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1.
公开(公告)号:JP5858496B2
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:JP2013531767
申请日:2011-09-28
Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
Inventor: ゴデット、ルドヴィック , マーティン、パトリック、エム. , オルソン、ジョセフ、シー.
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/317 , H01J37/3056 , H01L21/26586 , H01L21/266 , H01J2237/31796
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2.レジストフィーチャの表面粗度を低減する方法、およびパターニングレジストフィーチャの粗度を修正する方法 有权
Title translation: 如何修改方法,并且该图案化的抗蚀剂粗糙度特征,以减少抗蚀剂特征的表面粗糙度公开(公告)号:JP5773319B2
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:JP2013531679
申请日:2011-09-23
Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
Inventor: ゴデット、ルドヴィック , マーティン、パトリック、エム.
IPC: H01L21/3065 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: C23C16/50 , G03F7/405 , G03F7/7045 , G03F7/70875 , H01J37/32357 , H01J37/32412 , H01J37/32422 , H01L21/0273 , G03F7/427
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