Patent search ap:("キヤノン株式会社") AND inv:"小倉孝夫" Page 1

1.

发明专利
放射線管、放射線源及び放射線検査装置有权

公开(公告)号：JP6537679B2

公开(公告)日：2019-07-03

申请号：JP2018119862

申请日：2018-06-25

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 高崎晃一 , 浮世典孝 , 谷口修 , 小倉孝夫

IPC: G21K1/02 , H01J35/08 , H05G1/00 , H05G1/06 , G01N23/04 , G01N23/18 , H01J35/16

2.

发明专利
X線ターゲット有权

公开(公告)号：JP6516896B2

公开(公告)日：2019-05-22

申请号：JP2018072603

申请日：2018-04-04

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 山田修嗣 , 鈴木達哉 , 塚本健夫 , 五十嵐洋一 , 吉武惟之 , 小倉孝夫

IPC: B82Y30/00 , B82Y40/00 , H01J9/14 , H01J35/08

3.

发明专利
放射線発生管および該放射線発生管を備えた放射線発生装置有权

公开(公告)号：JP6308714B2

公开(公告)日：2018-04-11

申请号：JP2012187615

申请日：2012-08-28

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 小倉孝夫 , 野村一郎 , 上田和幸 , 塩澤崇史

IPC: A61B6/00 , H01J35/16 , H05G1/00 , H05G1/02 , H05G1/06 , H01J35/08

CPC classification number: H01J35/16 , A61B6/06 , A61B6/08 , A61B6/40 , G21K1/02 , H01J2235/081 , H01J2235/086 , H01J2235/087 , H01J2235/168

4.

发明专利
ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置並びに放射線撮影システム有权
Title translation: 目标装置和放射线产生装置和放射线成像系统，包括相同的

公开(公告)号：JP5911323B2

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：JP2012022976

申请日：2012-02-06

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 小倉孝夫 , 塚本健夫 , 田村美樹 , 野村一郎

IPC: H01J35/08 , G21K5/08

CPC classification number: H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/186

5.

发明专利
X線放出ターゲット、X線発生管およびX線発生装置有权
Title translation: X射线放射目标，X射线发生管和所述X射线发生器

公开(公告)号：JP5812700B2

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：JP2011127513

申请日：2011-06-07

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 小倉孝夫 , 佐藤安栄 , 伊藤靖浩

IPC: H01J35/08

CPC classification number: H01J35/12 , H01J35/08 , H01J35/16 , H01J35/18 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H01J2235/1291 , H01J2235/16 , H01J2235/186 , H05G1/06

6.

发明专利
X線管有权
Title translation: X射线管

公开(公告)号：JP5800578B2

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：JP2011121501

申请日：2011-05-31

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 山▲崎▼ 康二 , 野村一郎 , 青木修司 , 小倉孝夫 , 佐藤安栄 , 柳沢芳浩 , 上田和幸 , 田村美樹

IPC: H01J35/16

CPC classification number: H01J35/16 , H01J35/06 , H01J35/08 , H01J2235/087 , H01J2235/16

7.

发明专利
ターゲットおよび前記ターゲットを備えるX線発生管、X線発生装置、X線撮影システム审中-公开

公开(公告)号：JP6381269B2

公开(公告)日：2018-08-29

申请号：JP2014087465

申请日：2014-04-21

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 山田修嗣 , 吉武惟之 , 五十嵐洋一 , 小倉孝夫 , 塚本健夫

IPC: H01J35/12 , H01J35/16 , H01J35/00 , H01J35/08

CPC classification number: H01J35/08 , G21K1/02 , H01J35/16 , H01J2235/081 , H01J2235/087 , H01J2235/166 , H05G1/06

8.

发明专利
透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備えるX線発生管审中-公开

公开(公告)号：JP2018113270A

公开(公告)日：2018-07-19

申请号：JP2018082457

申请日：2018-04-23

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 山田修嗣 , 小倉孝夫 , 五十嵐洋一 , 塚本健夫 , 吉武惟之

IPC: H01J9/14 , H01J35/08

Abstract: 【課題】多結晶ダイアモンドを透過基板として有し、衝撃が加えられた場合においても放電や陽極電流の低下が生じ難い透過型ターゲットを提供する。【解決手段】透過基板は、一方の面が対向する他方の面よりも小さな平均結晶粒径を呈する多結晶ダイアモンドからなり、ターゲット層は一方の面または他方の面において支持されていることを特徴とする透過型ターゲット。【選択図】図1

9.

发明专利
透過型X線ターゲットおよび透過型X線ターゲットの製造方法有权

公开(公告)号：JP6324561B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2017031425

申请日：2017-02-22

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 山田修嗣 , 鈴木達哉 , 塚本健夫 , 五十嵐洋一 , 吉武惟之 , 小倉孝夫

IPC: H01J9/14 , H01J35/08

10.

发明专利
透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置审中-公开

公开(公告)号：JP2017212229A

公开(公告)日：2017-11-30

申请号：JP2017172340

申请日：2017-09-07

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 小倉孝夫 , 山田修嗣 , 渡邉壮俊 , 塚本健夫 , 五十嵐洋一 , 吉武惟之

IPC: H01J35/08

Abstract: 【課題】炭素を含有する基材に対するターゲット層の密着性と放熱性とが維持された信頼性の高い放射線発生装置を提供する。【解決手段】電子の照射により放射線を発生するターゲット金属を含有するターゲット層と、ターゲット層を支持し、炭素を主成分として含有する基材と、を備える透過型ターゲットであって、ターゲット層は、基材との界面の側における面内方向において、ターゲット金属の炭化物を含む炭化物領域と、ターゲット金属を金属状態として含む非炭化物領域と、を混在するように備え、炭化物領域が面内方向において占める面積密度が20%以上80%以下であることを特徴とする。【選択図】図1

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