公开(公告)号：JP2021521654A

公开(公告)日：2021-08-26

申请号：JP2020569886

申请日：2019-06-14

Applicant: ノヴァ メジャリング インストルメンツ リミテッド ,  NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.

Inventor： ロススタイン・エイタン ,  ルビノヴィッチ・イリヤ ,  タル・ノアム ,  ブリンゴルッツ・バラク ,  キム・ヨンハ ,  ブロイトマン・アリエル ,  コーヘン・オデッド ,  ラビノヴィッチ・エイロン ,  ザハロニ・タル ,  ヨゲヴ・シェイ ,  カンデル・ダニエル

IPC: G03F7/20 ,  G01B11/06 ,  H01L21/66

Abstract: 半導体計測システムは,第1の測定プロトコルを用いて第1の半導体ウェーハ・ターゲット上のベースライン散乱測定スペクトルを収集し,スペクトル変動性のさまざまな所定ソースについて,第2の半導体ウェーハ・ターゲット上の,上記スペクトル変動性を具体化する散乱測定スペクトルの変動セットを収集するように構成されるスペクトル取得ツールと,第2の測定プロトコルを用いて上記第1の半導体ウェーハ・ターゲットのパラメータ値を収集する参照計測ツールと,スペクトルに基づいて製造半導体ウェーハ・ターゲットの値を予測し,かつスペクトル変動項を組み込んだ関連損失関数を最小化するための機械学習を用いる予測モデルをトレーニングするトレーニング・ユニットを備えている。