徴とする。 【選択図】図6
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种即使没有样品参考，也可以通过使用直列式反射测量仪器来精确地控制金属吸收层的沉积条件的沉积方法。解决方案：沉积方法包括：设置光谱反射率特性 作为反射参考，在诸如罐辊之类的金属镀覆辊的外周表面上测量的长膜; 从反射率基准求出各自的相对光谱反射率特性和通过反应溅射沉积形成的多个样品金属吸收层的各自的光谱反射率特性，并且具有彼此不同的膜厚度和反应条件的步骤，并获得“ 最小反射率值的波长 - 最小反射率值的波长“和”最大反射率 - 最小反射率值“。 从差分值组定义靶向金属吸收层的微分值（λ，α），并测量光谱反射率，同时设定能够调节差分值（λ，α）的初始条件的步骤。 以及执行反应气体和溅射功率的调整以维持设定的差分值（λ，α）的步骤。选择图：图6
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18.发明专利
公开(公告)号：JP5929835B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2013112937
申请日：2013-05-29
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
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公开(公告)号：JP2016084546A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：JP2016028608
申请日：2016-02-18
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】真空成膜装置の真空チャンバー内に組み込まれ、長尺樹脂フィルム13の幅方向両端における各端部位置と該フィルムに形成された薄膜の幅方向両端における各端部位置を正確に測定できる位置センサーロールを提供する。 【解決手段】真空チャンバー内に設けられた冷却キャンロール10の下流側に配置される後フィードロール12が、長尺樹脂フィルムの成膜面が外周面に接する円筒状本体と、円筒状本体外周面における上記フィルムの幅方向両端近傍に対応する部位に開設された一対の開口部(スリット)14、15と、円筒状本体内における上記スリットに対応する部位に設けられかつスリットへ向け光を照射する発光部とスリットからの反射光が入射される受光部を有するセンサーヘッドを具備する位置センサーロール12により構成されることを特徴とする。 【選択図】図3
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种内置在真空成膜装置的真空室中的位置传感器辊，其精确地测量长树脂膜13的宽度方向上两端的各端部的位置，以及 在长的树脂膜上形成的薄膜的宽度方向上的两端部的各端部的位置。解决方案：设置在冷却罐辊10的下游侧的后感光辊12（位置传感器辊12） 真空室具有圆筒体，其具有与外周面相接触的沉积面，设置在对应于膜的宽度方向上的两端附近的位置的一对开口（狭缝）14和15， 圆筒体，以及具有发光部的传感器头，该发光部设置在与向筒体内的狭缝发光的狭缝对应的部分中，以及从狭缝入射的反射光入射的受光部。 G：图3
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公开(公告)号：JP2016079494A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：JP2014215190
申请日：2014-10-22
Applicant: 住友金属鉱山株式会社
Inventor： 大上 秀晴
Abstract: 【課題】簡略化された構造を有し冷却効果の高いガス放出機構を有すると共にガス漏れを抑制できるキャンロールと該ロールを用いた長尺基板処理装置、長尺基板処理方法を提供すること。 【解決手段】このキャンロールは、非回転軸76と、ガス放出孔73が設けられた円筒部を有し非回転軸に回転可能に装着されたキャンロール本体71と、長尺基板が巻き付けられる領域の円筒部内周面近傍に配置され非回転軸に設けられた配管80を介し冷媒が供給されるクライオ冷却パネル84と、非回転軸に設けられ円筒部の内側空間にガスを放出するガス導入管81と、長尺基板が巻き付けられない領域の円筒部内周面と接するように配置され長尺基板が巻き付けられない角度範囲のガス放出孔を閉止するガス放出防止部材72と、キャンロール本体を回転駆動する駆動手段を具備することを特徴とする。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种具有简化结构和高冷却效果的气体释放机构的罐辊，并且可以抑制气体泄漏，并且提供使用罐辊的冗长的基板处理装置和冗长的基板处理方法。 解决方案：罐头辊包括：非旋转轴76; 具有带有气体释放口73的圆筒形部分并可旋转地安装在非旋转轴上的罐头辊体71; 低温冷却板84，其布置在圆筒形部分的内周边缘处，该区域具有缠绕在其周围的长度基底，并通过安装在非旋转轴上的管道80供应冷却剂; 气体引入管81，其安装在非旋转轴上并将气体释放到圆筒部的内部空间中; 气体释放防止构件72，其布置成在该区域中与圆筒形部分的内周接触，而不会缠绕在其周围的长度基底，并且在与该区域相对应的角度范围内关闭气体释放口，而不会缠绕长度基底 一样; 以及执行罐辊体的旋转驱动的驱动装置。选择图：图1
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