公开(公告)号：JP2021533554A

公开(公告)日：2021-12-02

申请号：JP2020543872

申请日：2020-07-03

Applicant: セミコン テク グローバル リミテッド

Inventor： ホン,スンソク ,  ファン,ミョンファン ,  ジャン,セヒョン

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 本発明は、ケミカル溶液が収容され、制御部の作業開始信号によって前記ケミカル溶液を供給するケミカル溶液供給装置、前記ケミカル溶液供給装置と繋がって前記ケミカル溶液が供給される第1供給流路、前記第1供給流路と繋がって前記ケミカル溶液を浄化するフィルター、前記フィルターで分岐される分岐流路及びメイン流路、前記分岐流路と繋がって前記分岐流路を開閉するドレインバルブ、前記メイン流路と繋がって前記ケミカル溶液のパーティクル量を感知するパーティクル監視器、及び前記パーティクル監視器から前記ケミカル溶液が供給され、被作業対象物に前記ケミカル溶液を供給するディスペンサー部を含み、前記パーティクル監視器及びディスペンサー部は第2供給流路で繋がって、前記第2供給流路には前記パーティクル監視器からディスペンサー部に供給される前記ケミカル溶液の供給を制御する制御バルブを含むケミカル溶液のパーティクルモニタリング装置を提供する。