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    冷却装置を備える投与システム
    1.
    发明专利
    冷却装置を備える投与システム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2022501184A

    公开(公告)日：2022-01-06

    申请号：JP2021515577

    申请日：2019-09-24

    申请人： フェルメス マイクロディスペンシング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツンク

    发明人： フリース、マリオ

    IPC分类号： B05C11/10 ,  B05C11/00 ,  B05C5/00

    摘要： 本発明は、ノズル(40)と、投与材料用の供給チャネル(44)と、排出要素(31)と、排出要素(31)および/またはノズル(40)に連結され、ピエゾアクチュエータ(60)を有しているアクチュエータユニット(10)と、冷却装置(2)と、を有する投与材料のための投与システム(1)に関する。冷却装置(2)は、予冷された冷却媒体を投与システム(1)のハウジング(11)に供給するための供給装置(21、24、26)を備える。冷却装置(2)は、予冷された冷却媒体によってピエゾアクチュエータ(60)の少なくとも1つのサブ領域および/またはピエゾアクチュエータ(60)に連結された移動機構(14)の少なくとも1つのサブ領域を直接的に冷却するように構成されている。

    基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
    2.
    发明专利
    基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021197449A

    公开(公告)日：2021-12-27

    申请号：JP2020102961

    申请日：2020-06-15

    申请人： 東京エレクトロン株式会社

    发明人： 中村 泰之 ,  田所 真任 ,  榎本 正志

    IPC分类号： B05D3/10 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/027

    摘要： 【課題】基板に形成される被膜の除去幅の調整の迅速化に有効な基板処理装置を提供する。 【解決手段】基板処理装置は、基板の表面に形成された被膜の周縁部分を除去する周縁除去部と、基板の周方向における位置と、基板において被膜が除去された部分の幅との関係を表す除去幅プロファイルを取得するプロファイル取得部と、除去幅プロファイルに基づいて、幅の誤差の要因を示す要因情報を出力する要因推定部と、を備える。 【選択図】図4

    ケミカル溶液のパーティクルモニタリング装置及び方法
    9.
    发明专利
    ケミカル溶液のパーティクルモニタリング装置及び方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021533554A

    公开(公告)日：2021-12-02

    申请号：JP2020543872

    申请日：2020-07-03

    申请人： セミコン テク グローバル リミテッド

    发明人： ホン,スンソク ,  ファン,ミョンファン ,  ジャン,セヒョン

    IPC分类号： B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027

    摘要： 本発明は、ケミカル溶液が収容され、制御部の作業開始信号によって前記ケミカル溶液を供給するケミカル溶液供給装置、前記ケミカル溶液供給装置と繋がって前記ケミカル溶液が供給される第1供給流路、前記第1供給流路と繋がって前記ケミカル溶液を浄化するフィルター、前記フィルターで分岐される分岐流路及びメイン流路、前記分岐流路と繋がって前記分岐流路を開閉するドレインバルブ、前記メイン流路と繋がって前記ケミカル溶液のパーティクル量を感知するパーティクル監視器、及び前記パーティクル監視器から前記ケミカル溶液が供給され、被作業対象物に前記ケミカル溶液を供給するディスペンサー部を含み、前記パーティクル監視器及びディスペンサー部は第2供給流路で繋がって、前記第2供給流路には前記パーティクル監視器からディスペンサー部に供給される前記ケミカル溶液の供給を制御する制御バルブを含むケミカル溶液のパーティクルモニタリング装置を提供する。