公开(公告)号：JP5801307B2

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：JP2012528011

申请日：2010-09-01

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3065 ,  G01B11/02

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N2021/4792 ,  G01N21/211 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105

公开(公告)号：JP6363557B2

公开(公告)日：2018-07-25

申请号：JP2015111802

申请日：2015-06-02

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/02

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/211 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/4792 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

公开(公告)号：JP2013504063A

公开(公告)日：2013-02-04

申请号：JP2012528011

申请日：2010-09-01

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/02 ,  G01B11/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/211 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/4792 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

Abstract: 様々な計測システムおよび計測方法が提供される。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP6377218B2

公开(公告)日：2018-08-22

申请号：JP2017136680

申请日：2017-07-13

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01N21/41 ,  G01B11/00

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/211 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/4792 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

公开(公告)号：JP2015200661A

公开(公告)日：2015-11-12

申请号：JP2015111802

申请日：2015-06-02

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/02

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N2021/4792 ,  G01N21/211 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105

Abstract: 【課題】小さな回折格子標的サイズであっても光学限界寸法を測定可能な計測システムおよび計測方法を提供する。 【解決手段】回折限界光ビーム14を生成するように構成されている光源8と、ウェハ34平面内の照射スポット32の中心から1.5マイクロメータ離れた位置における放射照度が、スポットの中心のピーク放射照度の10-6未満となる方法で照射光学装置の入射瞳内の光ビームを形成するように構成されているアポダイザー16と、アポダイザーからの回折限界光ビームをウェハ上の回折格子標的からの散乱光を取集する光学素子と、取集された散乱光の一部を排除する視野絞り52と、視野絞りを通過する散乱光を検出し、検出された散乱光に応答して出力を生成することにより、スキャタロメトリを使用する計測システムによって回折格子標的が測定される検出器44と、出力を使用して、回折格子標的の特性を判定するコンピュータシステム74と、を備える。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种可以测量甚至微小光栅目标尺寸的光学关键尺寸的计量系统和计量方法。解算：计量系统包括：光源8，其被配置为产生衍射受限光束 14; 一种变迹器16，其被配置为通过这样的方法在照射光学装置的入射光瞳中形成光束，使得在距晶片34的平面内的照射光斑32的中心1.5微米处的辐射照度 小于中心点辐射照度的10-6; 光学元件，被配置为将来自变迹器的衍射限制光束引导到晶片上的光栅目标上的照射点并收集来自光栅靶的散射光; 被配置为消除所收集的散射光的一部分的场停止器52; 检测器44，其被配置为检测通过场停止器的散射光以响应于所检测到的散射光产生输出，并且通过采用散射仪的测量系统检测光栅目标; 以及计算机系统74，其被配置为使用检测器的输出来确定光栅目标的特性。

公开(公告)号：JP2017207506A

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：JP2017136680

申请日：2017-07-13

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/06 ,  G01N21/41 ,  G01B11/02

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N2021/4792 ,  G01N21/211 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105

Abstract: 【課題】半導体ウエハの評価に必要な、様々な計測システムおよび計測方法を提供する。 【解決手段】計測システムは、回折限界光ビームを生成する光源、ウェハ平面内の照射スポットの中心から1.5マイクロメートル離れた位置における放射照度が、そのスポットの中心のピーク放射照度の10-6未満となる照射光学装置の入射瞳内の光ビームを成形するアポダイザー、アポダイザーからの回折限界光ビームを、ウェハ上の回折格子標に照射し、回折格子標的からの散乱光を収集する光学素子、収集された散乱光の一部を排除するように構成される視野絞り、視野絞りを通過する散乱光を検出し、その検出された散乱光から回折格子標的をスキャタロメトリ法を用いて計測する検出器も含み、その出力を使用して、回折格子標的の特性を判定するように構成されているコンピュータシステム。 【選択図】図1