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公开(公告)号：JP6427571B2
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：JP2016531172
申请日：2015-05-11
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G01B15/00 , G01B15/04 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/317 , H01J2237/2817 , H01L22/12
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公开(公告)号：JP2018166043A
公开(公告)日：2018-10-25
申请号：JP2017062505
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス
IPC: H01J27/26 , H01J37/18 , H01J37/317
CPC classification number: H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/18 , H01J37/317
Abstract: 【課題】エミッターの先端の鈍化を抑制することができる集束イオンビーム装置を提供すること。 【解決手段】集束イオンビーム装置は、予め決められた第1期間が経過する毎に、第1加熱装置によってエミッター及びエミッターとともに冷却される筐体の内側の温度を上昇させた後、冷却装置によってエミッターを冷却する第1メンテナンス処理を行う。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP2018152183A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046223
申请日：2017-03-10
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/317 , H01J37/045 , H01J2237/006 , H01J2237/30472
Abstract: 【課題】所望の加工位置以外にイオンビームが照射されることを回避する技術を提供する。 【解決手段】微細構造体の製造方法は、試料へイオンビームを照射する工程(S101)と、試料へガスを供給する工程(S102)と、試料へのガスの供給を停止する工程(S104)と、試料へのイオンビームの照射を停止する工程(S105)と、を有する。そして、イオンビームを照射する工程(S101)はガスを供給する工程(S102)より先に行われる、もしくは、ガスの供給を停止する工程(S104)はイオンビームの照射を停止する工程(S105)より先に行われる。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6371780B2
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2015561694
申请日：2014-03-07
Applicant: ザイレコ,インコーポレイテッド
Inventor： メドフ,マーシャル , マスターマン,トーマス クレイグ , パラディス,ロバート
CPC classification number: B01D61/445 , B01D15/02 , B01D53/32 , B01D61/44 , B01J19/085 , B01J2219/0869 , B01J2219/0879 , B01J2219/0886 , B65G27/00 , B65G53/04 , B65G53/40 , C07C29/149 , C07C31/12 , C10G1/00 , C10L1/023 , C10L1/026 , C10L9/08 , C10L2200/0469 , C10L2200/0476 , C10L2290/36 , C12M47/00 , C12M47/10 , C12P7/04 , C12P7/06 , C12P7/10 , C12P7/52 , C12P7/56 , C12P19/02 , C12P19/14 , C12P2201/00 , C12P2203/00 , C13K1/02 , C13K13/002 , D21C9/007 , E04B1/92 , E04B2001/925 , G21F7/00 , H01J37/317 , H01J2237/202 , H01J2237/31 , H01J2237/3165 , Y02E50/16 , Y02E50/17 , Y02E50/30 , Y02E50/32 , Y02E50/343 , Y02E60/17 , Y02P20/136 , Y02W10/33 , Y02W10/37
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公开(公告)号：JP2018118247A
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：JP2018033050
申请日：2018-02-27
Applicant: ザイレコ,インコーポレイテッド
Inventor： メドフ,マーシャル , マスターマン,トーマス,クレイグ , パラディス,ロバート
CPC classification number: B01D61/445 , B01D15/02 , B01D53/32 , B01D61/44 , B01J19/085 , B01J2219/0869 , B01J2219/0879 , B01J2219/0886 , B65G27/00 , B65G53/04 , B65G53/40 , C07C29/149 , C07C31/12 , C10G1/00 , C10L1/023 , C10L1/026 , C10L9/08 , C10L2200/0469 , C10L2200/0476 , C10L2290/36 , C12M47/00 , C12M47/10 , C12P7/04 , C12P7/06 , C12P7/10 , C12P7/52 , C12P7/56 , C12P19/02 , C12P19/14 , C12P2201/00 , C12P2203/00 , C13K1/02 , C13K13/002 , D21C9/007 , E04B1/92 , E04B2001/925 , G21F7/00 , H01J37/317 , H01J2237/202 , H01J2237/31 , H01J2237/3165 , Y02E50/16 , Y02E50/17 , Y02E50/30 , Y02E50/32 , Y02E50/343 , Y02E60/17 , Y02P20/136 , Y02W10/33 , Y02W10/37
Abstract: 【課題】バイオマスなどの材料を加工するための装置の提供。 【解決手段】電子ビームを用いて、木材、パーティクルボード、おがくず、農業廃棄物、下水汚物、サイレージ、牧草、籾殻、バガス、綿、ジュート、麻、亜麻、竹、サイザル、マニラ麻、麦わら、トウモロコシの穂軸、トウモロコシの葉茎、スイッチグラス、アルファルファ、干し草、ココナッツの毛、海藻、藻類、およびこれらの混合物からなる群から選択されるバイオマス材料に照射するための、第一の電子ビーム装置を備える第一の処理セルと、第一の処理セルからバイオマス材料を冷却および運搬するためのスクリューコンベヤと、を備える装置。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6359351B2
