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发明专利
マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工するための方法审中-公开

公开(公告)号：JP2020513690A

公开(公告)日：2020-05-14

申请号：JP2019528677

申请日：2017-10-23

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： ヨージェフクロール , ボリスポヴァジャイ

IPC: B29C59/04 , H01L21/027

Abstract: マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工するための方法。本発明は、マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工するための方法に関する。

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