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公开(公告)号：JP2022000426A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：JP2021136038
申请日：2021-08-24
Applicant: 国立大学法人 東京医科歯科大学 , 国立大学法人大阪大学
IPC: A61K31/7105 , A61K31/713 , A61K47/28 , A61K47/12 , A61K47/14 , A61P3/00 , A61P31/00 , A61P35/00 , A61K47/22 , A61K47/10 , A61K31/711
Abstract: 【課題】標的遺伝子の発現をアンチセンス効果によって抑制する二重鎖核酸複合体、およびそれを利用する方法を提供する。 【解決手段】第2の核酸鎖がアニーリングしている第1の核酸鎖を含む二本鎖核酸複合体を含み、(i)第1の核酸鎖は、標的遺伝子の転写産物にハイブリダイズし、RNaseH非依存的アンチセンス効果によって標的遺伝子の発現を調節するものであり、そして転写産物に相補的な配列を持ち転写産物にハイブリダイズ可能な連続したDNAヌクレオチド、修飾DNAヌクレオチド、ヌクレオチドアナログなどを含み、かつ、(ii)第2の核酸鎖は、(a)第1の核酸鎖と相補的な配列を有する連続したRNAヌクレオチドもしくは修飾RNAヌクレオチドと、さらに(b)連続したRNAヌクレオチドもしくは修飾RNAヌクレオチドの5’末側に配置された1又は複数の修飾ヌクレオチド、ヌクレオチドアナログなどである、医薬組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JPWO2020170555A1
公开(公告)日：2021-12-23
申请号：JP2019047919
申请日：2019-12-06
Applicant: 東洋合成工業株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C08F230/04 , C08F220/30 , C08F212/14 , G03F7/20 , G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/038 , C08F220/38
Abstract: 粒子及び光子エネルギーの高い粒子線又は電磁波の照射により形成するパターニングにおいて、エネルギー付与密度が低下することで生じる感度の低下とパターンラフネスの悪化の影響を緩和し、吸収効率が大きく、感度、解像度及びパターン性能の特性に優れたレジスト組成物に用いられるポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、並びに、それらを用いた部材の製造方法を提供する。 粒子線又は電磁波等の照射により分解してイオン性から非イオン性となる事で生じる極性変換に加えて、同時にラジカルと酸を発生するオニウム塩構造のユニットAと、酸触媒反応により結合する構造を有するユニットBと、を含むポリマーとする。前記ユニットBは、下記一般式(I)又は(II)で示される化合物が該化合物のいずれかの位置で下記式(1)のSp基と結合したユニットであることが好ましい。 【化1】
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公开(公告)号：JP6985689B1
公开(公告)日：2021-12-22
申请号：JP2021134795
申请日：2021-08-20
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 株式会社JSOL
IPC: B23K11/11
Abstract: 【課題】スポット溶接における抵抗発熱と加圧を考慮して、溶接変形の予測結果を高速で計算できる変形予測システム及びプログラムを提供する。 【解決手段】スポット溶接を行うことで製造される構造体130の溶接変形をFEM解析によって計算する変形予測システムは、構造体データ取り込みプロセスS1と、溶接打点抽出プロセスS2と、FEM解析用モデル作成プロセスS3と、スポット溶接点140の位置において、スポット溶接点140のFEM解析用モデルとしてナゲット要素340を作成すると共に、スポット溶接を行うときのスポット溶接点140における抵抗発熱、及びスポット溶接点140に対する加圧によって生じる固有変形をナゲット要素340に設定するナゲット要素設定プロセスS4と、溶接変形計算プロセスS5とを有する。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JPWO2020203592A1
公开(公告)日：2021-12-16
申请号：JP2020013495
申请日：2020-03-25
Applicant: 国立大学法人大阪大学
Inventor： 小西 毅
Abstract: 光検出装置(10)は、入力光に含まれる所望の波長成分を検出する装置であって、入力光を入力とし入力光の分光スペクトルの複製を複数並べて出力する回折格子(16)等で構成される分光器と、分光器から出力された複数の分光スペクトルの並びに対して3箇所以上の波長成分の光を通過させる3以上のスリットの並びを有する第2スリットアレイ(18)と、第2スリットアレイ(18)を通過した3以上の波長成分の光を受光する画素の並びで構成される撮像素子(19)とを備え、第2スリットアレイ(18)が有する3以上のスリットの並びにおける少なくとも2以上のピッチは異なる。
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公开(公告)号：JPWO2020170765A1
公开(公告)日：2021-12-16
申请号：JP2020003710
申请日：2020-01-31
Applicant: 国立大学法人大阪大学
IPC: B23K20/12
