Sdr for rotating surface
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2012515076A

    公开(公告)日:2012-07-05

    申请号:JP2011545656

    申请日:2009-12-11

    IPC分类号: B01J19/18

    摘要: 本発明は、実質的に、外側の反応表面、少なくとも1つの反応体を前記反応表面に供給するための供給手段、ならびに前記反応表面を温度調節するための内在する構造体を備えている、水平方向に回転するディスク状の温度調節可能な支持体要素を有する回転ディスク反応器に関する。 更に、この反応器は、反応生成物を反応表面から捕集および導出するための少なくとも1つの沈殿装置とを備えている。 支持体要素は、特に、本質的に同一の面積の広さを有する2つの水平方向に重なり合って配置された構造部材a)およびb)からなることによって特徴付けられる。 前記の2つの構造部材は、運転時間中に互いにインターロック形式で緊密に結合されており、この下部の構造部材a)は、支持体要素の内側領域に対向した上側に少なくとも1つの拡大された領域に亘ってフライス加工されかつ実質的に中断されていない、伝熱流体を収容、輸送および排出するための溝を備えている。 更に、前記構造部材は、伝熱流体を供給および排出するための少なくとも2つの穿孔を備え、この場合、構造部材a)と構造部材b)との間には、外側の面領域を円形に包囲する少なくとも1つの異形成形シールが配置されている。 これら2つの構造部材a)およびb)は、全体的に可逆的に互いに結合されている。 前記の特殊な特徴は、好ましいメインテナンスおよび幅広い適用可能性を有し、ひいては反応器の回転表面上での化学反応の意図的な制御を可能にする簡単に設計された反応器を提供する。