公开(公告)号：JP6413978B2

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：JP2015164115

申请日：2015-08-21

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 新妻 直人 ,  大屋 秀信 ,  山内 正好 ,  小俣 猛憲 ,  鈴木 圭一郎

IPC: B05D7/24 ,  H05K3/10 ,  H05K3/18 ,  B05D5/06

公开(公告)号：JP6413712B2

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：JP2014244351

申请日：2014-12-02

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 新妻 直人 ,  大屋 秀信 ,  山内 正好

IPC: B05C9/14 ,  B05C5/00 ,  B05C9/06

公开(公告)号：JPWO2017056978A1

公开(公告)日：2018-07-19

申请号：JP2016077024

申请日：2016-09-13

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 小俣 猛憲 ,  大屋 秀信 ,  新妻 直人 ,  山内 正好 ,  鈴木 圭一郎

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14 ,  H05K3/18 ,  G06F3/041 ,  B05D3/00

CPC classification number: G06F3/041 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00 ,  H05K3/10 ,  H05K3/24

Abstract: 本発明は、機能性材料を含有するライン状液体から複数の機能性細線を形成する際、機能性細線の配置間隔を広くしても該機能性細線が視認されにくい機能性細線パターンの形成方法及び機能性細線パターンの提供を課題とし、その課題は、基材1上に、機能性材料を含有するライン状液体を互いに重ならないように複数並列するように付与し、次いで、ライン状液体の乾燥に伴い、ライン状液体の周縁部にそれぞれ機能性材料を選択的に堆積させることにより、2本一組の互いに平行な線分31を有する細線3をそれぞれ形成し、次いで、細線3の一部をそれぞれ除去し、細線3の残存部位によって機能性細線をそれぞれ形成する方法であって、機能性細線の配置間隔を300μm以上750μm未満としたとき、機能性細線の線幅を2μm以上7μm以下とし、配置間隔を750μm以上2.5mm以下としたとき、線幅を2μm以上5μm以下とすることで解決される。

公开(公告)号：JP6160040B2

公开(公告)日：2017-07-12

申请号：JP2012181940

申请日：2012-08-20

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 大屋 秀信 ,  牛久 正幸 ,  山内 正好 ,  新妻 直人

IPC: H01B5/14 ,  H05K3/10

公开(公告)号：JP5927752B2

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：JP2010099554

申请日：2010-04-23

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 金子 学 ,  大屋 秀信

IPC: B41M5/00 ,  B41J2/01 ,  C09D11/322

公开(公告)号：JP6922735B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2017522227

申请日：2016-06-01

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 大屋 秀信 ,  山内 正好 ,  新妻 直人 ,  小俣 猛憲 ,  鈴木 圭一郎

IPC: G06F3/044 ,  G06F3/041

公开(公告)号：JPWO2019163070A1

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：JP2018006595

申请日：2018-02-22

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 牛久 正幸 ,  大屋 秀信 ,  星野 秀樹 ,  山内 正好 ,  小俣 猛憲 ,  新妻 直人 ,  青山 亮 ,  浦山 一歩

IPC: H05K3/10 ,  H05K1/02 ,  H05K3/24

Abstract: 本発明は、パターンの抵抗を低く保持しながらパターンにおける不連続部を簡便に除去できるパターン形成方法を提供することを課題とし、当該課題は、基材1上に導電性材料を含むパターン中間体を印刷する印刷工程と、パターン中間体を電解めっき処理するめっき工程とを少なくとも含み、印刷工程において印刷されるパターン中間体は、めっき工程において通電される被めっき部と、該被めっき部から不連続的に設けられ、めっき工程において通電されない不連続部とを有し、めっき工程において、互いに金属種が異なる2種以上の金属塩と錯化剤とを少なくとも含有するめっき液を用いて電界めっき処理することにより、パターン中間体の不連続部を除去して、めっき皮膜で被覆された被めっき部によって構成されたパターンを形成するパターン形成方法により解決される。

公开(公告)号：JP6665699B2

公开(公告)日：2020-03-13

申请号：JP2016118366

申请日：2016-06-14

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 山内 正好 ,  大屋 秀信 ,  小俣 猛憲 ,  新妻 直人

IPC: B32B7/05 ,  H05K3/10 ,  G06F3/044 ,  G06F3/041

公开(公告)号：JP6652124B2

公开(公告)日：2020-02-19

申请号：JP2017503701

申请日：2016-03-02

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 新妻 直人 ,  大屋 秀信 ,  山内 正好 ,  小俣 猛憲

IPC: B05D3/00 ,  B05D1/26

公开(公告)号：JP6508062B2

公开(公告)日：2019-05-08

申请号：JP2015559153

申请日：2015-01-23

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 新妻 直人 ,  大屋 秀信 ,  山内 正好

IPC: B05D5/12 ,  H01B13/00 ,  H01B5/14 ,  H05K3/10 ,  B05D1/26