公开(公告)号：JP2018169172A

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：JP2017064342

申请日：2017-03-29

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 松野 年伸

IPC: G01N27/447

Abstract: 【課題】簡易な構造により、複数の成分を互いに分離することができる電気泳動装置を提供する。 【解決手段】電気泳動装置(100)は、試料(80)を展開するための展開面(11)を有する基板(10)と、基板(10)に配置された1対の主電極(20)と、1対の主電極(20)の間において展開面(11)に配置され、1対の主電極(20)によって形成される電界の方向(X)に沿って並べられており、それぞれ独立して電圧を印加することが可能な複数の補助電極(30)と、を備える。複数の補助電極(30)は、電界の方向(X)と、電界の方向に直交する方向(Y)との両方向にマトリクス状に並んでいる。1対の主電極(20)は、展開面(11)の一端部(11a)と他端部(11b)とに配置されている。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2017057719A

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：JP2015180249

申请日：2015-09-14

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 平岡 牧 ,  田中 浩之 ,  山中 利徳 ,  山田 晃久 ,  松野 年伸 ,  菱田 光起

IPC: B81B3/00 ,  F04B43/02

Abstract: 【課題】マイクロ流路チップに統合可能な、物質輸送量の正確なダイアフラムポンプを提供すること。 【解決手段】基板層と、基板層の上に位置されるダイアフラム層と、ダイアフラム層の上に位置する天板層と、基板層と、ダイアフラム層との間に位置するポンプ室とを備え、基板層は、ポンプ室と接続され、ポンプ室に液体を導入するための導入流路と、ポンプ室と接続され、ポンプ室から液体を排出するための排出流路とを有し、ダイアフラム層は、上面と基板層の表面と固定される下面とを有する固定部と、ポンプ層と、固定部及びポンプ層の間に位置し、固定部及びポンプ層を接続する変形部とを有し、天板層は、固定部の上面と固定されるフレームと、上面とポンプ層の上面と固定される下面とを有する天板と、フレーム及び天板の間に位置し、フレーム及び天板を接続するばねとを有する。 【選択図】図1C

公开(公告)号：JPWO2018123476A1

公开(公告)日：2019-10-31

申请号：JP2017043720

申请日：2017-12-06

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 坂本 俊裕 ,  松野 年伸

IPC: G01N30/88 ,  G01N30/92

Abstract: 薄層クロマトグラフィープレートは、基板と、分離層とを備えている。分離層は、基板の上に配置され、試料に含まれた複数の成分を互いに分離するように構成されている。また、分離層は、第1層と、第2層とを含む。第1層は、多孔質構造を有し、第1方向に延びている。第2層は、多孔質構造を有し、第1方向に延びている。第1層及び第2層は、第1方向に直交する第2方向に配列されている。第1層のゼータ電位が第2層のゼータ電位と異なる。

公开(公告)号：JP5866577B2

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：JP2015514686

申请日：2014-07-14

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 金森 克洋 ,  松野 年伸 ,  塩野 照弘

IPC: H01L27/14 ,  G02B5/20 ,  G02B5/30 ,  G03B11/00 ,  G03B35/08 ,  G03B15/00 ,  G02B5/28

CPC classification number: H01L27/14621 ,  G02B26/001 ,  G02B5/3058 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14643

公开(公告)号：JP2019082341A

公开(公告)日：2019-05-30

申请号：JP2017208589

申请日：2017-10-27

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 松野 年伸 ,  坂本 俊裕

IPC: G01N27/447

Abstract: 【課題】pH勾配のpH階調の数を増やした場合であっても、製造プロセスが複雑になるのを抑制することができる電気泳動支持体を提供する。 【解決手段】電気泳動支持体8は、多孔質状に形成された担体20であって、領域40と、領域40に隣接して配置された領域42とが上面24に形成された担体20と、試料4の第1の等電点に対応する第1のpHを形成するための金属酸化膜26であって、領域40に配置され、第1の金属酸化物で形成された金属酸化膜26と、試料4の第2の等電点に対応する第2のpHを形成するための金属酸化膜28であって、領域42に配置され、第1の金属酸化物で形成された金属酸化膜28とを備える。金属酸化膜26の厚みD1は、金属酸化膜28の厚みD2と異なる。 【選択図】図4

公开(公告)号：JP2019082339A

公开(公告)日：2019-05-30

申请号：JP2017208556

申请日：2017-10-27

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 松野 年伸 ,  坂本 俊裕

IPC: G01N27/447

Abstract: 【課題】pH勾配のpH階調の数を増やした場合であっても、製造プロセスが複雑になるのを抑制することができる電気泳動支持体を提供する。 【解決手段】電気泳動支持体8は、多孔質状に形成された担体20であって、領域40と、領域52と、領域40と領域52との間に配置された領域42とが表面に形成された担体20と、試料4の第1の等電点に対応する第1のpHを形成するための金属酸化膜26であって、領域40に配置され、第1の金属酸化物で形成された金属酸化膜26と、試料4の第2の等電点に対応する第2のpHを形成するための金属酸化膜38であって、領域52に配置され、第2の金属酸化物で形成された金属酸化膜38と、試料4の第3の等電点に対応する第3のpHを形成するための金属酸化膜28であって、領域42に配置され、第1の金属酸化物及び第2の金属酸化物で形成された金属酸化膜28とを備える。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2017056545A

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：JP2016146505

申请日：2016-07-26

Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社

Inventor： 平岡 牧 ,  菱田 光起 ,  山田 晃久 ,  山中 利徳 ,  松野 年伸

IPC: G01N37/00 ,  F16K15/04 ,  B81B5/00

CPC classification number: F16K99/0057 ,  B01L3/502738 ,  F04B43/043 ,  F16K99/0023 ,  B01L2300/0874 ,  B01L2300/0883 ,  B01L2400/0481 ,  B01L2400/0616 ,  F16K2099/0084

Abstract: 【課題】 マイクロ流路デバイスと接続され、逆流量の少なく、チップごとの動作ばらつきの少ないマイクロ逆止弁装置を提供する。 【解決手段】 マイクロ流路デバイスと接続されるマイクロ逆止弁装置100であって、基板101と、前記基板の内部に位置し、突起11を有する上面と、下部に位置するテーパー部10aとを有するチャンバー10と、前記チャンバーの側面に接続されるマイクロ排出流路102と、前記チャンバーのテーパー部に接続されるマイクロ導入流路103と、前記テーパー部に位置する球体バルブ200とを備える。 【選択図】図1B