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公开(公告)号：JP2018170086A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017064492
申请日：2017-03-29
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/32412 , H01J37/3171 , H01J37/3233 , H01J37/32422 , H01L21/2236
Abstract: 【課題】幅広いビーム条件に対応可能なプラズマシャワー装置を提供する。 【解決手段】イオン注入装置は、ウェハに照射されるイオンビームBに電子を供給するよう構成されるプラズマシャワー装置60を備える。プラズマシャワー装置60は、イオンビームBに供給される電子が引き出される引出開口64を有するプラズマ生成室62と、引出開口64と連通する開口74を有し、プラズマ生成室62の電位を基準として第1電圧が印加される第1電極71と、イオンビームBを挟んで第1電極71と対向する位置に配置され、プラズマ生成室62の電位を基準として第2電圧が印加される第2電極72と、第1電圧および第2電圧をそれぞれ独立に制御してプラズマシャワー装置60の動作モードを切り替える制御部86と、を含む。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6410689B2
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：JP2015156435
申请日：2015-08-06
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H01J37/317 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67778 , C23C14/48 , H01J2237/184 , H01J2237/20207 , H01J2237/204 , H01J2237/31701 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67213 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/67766 , H01L21/68 , H01L21/68764
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公开(公告)号：JP2018147821A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2017043978
申请日：2017-03-08
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/32559 , C23C14/48 , H01J37/3171 , H01J37/32366 , H01J2237/038
Abstract: 【課題】汚染粒子の堆積による絶縁性能の低下を抑制することが可能な絶縁構造を提供する。 【解決手段】イオン注入装置の真空領域内部に設けられる電極を他の部材から絶縁して支持する絶縁構造において、第1絶縁部材32は、電極を支持する。第2絶縁部材34は、第1絶縁部材32への汚染粒子18の付着を減らすために第1絶縁部材32に嵌合される。第2絶縁部材34は、第1絶縁部材32よりも硬度が低い材料で形成される。第2絶縁部材34の外表面のビッカース硬さは、5GPa以下である。第2絶縁部材34の曲げ強度は100MPa以下である。第2絶縁部材34は、窒化ホウ素と多孔質セラミックと樹脂との少なくともひとつを含む材料から形成される。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP2018110088A
公开(公告)日：2018-07-12
申请号：JP2017000903
申请日：2017-01-06
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
Inventor： 佐々木 玄
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H05H7/001 , H05H9/041 , H05H15/00 , H05H2277/12
Abstract: 【課題】線形加速器のレンズパラメータを高精度で迅速に調整する。 【解決手段】イオン注入装置は、複数段の高周波共振器と、複数段の収束レンズとを含む多段線形加速ユニット110と、多段線形加速ユニット110の途中に設けられ、ビーム軌道Zの中心付近のビーム部分を通過させる一方、ビーム軌道Zの中心付近の外側で電極体164に遮蔽される別のビーム部分の電流量を計測するよう構成される第1ビーム計測部160と、多段線形加速ユニット110の下流に設けられ、多段線形加速ユニット110から出射されるイオンビームの電流量を計測するよう構成される第2ビーム計測部170と、第1ビーム計測部160および第2ビーム計測部170の計測結果に基づいて複数段の収束レンズの制御パラメータを調整するよう構成される制御装置と、を備える。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP6253375B2
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：JP2013248915
申请日：2013-12-02
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/12 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/21 , H01J37/12 , H01J37/3171 , H01J2237/1415 , H01J2237/303 , H01J2237/30477
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6253362B2
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：JP2013240647
申请日：2013-11-21
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/04 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/08 , H01J2237/24535 , H01J2237/304 , H01J2237/30472 , H01J2237/31701
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公开(公告)号：JP2017174506A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016055824
申请日：2016-03-18
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/04 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J37/1474 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/3172 , H01J2237/24535 , H01J2237/30488
Abstract: 【課題】不均一な2次元イオン注入量分布を基板表面に正確に実現する。 【解決手段】イオン注入装置10は、ビームスキャン方向に往復ビームスキャンを提供するビームスキャナ26と、ビームスキャナ26の下流でビームスキャン方向のビーム電流強度分布を測定する第2ビーム計測部50と、制御装置60と、を備える。制御装置60は、所与のスキャン波形のもとで第2ビーム計測部50により測定される測定ビーム電流強度分布が目標不均一ドーズ量分布に適合するか否かを判定し、適合する場合には、所与のスキャン波形を目標不均一ドーズ量分布に対応づけるスキャン波形作成部を備える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6147177B2
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：JP2013256014
申请日：2013-12-11
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H05H1/46
CPC classification number: H01Q1/40 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01Q1/42 , H01Q1/421 , H01Q7/00 , H05H1/46 , H05H2001/4652 , H05H2001/4667
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公开(公告)号：JP2017091906A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015222862
申请日：2015-11-13
Inventor： KAWAGUCHI HIROSHI
IPC: H01J27/08 , H01J27/06 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3244 , B08B9/08 , H01J37/08 , H01J37/32357 , H01J37/32412 , H01J37/32422 , H01J37/32614 , H01J37/32862 , H01J2237/022 , H01J2237/0492 , H01J2237/055 , H01J2237/3365
Abstract: 【課題】イオン照射装置の生産性向上に役立つイオン生成装置およびその制御方法を提供する。【解決手段】イオン生成装置は、現イオンソース条件および現イオンソース条件の次に運用される新イオンソース条件に従ってガス供給部70およびプラズマ励起源72を制御するよう構成されたイオンソース制御部102と、現イオンソース条件の保持時間を取得する保持時間取得部104と、新イオンソース条件に適する表層領域をプラズマチャンバ内壁に形成するためのプレトリートメントを定めるプレトリートメント条件を、現イオンソース条件、保持時間、および新イオンソース条件に基づいて設定するよう構成されたプレトリートメント条件設定部106と、を備える。イオンソース制御部102は、現イオンソース条件から新イオンソース条件に変更するときプレトリートメント条件にてガス供給部70およびプラズマ励起源72を制御するよう構成されている。【選択図】図6
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公开(公告)号：JP6086819B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2013113474
申请日：2013-05-29
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/147 , H01L21/265 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H05H7/04 , H05H9/045 , H01J2237/1518 , H05H2007/046
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