複合基板およびその製造方法
    53.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021163932A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2020067086

    申请日:2020-04-02

    Abstract: 【課題】 高温・低温に晒しても、クラックが生じずに、特性の劣化を防ぐことができる複合基板およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の複合基板10は、支持基板2と、応力緩和介在層3と、酸化物単結晶薄膜1とが順に積層されており、応力緩和介在層3は、支持基板2と酸化物単結晶薄膜1との間の熱膨張係数を有する。 【選択図】 図1

    徐放性フェロモン製剤及びこれを用いた害虫の防除方法

    公开(公告)号:JP2021161058A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2020063121

    申请日:2020-03-31

    Inventor: 左口 龍一

    Abstract: 【課題】害虫の発生期間を通じて、対象害虫が有する性フェロモン物質の混合比で圃場フェロモン濃度を保つことができる徐放性製剤の提供。 【解決手段】質量比0.5:99.5から99.5:0.5の範囲で、それぞれの総炭素数が等しい、炭素−炭素二重結合を一つ有する第1不飽和脂肪族アセテ−ト化合物及び炭素−炭素二重結合を二つ有する第2不飽和脂肪族アセテ−ト化合物を少なくとも含む混合物と、前記混合物を封入する、下記繰り返し単位(I)から選ばれる1種以上を含む直鎖状脂肪族ポリエステルの膜を少なくとも一部に含む容器とを備える徐放性フェロモン製剤。 【選択図】なし

    紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物

    公开(公告)号:JPWO2020105365A1

    公开(公告)日:2021-10-07

    申请号:JP2019041891

    申请日:2019-10-25

    Abstract: (A)式(1) (R 1 はC 1-20 の一価炭化水素基、R 2 は酸素原子等、R 3 はアクリロイルオキシアルキル基等、pは0〜10、aは1〜3を満たす数を表す。) で示される基を1分子中に2個有するオルガノポリシロキサン (B)シロキサン構造を含まない単官能(メタ)アクリレート化合物 (C)(a)式(2) (R 1 、R 2 、R 3 、aおよびpは上記と同じ) で示される単位、(b)R 4 3 SiO 1/2 単位(式中、R 4 は、炭素原子数1〜10の一価炭化水素基を表す。)および(c)SiO 4/2 単位からなり、(a)単位および(b)単位の合計と(c)単位とのモル比が0.4〜1.2:1の範囲にあるオルガノポリシロキサンレジン (D)光重合開始剤 を含有し、非架橋性のオルガノポリシロキサンレジンを含まない組成物は、仮固定材として優れた粘着性および弾性率を有する硬化物を与える。

    ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法

    公开(公告)号:JP2021155373A

    公开(公告)日:2021-10-07

    申请号:JP2020059025

    申请日:2020-03-27

    Abstract: 【課題】本発明は、ジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物のアルコキシメチル基の脱保護を抑制し、アセタールのみを選択的に加水分解させて、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を高純度かつ高収率で製造することを目的とする。 【解決手段】本発明は、一般式(1)、R 3 CH 2 OCH 2 O(CH 2 ) a CH=CHCH(OR 1 )(OR 2 ) (1)、(式中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して炭素数1〜15の一価の炭化水素基、又はR 1 とR 2 が互いに結合したR 1 −R 2 として炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、R 3 は水素原子、炭素数1〜9のn−アルキル基、又はフェニル基を表し、aは、1〜10の整数を表す。)で表されるジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、一般式(2)、R 3 CH 2 OCH 2 O(CH 2 ) a CH=CHCHO (2)(式中、R 3 及びaは、上記で定義した通りである。)で表される、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)を製造する方法を提供する。 【選択図】なし

    シリコーン樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料

    公开(公告)号:JP2021526180A

    公开(公告)日:2021-09-30

    申请号:JP2020566853

    申请日:2019-05-28

    Abstract: 下記組成式(1) (式中、R 1 は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基及び炭素数1〜8のフッ素置換アルキル基から選ばれる、フェニル基以外の基であり、R 2 及びR 3 は独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基及び炭素数1〜8のフッ素置換アルキル基から選ばれる基であり、aは0〜0.2、bは0.1〜0.5、cは0〜0.2、dは0.01〜0.5、eは0〜0.6の数であり、a+b+c+d+eは1.0である。ただし、R 1 〜R 3 、a〜eは、分子中に1つ以上のフェニル基を有するように選択される。) で表され、重量平均分子量が1,000〜8,000であるシリコーン樹脂であって、このシリコーン樹脂から形成された被膜の屈折率が1.48以上であるシリコーン樹脂。

    有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び有機膜形成用化合物

    公开(公告)号:JP2021152639A

    公开(公告)日:2021-09-30

    申请号:JP2021015285

    申请日:2021-02-02

    Abstract: 【課題】空気中のみならず、不活性ガス中での成膜条件でも硬化し、耐熱性や、基板に形成されたパターンの埋め込みや平坦化特性に優れるだけでなく、基板への密着性が良好な有機膜を形成できる有機膜形成用化合物、及び該化合物を含有する有機膜形成用材料を提供すること、並びに当該材料を用いた半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、及びパターン形成方法を提供すること。 【解決手段】有機膜形成用材料であって、(A)下記一般式(1A)で示される有機膜形成用化合物、及び(B)有機溶剤を含有するものであることを特徴とする有機膜形成用材料。 【化1】 (式中、W 1 は4価の有機基であり、n1は0または1の整数を表し、n2は1から3の整数を表し、R 1 は炭素数2〜10のアルキニル基を表す。) 【選択図】なし

    皮膜形成性シリコーン組成物およびその製造方法

    公开(公告)号:JP2021152122A

    公开(公告)日:2021-09-30

    申请号:JP2020053454

    申请日:2020-03-24

    Abstract: 【課題】残留する芳香族炭化水素溶剤の含有量を低減した、MQレジンを含むシリコーン組成物、及びその製造方法の提供。 【解決手段】下記(A)〜(C)成分(A)末端に水酸基を有するポリジオルガノシロキサン(A)と(B)成分の合計100質量部に対し20〜80質量部(B)R 1 3 SiO 0.5 単位およびSiO 2 単位を含有し、R 1 3 SiO 0.5 単位/SiO 2 単位のモル比が0.6〜1.7であり、芳香族炭化水素溶剤中にて製造されたポリオルガノシロキサン樹脂(前記R 1 は、炭素数1〜10の1価炭化水素基である)(C)常圧で150℃〜200℃の範囲にある沸点を有する揮発性シリコーン(A)及び(B)の100質量部に対して25〜900質量部を含むシリコーン組成物であり、該シリコーン組成物における芳香族炭化水素を減圧留去することで含有量が0〜100重量ppmとする。 【選択図】なし

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