公开(公告)日：2018-07-18
申请号：JP2014122959
申请日：2014-06-16
Applicant: エフ・イ−・アイ・カンパニー
Inventor： リチャード・ジェイ・ヤング
IPC: H01J37/317 , G01N1/28
CPC classification number: H01J37/317 , G01N1/32 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J37/3178 , H01J2237/2802 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
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公开(公告)号：JPWO2016121471A1
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2016571906
申请日：2016-01-12
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/22 , G01N23/225 , H01J37/244 , H01J37/252 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC classification number: G01N23/14 , G01N23/225 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/252 , H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 本発明の目的は、分析画像の取得時間を大幅に低減することに関する。本発明は、加工面の二次粒子像と分析画像の相関に基づき、所望の加工面の二次粒子像(111−114)から分析画像を擬似的に形成することに関する。好ましくは、実際に取得された分析画像(121−122)と、擬似的に形成された分析画像(131−132)に基づき、三次元像を再構築する。本発明によれば、加工面ごとに分析画像を取得すること無く、三次元再構成に必要な多数の分析画像を短時間で取得できるため、解析効率が向上する。また、試料への電子ビームによるダメージを低減でき、解析の信頼性も向上する。
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公开(公告)号：JPWO2016129026A1
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：JP2016574532
申请日：2015-02-09
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01J37/28 , H01J27/26 , H01J37/29 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/29 , H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/22 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 本発明のミラーイオン顕微鏡は、ガス電界電離イオン源(1)から発生したイオンビームを試料(9)に照射する照射光学系(5,7,8)と、イオンビームの加速電圧と試料に印加する正電位とを制御する電位制御部と、試料から反射したイオンを顕微鏡像として結像または投射するイオン検出光学系(7,51,52)と、検出部(53)とを有する。電位制御部は、試料にイオンビームを衝突させる第一の正電位と試料にイオンビームを衝突させる前に反射させる第二の正電位とを設定できる。そのため、第一の正電位を設定することにより、試料表面をスパッタし、第二の正電位を設定することにより。顕微鏡像を得ることができる。これにより、超高解像度で高速の観察や検査が可能なイオン顕微鏡が実現できる。
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公开(公告)号：JPWO2016002719A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016531360
申请日：2015-06-29
Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス
IPC: G01N1/28 , G01N1/00 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC classification number: G01N1/44 , G01N1/28 , H01J37/31 , H01J37/317
Abstract: 荷電粒子ビーム装置(10a)は、少なくとも試料片ホルダ(P)、ニードル(18)、および試料片(Q)の予め取得した複数の荷電粒子ビームによる画像を基にして、試料片Qを予め定めた試料片ホルダPの位置に移設するよう複数の荷電粒子ビーム照射光学系とニードル(18)とガス供給部(17)を制御するコンピュータ(21)を備える。
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公开(公告)号：JP2016146237A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2015021772
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/317 , H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/30
CPC classification number: H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 【課題】本発明は、複合荷電粒子線装置において、試料の近傍に適切な電界分布を形成することにより、一方の荷電粒子線装置の照射系性能を損なうことなく、他方の荷電粒子線装置の光学系性能を維持する技術を提供する。 【解決手段】複合荷電粒子線装置は、第1の荷電粒子ビームカラムと、減速光学系を備え、カラム内に検出器を備える第2の荷電粒子ビームカラムと、試料を搭載する試料台と、前記第1の荷電粒子ビームカラムの先端部の周辺に設けられた電界補正電極とを備える。前記電界補正電極は、前記試料の近傍に形成される電界分布を補正する電極であり、前記電界補正電極は、前記試料と前記第1の荷電粒子ビームカラムとの間で、かつ、前記第1の荷電粒子ビームカラムの光軸に対して前記第二の荷電粒子ビームカラムの反対側に位置する。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于维持另一带电粒子束装置的光学系统性能的技术，而不会通过在复合带电粒子束装置中在样本附近形成适当的电荷分布来破坏一个带电粒子束装置的辐射系统性能。 解决方案：复合带电粒子束装置包括：第一带电粒子束柱; 第二带电粒子束柱，包括减速光学系统，并且还包括柱中的检测器; 安装样品的样品台; 以及设置在第一带电粒子束柱的前端部附近的场校正电极。 场校正电极校正样品附近形成的电场分布，并且位于样品和第一带电粒子束柱之间，并且相对于第一带电粒子的光轴位于与第二带电粒子束柱相反的一侧 梁柱。选择图：图1
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