公开(公告)号：JP2008546617A

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：JP2008516817

申请日：2006-01-17

申请人： プレイナー・ソリューションズ・エルエルシー

发明人： ディーパク・マーフーリカー ,  ユーフー・ワン

IPC分类号： C01B33/141

CPC分类号： C09K3/1463 ,  C01B33/14 ,  C01B33/1435 ,  C01B33/22

摘要： アルカリ金属水酸化物を含む水溶液にヒュームド・シリカを溶解してアルカリ性ケイ酸塩溶液を製造し、イオン交換を介してアルカリ金属を除去してケイ酸溶液を製造し、ケイ酸溶液の温度、濃度及びｐＨを、核生成と粒子成長を始めるのに十分な値に調整し、そしてケイ酸溶液を、コロイダルシリカ分散体を製造するのに十分な速度で冷却することによるコロイダルシリカ分散体の製造方法。 コロイダルシリカ分散体中のコロイダルシリカ粒子は、約２ｎｍから約１００ｎｍの平均粒子サイズを有する。 また、基材と、本発明による複数のコロイダルシリカ粒子及びこれらの粒子を懸濁させるための媒体を含む組成物を接触させることによる、基材表面の化学機械研磨方法も供される。 この接触は、基材を平坦化するために十分な温度と時間で行われる。
【選択図】 図３