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公开(公告)号:JP5920603B2
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:JP2013532626
申请日:2012-09-05
申请人: 日産化学工業株式会社
IPC分类号: C01B33/143 , C01B33/32
CPC分类号: C01B33/1485 , B82Y30/00 , C01B33/1435 , C09K3/1463 , C01P2004/64
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公开(公告)号:JP2013166691A
公开(公告)日:2013-08-29
申请号:JP2013068562
申请日:2013-03-28
IPC分类号: C01B33/141 , D21H17/68 , D21H21/10
CPC分类号: D21H17/74 , C01B33/1435 , C01B33/149 , D21H17/375 , D21H17/42 , D21H17/44 , D21H17/68 , D21H21/10 , D21H23/04
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide silica-based sols with high stability and SiOcontents as well as improved drainage and yield performance in papermaking; and to provide a papermaking process using the silica-based sols.SOLUTION: This invention relates to a sol containing silica-based particles having an axial ratio of at least 10 and S-value up to 25. The invention further relates to a sol containing the silica-based particles having the axial ratio of at least about 11. The invention further relates to a sol containing the silica-based particles having the axial ratio of at least 100. The invention further relates to a sol having the axial ratio of 11 to 35. The invention further relates to a sol containing silica-based particles surface-treated with aluminum. Moreover, the invention relates to a process for producing paper, which comprises a step of: adding one or more filtrated water and a yield-improving agent, which contain a sol containing the silica-based particles, to an aqueous suspension comprising cellulosic fibers, and then dewatering the obtained suspension to provide a sheet or web of paper.
摘要翻译: 要解决的问题:提供具有高稳定性和三氧化硅含量的二氧化硅基溶胶,以及改进造纸中的排水和产量性能; 并提供使用二氧化硅基溶胶的造纸方法。溶液:本发明涉及一种含有至少10的轴比和S值至25的二氧化硅基颗粒的溶胶。本发明还涉及含有 具有至少约11的轴比的二氧化硅基颗粒。本发明还涉及含有轴比为至少100的二氧化硅基颗粒的溶胶。本发明还涉及一种具有轴比为11的溶胶 本发明还涉及含有用铝表面处理的二氧化硅基颗粒的溶胶。 此外,本发明涉及一种生产纸的方法,其包括以下步骤:将含有含有二氧化硅基颗粒的溶胶的一种或多种过滤水和产率提高剂加入到包含纤维素纤维的水性悬浮液中, 然后将获得的悬浮液脱水以提供纸张或纸幅。
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公开(公告)号:JP2008546617A
公开(公告)日:2008-12-25
申请号:JP2008516817
申请日:2006-01-17
发明人: ディーパク・マーフーリカー , ユーフー・ワン
IPC分类号: C01B33/141
CPC分类号: C09K3/1463 , C01B33/14 , C01B33/1435 , C01B33/22
摘要: アルカリ金属水酸化物を含む水溶液にヒュームド・シリカを溶解してアルカリ性ケイ酸塩溶液を製造し、イオン交換を介してアルカリ金属を除去してケイ酸溶液を製造し、ケイ酸溶液の温度、濃度及びpHを、核生成と粒子成長を始めるのに十分な値に調整し、そしてケイ酸溶液を、コロイダルシリカ分散体を製造するのに十分な速度で冷却することによるコロイダルシリカ分散体の製造方法。 コロイダルシリカ分散体中のコロイダルシリカ粒子は、約2nmから約100nmの平均粒子サイズを有する。 また、基材と、本発明による複数のコロイダルシリカ粒子及びこれらの粒子を懸濁させるための媒体を含む組成物を接触させることによる、基材表面の化学機械研磨方法も供される。 この接触は、基材を平坦化するために十分な温度と時間で行われる。
【選択図】 図3-
公开(公告)号:JP2016539902A
公开(公告)日:2016-12-22
申请号:JP2016534243
申请日:2014-10-08
申请人: エコラブ ユーエスエイ インク , エコラブ ユーエスエイ インク
发明人: ミンホア リ , ミンホア リ , シン ジェーン ビー ワン , シン ジェーン ビー ワン , レイモンド ディー ジュニア ミラー , レイモンド ディー ジュニア ミラー
IPC分类号: C01B33/141 , D21H13/38
CPC分类号: D21H21/10 , C01B33/1435 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , D21H17/13
摘要: 水性コロイダルシリカ生成物、水性コロイダルシリカ生成物を使用する方法、および水性コロイダルシリカ生成物を製造する方法が開示される。水性コロイダルシリカ生成物を製造する方法は、アルカリ金属ケイ酸塩の半バッチ添加を組み入れ、望ましい物理的および化学的特性を有する水性コロイダルシリカ生成物を達成することができる。水性コロイダルシリカ生成物は、製紙プロセスにおける添加物として特に有用であることが見出されている。
