公开(公告)号：JP2018527456A

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：JP2017565799

申请日：2016-06-03

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

发明人： ユイ, ミンルイ ,  マー, カイ ,  クォン, トーマス ,  シン, カウシャル ケー. ,  ピン, アル−シュアン

IPC分类号： H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532 ,  H01L21/285 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11551 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  C23C14/14 ,  C23C14/58 ,  C23C16/42 ,  C23C14/06

CPC分类号： H01L23/53266 ,  C23C14/0641 ,  C23C16/401 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  H01L21/76838

摘要： 本開示は、基板上に形成された膜スタック構造と、基板上に膜スタック構造を形成する方法を提供する。一実施形態では、基板上に膜スタック構造を形成する方法は、基板上に形成された酸化物層上に第1の付着層を堆積することと、第1の付着層上に金属層を堆積することとを含み、第1の付着層と金属層が、応力中立構造を形成する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6979881B2

公开(公告)日：2021-12-15

申请号：JP2017565799

申请日：2016-06-03

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

发明人： ユイ, ミンルイ ,  マー, カイ ,  クォン, トーマス ,  シン, カウシャル ケー. ,  ピン, アル−シュアン

IPC分类号： H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532 ,  H01L21/285 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11551 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  C23C14/14 ,  C23C14/58 ,  C23C16/42 ,  C23C14/06