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公开(公告)号：JP5663305B2
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：JP2010523971
申请日：2008-08-20
Inventor： フリイス、ヒンドリク ウィレム デ , フリイス、ヒンドリク ウィレム デ
IPC: C23C16/509 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
CPC classification number: C23C16/452 , C23C16/0245 , C23C16/4554
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公开(公告)号：JPWO2017183710A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：JP2017015990
申请日：2017-04-21
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ. , 富士フイルム株式会社
Inventor： ファン シュプレオウェル−ホーセンス キャロリナ アントニア フランシナ マリア , ファン ボクステル ハウベルト アルベルトゥス , クラウトマンス セバスティアヌス ヘラルドゥス ヨハンネス マリア
Abstract: 本発明の課題は、細胞増殖性を有する多孔質ゼラチンシートの製造方法、細胞増殖性を有する多孔質ゼラチンシートおよびその利用を提供することである。本発明によれば、チャンバーを含む多孔質ゼラチンシートであって、上記チャンバーの少なくとも半分は球状であり、および/または、上記チャンバーの少なくとも半分はチャンバーの平均直径の±30%の直径を有し、チャンバーの平均直径が100μm未満であるシートの製造方法が提供される。
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3.发明专利
公开(公告)号：JP5473946B2
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：JP2010545817
申请日：2009-01-22
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： フリース、ヒンドリク ウィレム デ , デ サンデン、マウリティウス コルネリウス マリア ファン
CPC classification number: H05H1/48 , H01L51/5253 , H01L2251/5338 , H05H2001/485 , H05H2240/10
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4.发明专利
公开(公告)号：JP2011514265A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：JP2010545817
申请日：2009-01-22
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： フリース、ヒンドリク ウィレム デ , デ サンデン、マウリティウス コルネリウス マリア ファン
CPC classification number: H05H1/48 , H01L51/5253 , H01L2251/5338 , H05H2001/485 , H05H2240/10
Abstract: 多層スタック構造体（１２）で順に：支持体（６ａ）バリア層（１４）接着剤層（１５）バリア層（１４）支持体（６ｂ）を含む構造体を製造する方法および装置。 この方法は、ａ）単一処理空間（５）に二つの支持体（６ａ、６ｂ）を用意する工程で、この処理空間（５）がこの処理空間（５）内に大気圧グロー放電プラズマを発生するために少なくとも二つの電極（２、３）を含む工程；ｂ）これら二つの支持体（６ａ、６ｂ）の向合う面をこの単一処理空間（５）内で同時に処理する工程；ｃ）この多層スタック構造体（１２）を得るためにこれら二つの処理した面（６ａ、６ｂ）をこれらの向合う面の間の接着剤層（１５）で貼合せる工程を含む。
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公开(公告)号：JP2011512459A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：JP2010547580
申请日：2009-02-10
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： フリース、ヒンドリク ウィレム デ
IPC: C23C16/509 , H01J37/32 , H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32825 , C23C16/402 , C23C16/515 , C23C16/545 , H01J37/32018 , H01J37/32348 , H01J37/32752 , H01L51/0097 , H01L51/5253 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2431 , Y02E10/549 , Y10T428/24355
Abstract: Plasma treatment apparatus for treating a substrate (6, 7) e.g. for deposition of a layer on the substrate (6, 7). Two opposing electrodes (2, 3) and a treatment space (5) are provided. A dielectric barrier (6, 7; 2a, 3a), comprising in operation the substrate, is provided in the treatment space (5) between the at least two opposing electrodes (2, 3) which are connected to a plasma control unit (4). A gap distance (g) is the free distance in the treatment space (5) of a gap between the at least two opposing electrodes (2, 3) in operation. A total dielectric distance (d) is the sum of the dielectric thickness of the dielectric layers (2a, 3a) and the substrate (6, 7). The product of gap distance (g) and total dielectric distance (d) is controlled to a value less than or equal to 1.0 mm 2 .
