-
-
公开(公告)号：JP2015085290A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2013227643
申请日：2013-10-31
Applicant: エム・テクニック株式会社
Inventor： 榎村 眞一
Abstract: 【課題】開口部が攪拌性能に及ぼす影響について最適化を図ることができる流体処理装置と流体処理方法の提供を図る。 【解決手段】 乳化、分散或いは混合の流体処理を予定する流体内に配置される処理部1を備える。処理部1は、攪拌室7と、攪拌室7内に配位された回転する攪拌羽根12とを備える。攪拌室12は、流体を内部に導入する導入用の開口部11と、吐出口8を備えたスクリーン9とを有し、攪拌羽根12が回転することによって、開口部11から流体が攪拌室7へ導入され、攪拌羽根12とスクリーン9との間の微小な間隙において行われる流体に対するせん断によって、流体処理がなされる。開口部11の流路断面積を変更する流路調整部20を備え、流路断面積を変更することにより、流体処理後の流体中に含まれる粒子の粒子径を制御する。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够优化通过开口对搅拌性能的影响的流体处理装置和流体处理方法。解决方案：流体处理装置包括设置在流体中的处理部分1，流体处理例如乳化，分散 或混合物。 处理部分1包括搅拌室7和设置在搅拌室7中的旋转搅拌叶片12.搅拌室7具有用于引入流体的引入口11和具有排出口8的筛网9.搅拌叶片12 旋转，以将流体从开口11引入搅拌室7，并且通过在搅拌叶片12和筛网9之间的细小间隙剪切流体来进行流体处理。此外，流体处理装置包括流路调节 用于改变开口11的流路横截面面积的部分20.改变流路横截面面积，以便控制流体处理后的流体中包含的颗粒的粒径。
-
公开(公告)号：JPWO2021131006A1
公开(公告)日：2021-12-23
申请号：JP2019051335
申请日：2019-12-26
Applicant: エム・テクニック株式会社
Inventor： 榎村 眞一
Abstract: 本発明の課題は、反応性のある被処理流動体に対する熱交換の効率を表す総括伝熱係数を上げることに有利な構造を備えたフローリアクターを提供することにある。 内筒(61)と外筒(52)の間に形成される空間内に螺旋状に周回する第一流路(11)と第二流路(21)と第三流路(31)の3つの流路が設けられる。これらは、内側伝熱体(41)と外側伝熱体(51)とによって区画され、これら伝熱体を介して熱交換が行われる。これらの伝熱体は螺旋状に周回し、軸方向断面図において断面形状がネジ形状であり、ネジ状に組み立てられる。オネジ部とメネジ部の形状を変えることにより第一流路(11)の流路面積を変化させると共に、第二流路(21)及び第三流路(31)は螺旋状に形成され、伝熱体を介して熱交換及び反応が行われる。
-
公开(公告)号：JP2021176833A
公开(公告)日：2021-11-11
申请号：JP2021034353
申请日：2021-03-04
Applicant: エム・テクニック株式会社
Abstract: 【課題】主剤の初期放出量とその後の放出期間中の放出速度が適切に制御され、主剤を生体内で一定期間、継続して放出することができるマイクロスフェアーを提供す特性が制御されたケイ素化合物被覆金属微粒子を提供すること。 【解決手段】高分子マトリクス中に主剤が均一に分散されたマイクロスフェアーであって、前記マイクロスフェアーの平均体積基準粒子径が1μm以上150μm以下であり、前記マイクロスフェアーを切断した断面観察試料を作成し、前記断面観察試料をマイクロスフェアー中の主剤を確認できる倍率以上で電子顕微鏡観察し、前記電子顕微鏡断面観察した像を4分割し、分割した各々の領域の領域面積(A)とその領域に含まれる前記主剤の断面積の総和(s)との比率(s/A)×100(%)を算出して、4つの領域における算出された前記比率の変動係数が0.35以下であることを特徴とするマイクロスフェアー。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JPWO2020136923A1
公开(公告)日：2021-11-04
申请号：JP2019007646
申请日：2019-02-27
Applicant: エム・テクニック株式会社
Inventor： 榎村 眞一