摘要翻译: 含水胶态二氧化硅产品,使用含水的胶态二氧化硅产品的方法,以及用于制备含水胶态二氧化硅产品的方法中公开。 用于制备水性胶体二氧化硅制品,结合半分批加入碱金属硅酸盐的过程中,有可能实现具有所需物理和化学性质的水性胶态二氧化硅产品。 含水胶态二氧化硅产品已被发现是在造纸过程中的添加剂尤其有用。
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公开(公告)号:JP2016183096A
公开(公告)日:2016-10-20
申请号:JP2016076025
申请日:2016-04-05
申请人: 日産化学工業株式会社
IPC分类号: C01B33/141 , C01B33/32
CPC分类号: C01B33/1485 , B82Y30/00 , C01B33/1435 , C09K3/1463 , C01P2004/64
摘要: 【課題】濾過速度が速く、大量生産可能な平板状の微小粒子の異物が低減された珪酸アルカリ水溶液の製造方法と平板状の微小粒子の異物が低減されたシリカゾルの製造方法を提供。 【解決手段】珪酸アルカリ水溶液のシリカ濃度を0.5〜10.0質量%に調整し、これを1次粒子径1.0μmの粒子の除去率が50%以上である絶対孔径0.3〜3.0μmのメンブレン型フィルターで濾過する、以下の条件を満たす珪酸アルカリ水溶液の製造方法。(1)特定の測定方法に従い計測された一辺の長さが0.2〜4.0μm、厚さが1〜100nmの平板状の微小粒子の存在量が0〜30% 【選択図】なし
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种含有减少量的具有高过滤速度并且可大量生产的扁平细颗粒异物的碱金属硅酸盐水溶液的方法,并且提供一种制备含有还原剂的二氧化硅溶胶的方法 平坦的细颗粒异物的量。解决方案:提供一种碱金属硅酸盐水溶液的制备方法,该方法满足以下条件,其中将碱性硅酸盐水溶液的二氧化硅浓度调节至0.5至10.0质量%,并将所得水溶液 用绝对孔径为0.3〜3.0μm的膜型过滤器进行过滤,其具有一次粒径为1.0μm的粒子的去除率为50%以上。 (1)根据具体的测量方法测量,一边长度为0.2〜4.0μm,厚度为1〜100nm的平坦细颗粒的现有量为0〜30%。选择图:无
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公开(公告)号:JP2014511330A
公开(公告)日:2014-05-15
申请号:JP2013554841
申请日:2012-02-09
发明人: フーアマン クラウディア , エーム ディーター , パンツ クリスティアン , パウラート フローリアン , シュッテ リューディガー , ラウレーダー ハルトヴィッヒ , マルコヴツ ゲオルク , エルヴィン ラング ユルゲン , フリンクス ボード
IPC分类号: C01B33/143
CPC分类号: C01B33/1435 , C01B33/12 , C01B33/1485 , C01B33/193 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要: 本発明は、ケイ酸塩溶液からの高純度水性コロイダルシリカゾルの製造方法、特別な不純物プロファイルを有する水性コロイダルシリカゾルならびにその使用に関する。 加えて、本発明は、精製工程の過程で中間生成物として生ずる高純度水性ケイ酸、脱水によって得られる高純度二酸化ケイ素およびその使用を含む。
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公开(公告)号:JP2013151409A
公开(公告)日:2013-08-08
申请号:JP2012284078
申请日:2012-12-27
IPC分类号: C01B33/141 , C01B33/151
CPC分类号: C09G1/02 , C01B33/1435 , C09K3/1409
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing high purity silica sol, capable of using a water glass as a raw material, with lower content of Cu and Ni as metallic impurities than ever before.SOLUTION: A method for producing high purity silica sol includes the following steps [1] to [4]. [1]: A step of obtaining purified alkali silicate aqueous solution (b) by ultrafiltrating an alkali silicate aqueous solution (a). [2]: A step of obtaining a purified silicic acid liquid by removing at least a part of cation components contained in the purified alkali silicate aqueous solution (b) by applying an ion exchange method to the purified alkali silicate aqueous solution (b). [3]: A step of obtaining a high purity silicic acid liquid by applying an ion exchange method using a chelate ion exchange resin to the purified silicic acid liquid. [4]: A step of obtaining the high purity silica sol with Cu concentration and Ni concentration of both 50 ppb or less in dry silica amount, by using a part of the high purity silicic acid liquid as a seed liquid and another part thereof as a feed liquid; adjusting the seed liquid to make the seed liquid alkaline; then mixing this with the feed liquid.
