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公开(公告)号：JP6429602B2
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：JP2014229593
申请日：2014-11-12
Applicant: キヤノン株式会社
CPC classification number: H01J35/08 , H01J2235/086 , H01J2235/088 , H01J2235/186 , H05G1/30
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公开(公告)号：JP2018107148A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2018072603
申请日：2018-04-04
Applicant: キヤノン株式会社
Abstract: 【課題】 ターゲット層のダイアモンド基材に対する密着性を向上させ、安定した放射線放出特性を有する放射線放出ターゲット、放射線発生装置および放射線撮影装置を提供する。 【解決手段】 ターゲット層と、sp2結合を有する炭素含有領域と、ターゲット層を支持するダイアモンド基材とを備え、前記炭素含有領域は、前記ターゲット層と、前記ダイアモンド基材との間に位置することを特徴とする透過型ターゲットとする。 【選択図】 図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6335729B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2014184462
申请日：2014-09-10
Applicant: キヤノン株式会社
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/01 , C23C16/27 , G01N23/04 , H01J35/045 , H01J2235/02 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H01J2235/186
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公开(公告)号：JP6207246B2
公开(公告)日：2017-10-04
申请号：JP2013125847
申请日：2013-06-14
Applicant: キヤノン株式会社
IPC: H01J35/08
CPC classification number: H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/087 , H01J2235/1204 , H01J2235/1291 , H05G1/06
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公开(公告)号：JP2017139238A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：JP2017091874
申请日：2017-05-02
Applicant: キヤノン株式会社
Abstract: 【課題】 ダイアモンド基材を透過基材として備えた透過型ターゲットにおいて、透過型ターゲットの動作履歴に伴う組成変動を抑制し、長期間に渡り放射線出力変動を抑制した透過型ターゲットを提供すること。 【解決手段】 電子の照射によりX線を発生する金属炭化物を含有するターゲット層と、前記ターゲット層を支持するダイアモンド基材と、を備えることを特徴とする透過型ターゲット。 【選択図】 図1
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