Abstract: 新しい構成の連続撹拌装置を提供する。 連続撹拌装置Fは、外壁61と外壁61の内側に配置された内壁10とを同心で有し、外壁61と内壁10とのうち少なくとも一方が他方に対して回転し、外壁61と内壁10との間に形成される処理空間81内に被処理物を通過させ攪拌する。処理空間81に複数のラビリンスシールが敷設され、ラビリンスシールの上流側の被処理物の滞留と、その後の被処理物のラビリンスシールの通過とが繰り返し行われ、被処理物を攪拌するように又は被処理物の滞留時間を制御し攪拌するように構成される。処理空間81は、狭溢なシール空間84とシール空間84の上流側に配置され且つシール空間84よりも広い滞留空間83とを一組として、被処理物の流れの上流から下流にかけてシール空間84と滞留空間83とを複数組連続的に備える。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2021152222A
公开(公告)日：2021-09-30
申请号：JP2021100069
申请日：2021-06-16
Applicant: エム・テクニック株式会社
IPC: B22F1/00 , C01B33/023 , C01B33/12 , B22F1/02
Abstract: 【課題】低エネルギー且つ省資源で、安定的に供給可能なケイ素被覆金属微粒子又はケイ素化合物被覆金属微粒子の製造方法、及びケイ素被覆金属微粒子又はケイ素化合物被覆金属微粒子を提供すること。 【解決手段】少なくとも1種の金属元素又は半金属元素からなる金属微粒子の表面の少なくとも一部がケイ素で被覆されたケイ素被覆金属微粒子であって、上記ケイ素被覆金属微粒子が、当該金属微粒子の前駆体を含む前駆体微粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆されたケイ素化合物被覆前駆体微粒子、又は当該金属微粒子の前駆体を含むケイ素ドープ前駆体微粒子を還元処理したものであることを特徴とするケイ素被覆金属微粒子。 【選択図】図1
-
-
公开(公告)号：JPWO2020213177A1
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：JP2019020976
申请日：2019-05-27
Applicant: エム・テクニック株式会社
Inventor： 榎村 眞一
Abstract: 断続ジェット流の作用により被処理流動体に加えられるせん断をより効率的になし、処理能力の向上を図ることができる攪拌機の提供を図る。 複数の板状の羽根12を備えると共に回転するローター2と、ローター2の周囲に敷設されたスクリーン9とを同芯で備える攪拌機である。スクリーン9は、その周方向に複数のスリット18と、隣り合うスリット18同士の間に位置するスクリーン部材19とを備える。ローター2が回転することによって、被処理流動体がスリット18を通じて断続ジェット流としてスクリーン9の内側から外側に吐出する。羽根12の先端部21における先端作用面30の回転方向の幅(b)は羽根12の基端部32の回転方向の幅(B)に比して小さい。
-
公开(公告)号：JP2021045745A
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：JP2020172773
申请日：2020-10-13
Applicant: エム・テクニック株式会社
IPC: C07C31/12 , C07C27/02 , C07C31/10 , C07C31/125 , C07C69/14 , C07C67/08 , C07C69/618 , C07C67/343 , C07C49/217 , C07C45/74 , C07C49/255 , C08F2/16 , C07D317/12 , C07D317/72 , B01J19/18
Abstract: 【課題】反応の完了に比較的長時間を必要とする有機反応であっても反応時間を十分に確保し高い収率で目的の物質を得ることができる有機化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】有機化合物の製造方法であって、前記製造方法に用いる流体処理装置Fは、相対的に回転する少なくとも二つの処理用面1、2の間で被処理流動体を処理する上流側処理部と、上流側処理部の下流側に配置され、上流側処理部で処理された被処理流動体を滞留させ撹拌する機能を果たす複数のラビリンスシールを設けた下流側処理部とを備え、少なくとも1種類の有機化合物を含有する前記被処理流動体を上流側処理部を通過させることで、被処理流動体に対する上流側処理を行なうとともに、上流側処理が行われた被処理流動体を下流側処理部を通過させることで、上流側処理が行われた被処理流動体に対する下流側処理を行うものであり、上流側処理と下流側処理とを連続して行うことを特徴とする。 【選択図】図12
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
149
records
(took 0.039 seconds)
