公开(公告)号：JP2020533210A

公开(公告)日：2020-11-19

申请号：JP2020515177

申请日：2018-09-17

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： カン、ナ ナ ,  ク、セ ジン ,  リー、ミ スク ,  リー、ウン チャン ,  チョイ、ウン ヨン ,  ユン、スン スー ,  パク、ノ ジン ,  リー、ジェ グォン ,  リュ、ヒュン ジュ ,  ヒュル、ユン ヒュン

IPC分类号： B32B27/08 ,  C23C26/00 ,  B32B3/18

摘要： 本出願は、パターン基板の製造方法に関する。前記方法は、例えば、電子デバイスおよび集積回路のような装置の製造工程または他の用途、例えば集積光学システム、磁気ドメインメモリのガイダンスおよび検出パターン、平板ディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD)、薄膜磁気ヘッドまたは有機光放出ダイオード等の製造に適用され得、集積回路、ビット−パターン化した媒体および/またはハードドライブのような磁気記憶デバイス等の個別トラック媒体(discrete track medium)の製造に使用するために表面の上にパターンを構築するのに使用することができる。

公开(公告)号：JP2020536137A

公开(公告)日：2020-12-10

申请号：JP2020517386

申请日：2018-10-29

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： ク、セ ジン ,  リー、ミ スク ,  カン、ナ ナ ,  リー、ウン チャン ,  ユン、スン スー ,  パク、ノ ジン ,  リー、ジェ グォン ,  チョイ、ウン ヨン ,  リュ、ヒュン ジュ ,  ヒュル、ユン ヒュン

IPC分类号： C08F293/00 ,  H01L21/027 ,  C08F220/18

摘要： 本出願は、ピニング組成物と、これを含む積層体およびその製造方法に関する。本出願のピニング組成物は、ブロック共重合体の自己組織化構造を含む高分子膜に方向性および位置選定性を付与することができる。本出願のピニング組成物は、優れた反応選択性を示すので、整列度の高い垂直ラメラ構造を形成することができる。また、本出願のピニング組成物は、低温工程への適用に適している。

公开(公告)号：JP2020525584A

公开(公告)日：2020-08-27

申请号：JP2019571398

申请日：2018-07-16

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： チョイ、ウン ヨン ,  パク、ノ ジン ,  リー、ジェ グォン ,  ヒュル、ユン ヒュン ,  ユン、スン スー

IPC分类号： C08F293/00 ,  C09D133/06 ,  B32B27/00 ,  C08F220/18

摘要： 本出願は、中性層組成物に関する。本出願では、多様なブロック共重合体の配向性を効果的に調節できる中性層を形成できる中性層組成物が提供され得る。

公开(公告)号：JP2020525583A

公开(公告)日：2020-08-27

申请号：JP2019571397

申请日：2018-07-16

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： ヒュル、ユン ヒュン ,  リー、ジェ グォン ,  ユン、スン スー ,  パク、ノ ジン ,  チョイ、ウン ヨン ,  ク、セ ジン ,  リー、ミ スク ,  リュ、ヒュン ジュ ,  カン、ナ ナ ,  リー、ウン チャン

IPC分类号： C08F20/02 ,  C08F4/42

摘要： 本出願は、重合体の製造方法に関する。本出願では、末端に金属原子又はハロゲン原子を含む重合体を副反応などを最小化するか無くすと共に優れた効率で製造することができ、前記重合体の分子量特性も自由に制御することができる。

公开(公告)号：JP6966101B2

公开(公告)日：2021-11-10

申请号：JP2019571398

申请日：2018-07-16

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： チョイ、ウン ヨン ,  パク、ノ ジン ,  リー、ジェ グォン ,  ヒュル、ユン ヒュン ,  ユン、スン スー

IPC分类号： C08F220/32 ,  C08F212/14 ,  C08L33/14 ,  C09D133/14 ,  B32B27/30 ,  G03F7/004 ,  C08F220/28

公开(公告)号：JP6947363B2

公开(公告)日：2021-10-13

申请号：JP2019571397

申请日：2018-07-16

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： ヒュル、ユン ヒュン ,  リー、ジェ グォン ,  ユン、スン スー ,  パク、ノ ジン ,  チョイ、ウン ヨン ,  ク、セ ジン ,  リー、ミ スク ,  リュ、ヒュン ジュ ,  カン、ナ ナ ,  リー、ウン チャン

IPC分类号： C08F4/42 ,  C08F4/46 ,  C08F20/02 ,  C08F8/20

公开(公告)号：JP2021500428A

公开(公告)日：2021-01-07

申请号：JP2020521335

申请日：2018-11-07

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： リー、ウン チャン ,  リー、ミ スク ,  ク、セ ジン ,  カン、ナ ナ ,  リュ、ヒュン ジュ ,  ユン、スン スー ,  パク、ノ ジン ,  リー、ジェ グォン ,  チョイ、ウン ヨン ,  ヒュル、ユン ヒュン

IPC分类号： B32B27/00 ,  C08L53/00

摘要： 本出願は、積層体に関する。本出願は、基板上に配向欠陥、配位数欠陥、距離欠陥などがない高度に整列したブロック共重合体を形成することができるので、多様なパターン化基板の製造に効果的に適用され得る積層体およびそれを使用したパターン化基板の製造方法を提供することができる。