Abstract: 線形摩擦接合装置に対して簡便かつ確実に被接合材を固定し、接合条件に対応した再現性の高い線形摩擦接合の実施を可能とする線形摩擦接合用固定治具及び線形摩擦接合を提供する。線形摩擦接合装置の被接合材固定部から押圧力を受ける被押圧面と、前記被押圧面の反対側に二つの傾斜面を対向配置して形成された谷部と、を備えた第一部材と、前記傾斜面と当接する当接面を両端部に備えた第二部材と、を具備し、二つの前記第一部材と二つの前記第二部材とから構成されること、を特徴とする線形摩擦接合用固定治具である。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2020166093A1
公开(公告)日：2021-12-16
申请号：JP2019008686
申请日：2019-03-05
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 株式会社ダイセル
IPC: C07C69/24 , C07C67/317
Abstract: 本発明の目的は、不均一系反応により、ジカルボン酸モノエステルを還元して、ヒドロキシカルボン酸エステルを選択的に製造する方法を提供する。 本発明のヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法は、下記触媒の存在下で、基質としての下記式(1)で表されるジカルボン酸モノエステルを還元して、下記式(2)で表されるヒドロキシカルボン酸エステルを製造することを特徴とする。 触媒:金属種として下記M 1 とM 2 が、下記担体に担持されてなる触媒 (M 1 )ロジウム、白金、ルテニウム、イリジウム、又はパラジウム (M 2 )スズ、バナジウム、モリブデン、タングステン、又はレニウム (担体)ハイドロキシアパタイト、フルオロアパタイト、又はハイドロタルサイト 【化1】
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公开(公告)号：JP2021185022A
公开(公告)日：2021-12-09
申请号：JP2020090406
申请日：2020-05-25
Applicant: 株式会社大林組 , 国立大学法人大阪大学 , 公益財団法人レーザー技術総合研究所
Abstract: 【課題】土質材料を用いて、高品質な3次元焼成物を製作することの可能な、3次元焼成物の製作方法を提供する。 【解決手段】土質材料を撒き出して粒子層11を形成したのち、照射経路20に沿って粒子層の表面にレーザー光を照射し、粒子層を溶融凝固する溶融凝固工程を、粒子層を積層しつつ繰り返す3次元焼成物の製作方法において、照射経路は、レーザー光の進行方向を示す照射ラインPを備え、先行の照射ラインPに対して、後行の照射ラインPを幅方向にずらしながら略平行に重ね、粒子層における3次元焼成物となる領域Eが、レーザー光により複数回照射されるように設定され、レーザー光を、先行の前記照射ラインPに沿って照射させたのち、後行の前記照射ラインPに沿って照射させるまでの間には、前記粒子層の表面から深度方向への伝熱期間が設けられる。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JPWO2020158910A1
公开(公告)日：2021-12-02
申请号：JP2020003597
申请日：2020-01-31
Applicant: 国立大学法人大阪大学
IPC: C07H19/10 , C07H19/16 , C07H19/20 , C07H21/00 , A61K31/7088 , A61K48/00 , C12N15/11 , C07H19/06
Abstract: 5’位修飾ヌクレオシドおよびそれを用いたヌクレオチドを開示する。本発明のヌクレオシドは、以下の式(I): 【化1】 で表される。本発明の5’位修飾ヌクレオシドは、特定の臓器への集積などが懸念されるホスホロチオエート修飾核酸の代替とすることができ、かつその製造においてジアステレオマーの分離工程を必要としないため、工業的生産性にも優れている。
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公开(公告)号：JP2021181814A
公开(公告)日：2021-11-25
申请号：JP2020087906
申请日：2020-05-20
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 株式会社堀場エステック
Abstract: 【課題】高温環境下においても大きな変位量を得ることができ、高温の流体が使用される半導体製造プロセス等に適した流体制御バルブを提供する。 【解決手段】弁座1と、前記弁座1に対して接離可能に設けられた弁体2と、前記弁体2を駆動する磁歪アクチュエータ3と、を備え、前記磁歪アクチュエータ3が、磁歪素子31と、前記磁歪素子31内に磁場を発生させるコイル32と、前記磁歪素子31の熱膨張によって、当該磁歪素子31に所定圧力以上の与圧を付与する熱膨張与圧機構35と、を備えた。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021181573A
公开(公告)日：2021-11-25
申请号：JP2021121040
申请日：2021-07-21
Applicant: 国立大学法人大阪大学
IPC: C08G85/00 , C08B37/16 , C08F220/06
Abstract: 【課題】材料設計の自由度が高く、靭性及び強度に優れる高分子材料を製造するための原料として使用できるホスト基含有重合性単量体、並びに該ホスト基含有重合性単量体を使用して製造される高分子材料及びその製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のホスト基含有重合性単量体は、ホスト基含有重合性単量体であって、前記ホスト基は、シクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された1価の基である。前記シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリンが有する少なくとも1個の水酸基の水素原子が炭化水素基、アシル基及び−CONHR(Rはメチル基又はエチル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種の基で置換された構造を有する。 【選択図】なし
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