公开(公告)号：JP6317171B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2014091507

申请日：2014-04-25

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 新海 健史 ,  曽根 忠一 ,  相澤 英夫 ,  青野 弘 ,  横山 俊夫

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304 ,  B24B37/10 ,  B66F3/08

公开(公告)号：JP6306927B2

公开(公告)日：2018-04-04

申请号：JP2014083500

申请日：2014-04-15

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 小寺 剛 ,  曽根 忠一 ,  牛丸 誠也 ,  田中 智裕

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  H01L21/677

公开(公告)号：JP2018001386A

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：JP2016135832

申请日：2016-07-08

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 外崎 宏 ,  斎藤 賢一郎 ,  曽根 忠一

IPC: B25B33/00

Abstract: 【課題】ターンテーブルからクロスを容易に剥離することができるターンテーブル用クロスの剥離治具を提供する。 【解決手段】ターンテーブル用クロスの剥離治具10は、筒形状を有し、その外周に当該筒の軸線方向に延びるスリットが形成された巻取シリンダ11と、巻取シリンダ11の内部に配置され、スリットに挿入されるクロスの外周縁を挟持するクロス挟持部材12と、巻取シリンダ11の一端部に同軸状に延びるように取り付けられた延長バー13と、延長バー13の先端部に設けられ、巻取シリンダ11を回転させるための回転治具15と係合する係合部14と、係合部14に設けられ、回転治具15を回転させる際に巻取シリンダ11を支持するための持ち手16と、を備える。 【選択図】 図1

公开(公告)号：JP6190286B2

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：JP2014026578

申请日：2014-02-14

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 曽根 忠一 ,  小菅 隆一 ,  牛丸 誠也 ,  田中 智裕

IPC: B24B49/12 ,  H01L21/304 ,  B24B37/30

公开(公告)号：JP5911786B2

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：JP2012240394

申请日：2012-10-31

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 梅本 正雄 ,  江里口 正晃 ,  曽根 忠一 ,  相澤 英夫 ,  小菅 隆一

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/34

公开(公告)号：JP5844163B2

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：JP2012003870

申请日：2012-01-12

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 小菅 隆一 ,  曽根 忠一

IPC: B24B55/00 ,  H01L21/304 ,  B24B37/34

CPC classification number: B24B55/00 ,  B24B37/04 ,  B24B53/017

公开(公告)号：JP2015193055A

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：JP2014072227

申请日：2014-03-31

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 新海 健史 ,  曽根 忠一 ,  相澤 英夫 ,  青野 弘

IPC: H01L21/304 ,  B23Q11/08 ,  B24B55/06

CPC classification number: B24B37/34 ,  B24B53/017

Abstract: 【課題】研磨液が固着しにくいカバーを提供する。 【解決手段】基板を研磨するための研磨装置の構成部品用のカバー70は、構成部品の本体としてのドレッサアーム本体60とカバー70とを係止するための係止機構であって、カバー70の内部に設けられた係止機構を備える。外部に露出されるカバー70の外表面は、凹部を有しておらず、カバー70の頂部を除いて、水平面を有していない。 【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种使抛光液不太可能粘附的盖。解决方案：用于抛光装置的部件的盖70用于抛光基板，并且包括用于接合修整器主体60的接合机构 用作具有盖70的构件体，接合机构设置在盖70中。盖70的暴露于外部的外表面不具有凹部和水平表面，除了顶部以外 盖70。

公开(公告)号：JP2021146498A

公开(公告)日：2021-09-27

申请号：JP2021002919

申请日：2021-01-12

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 森浦 拓也 ,  寺田 哲也 ,  外崎 宏 ,  曽根 忠一 ,  伊藤 雅佳 ,  小畠 厳貴 ,  松尾 尚典

IPC: B24B55/06 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  B24B37/00

Abstract: 【課題】安定したスラリーの供給を行い、かつ、研磨液の使用量の削減が可能であり、かつ、使用済みの研磨液及び副生成物が、基板の品質及び/又は研磨レートに与える影響を抑制ないし防止可能な研磨液供給装置を提供すること。 【解決手段】研磨面を有する研磨パッド使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、研磨液供給装置41と、前記研磨面に対して水平移動可能なアーム60と、前記アームを昇降する昇降機構70と、前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構45と、前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構46と、を備える研磨装置。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6923342B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2017078060

申请日：2017-04-11

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 外崎 宏 ,  曽根 忠一

IPC: B24B53/007 ,  B24B49/14 ,  H01L21/304 ,  B24B37/015

公开(公告)号：JP6774238B2

公开(公告)日：2020-10-21

申请号：JP2016135947

申请日：2016-07-08

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 外崎 宏 ,  斎藤 賢一郎 ,  曽根 忠一

IPC: B25B33/00