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种制备高纯度硅溶胶的方法,该方法能够以水玻璃为原料,以比以往更低的Cu和Ni作为金属杂质含量较低。解决方案:一种生产高纯度二氧化硅 sol包括以下步骤[1]至[4]。 [1]:通过超滤碱金属硅酸盐水溶液(a)获得纯化的碱性硅酸盐水溶液(b)的步骤。 [2]:通过在纯化的碱性硅酸盐水溶液(b)中进行离子交换法除去纯碱性硅酸盐水溶液(b)中所含的阳离子成分的至少一部分而得到纯化硅酸液的工序。 [3]:通过使用螯合离子交换树脂的离子交换法向纯化的硅酸液中得到高纯度硅酸液的工序。 [4]:通过使用一部分高纯度硅酸液体作为种子液体,另一部分作为种子液,得到具有Cu浓度和50ppb以下的干二氧化硅量的Ni浓度的高纯度硅溶胶的工序, 进料液体 调整种子液体使种子液体碱性; 然后将其与进料液体混合。
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公开(公告)号:JP4797017B2
公开(公告)日:2011-10-19
申请号:JP2007507272
申请日:2005-04-05
发明人: ナイアンダー、ヨハン , マンキン、グレン
IPC分类号: C01B33/143 , C01B33/14 , D21H17/68 , D21H21/10
CPC分类号: C01B33/1435 , D21H17/68 , D21H21/10
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公开(公告)号:JP5564420B2
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:JP2010511145
申请日:2008-06-04
发明人: パーション,ミカエル , ハンソン,フレッディ , パル,アニーカ,ヴィオラ , リンダール,ラルス , カーレン,ヨアキム
IPC分类号: C01B33/141
CPC分类号: D21H17/74 , C01B33/1435 , C01B33/149 , D21H17/375 , D21H17/42 , D21H17/44 , D21H17/68 , D21H21/10 , D21H23/04
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公开(公告)号:JP5345397B2
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:JP2008533465
申请日:2006-09-22
发明人: マーウリカー ディーパック , ワン ユー , エー デルブリッジ ケン , アール エム モヤーツ ゲルト , エイチ モーセニ サイード , アール クーンツ ニコル , フー ビン , ウェン リチン
CPC分类号: C23F3/04 , C01B33/1435 , C01B33/1485 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/80 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C09K3/1472 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要: A method of chemical mechanical polishing a surface of a substrate including the step of: contacting the substrate and a composition including a plurality of colloidal silica particles having less than 200 ppb of each trace metal impurity, excluding potassium and sodium, have less than 2 ppm residual alcohol and wherein the cumulative concentration of the trace metal, excluding potassium and sodium, is in the range from about 0.5 to about 5 ppm; and a medium for suspending the particles; wherein the composition is an ultrapure colloidal silica dispersion; and wherein the contacting is carried out at a temperature and for a period of time sufficient to planarize the substrate.
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