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Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：JP2010538165A
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：JP2010523971
申请日：2008-08-20
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： フリイス、ヒンドリク ウィレム デ
IPC: C23C16/509 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
CPC classification number: C23C16/452 , C23C16/0245 , C23C16/4554
Abstract: 処理空間の中で基板（６）の表面に原子層を堆積する装置及び方法。 ガス供給デバイス（１５、１６）が、種々のガス混合物を処理空間（１、２）に供給するためにある。 このガス供給デバイス（１５、１６）は、反応表面部位が前駆体材料分子と反応して、その反応部位を介して基板の表面に付着した前駆体分子の単分子層で覆われた表面を得ることができるように、前駆体材料とともにガス混合物を処理空間に供給するように構成される。 その後で、付着した前駆体ｍ分子を反応前駆体部位に変換できる反応剤を含むガス混合物が供給される。 プラズマ発生器（１０）が、反応剤を含むガス混合物中で大気圧プラズマを発生するためにあり、このプラズマ発生器は、処理空間（１、２）から離れて配置される。
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公开(公告)号：JP2011514511A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：JP2010546717
申请日：2009-02-13
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
CPC classification number: A61Q19/00 , A61K8/0208 , A61K8/0216 , A61K8/65 , C08L89/04 , Y10T428/24355 , Y10T428/31507 , Y10T428/31728 , Y10T428/31754
Abstract: 本発明は、化粧品成分及び／又は配合物のｉｎ ｖｉｔｒｏ試験のための皮膚等価物として有用であるシート材料を提供する。 シート材料は、すぐに使用できるようにタンパク質及び湿分調整剤を含む。 シート材料に行うことができる試験は、例えば、メーキャップスミアリング、色評価、日焼け防止指数測定、ＵＶＡ保護、化粧品の耐水性、サンレスタンニングの適用などである。
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公开(公告)号：JP5725865B2
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：JP2010547580
申请日：2009-02-10
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： デ フリース、ヒンドリク ウィレム
IPC: H01J37/32 , H05H1/24 , C23C16/509
CPC classification number: H01J37/32825 , C23C16/402 , C23C16/515 , C23C16/545 , H01J37/32018 , H01J37/32348 , H01J37/32752 , H01L51/0097 , H01L51/5253 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2431 , Y02E10/549 , Y10T428/24355
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9.发明专利
公开(公告)号：JP5597551B2
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：JP2010544903
申请日：2009-01-29
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： アレクサンダー コルンゴルト、ブルーノ , フリース、ヒンドリク ウィレム デ , アルデア、エウゲン
IPC: H05H1/24 , H01J37/32 , H01L21/3065
CPC classification number: H05K3/125 , C23C14/042 , C23C14/562 , C23C16/042 , C23C16/545 , H01J37/3277 , H01J37/32825 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/485 , H05H2240/10 , H05K1/0393 , H05K3/1208 , H05K3/381 , H05K2203/013 , H05K2203/0557 , H05K2203/095 , H05K2203/104 , H05K2203/1173 , H05K2203/1545
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公开(公告)号：JP2011512616A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：JP2010544903
申请日：2009-01-29
Applicant: フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ.
Inventor： アルデア、エウゲン , アレクサンダー コルンゴルト、ブルーノ , フリース、ヒンドリク ウィレム デ
IPC: H05H1/24 , H01J37/32 , H01L21/3065
CPC classification number: H05K3/125 , C23C14/042 , C23C14/562 , C23C16/042 , C23C16/545 , H01J37/3277 , H01J37/32825 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/485 , H05H2240/10 , H05K1/0393 , H05K3/1208 , H05K3/381 , H05K2203/013 , H05K2203/0557 , H05K2203/095 , H05K2203/104 , H05K2203/1173 , H05K2203/1545
Abstract: 大気圧プラズマを使用して基材表面１を処理する方法及びプラズマ処理装置。 大気圧プラズマが第１の電極２と第２の電極３の間の処理空間５内に供給される。 更に、基材１、及び基材１と接触するマスク・ウェブ７が供給される。 マスク・ウェブ７によって露出した基材１の表面領域を処理するために、プラズマ形成電力が第１及び第２の電極２、３に加えられ、基材１とマスク・ウェブ７が同期して処理空間５を通して移動される。
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