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公开(公告)号：JP2019518859A
公开(公告)日：2019-07-04
申请号：JP2018567678
申请日：2017-06-21
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： ケッペラー,ウヴェ , バルトル,ユルゲン , アーレルス,ユルゲン , デシュライン,クリスティアン , グートマン,ペーター , プリソク,フランク
IPC分类号： C08J9/18
摘要： ポリアミドセグメントを有する熱可塑性エラストマーから成る発泡粒子の製造方法であって、下記段階: (a)懸濁液媒体中の前記熱可塑性エラストマーのペレットの懸濁液の製造、 (b)発泡剤の添加、 (c)含浸圧IMPにおける、含浸温度IMTまでの、圧力容器内での前記懸濁液の加熱による、前記発泡剤を用いた前記ペレットの含浸、 減圧装置を用いた前記圧力容器からの排出による前記懸濁液の減圧、及び、得られた発泡粒子の後処理を含む製造方法、及びまた、当該製造方法により得られた発泡粒子。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6496722B2
公开(公告)日：2019-04-03
申请号：JP2016524415
申请日：2014-10-17
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： グートマン,ペーター , デシュライン,クリスティアン , アーレルス,ユルゲン , マルテン,エルケ , カミンスキー,トルベン , ケムプフェルト,ディック
IPC分类号： C08J9/12
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公开(公告)号：JP6386543B2
公开(公告)日：2018-09-05
申请号：JP2016518996
申请日：2014-06-11
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , グートマン,ペーター , プリソク,フランク , ケッペラー,ウヴェ , アーレルス,ユルゲン
CPC分类号： B29C44/3461 , B29B7/88 , B29B7/90 , B29B9/06 , B29B9/065 , B29B9/12 , B29B9/14 , B29C44/04 , B29C47/0011 , B29C47/0014 , B29C47/86 , B29K2021/003 , B29K2077/00 , B29K2105/0085 , B29K2105/16 , B29K2995/007 , B29K2995/0082 , C08J9/0066 , C08J9/122 , C08J9/16 , C08J9/34 , C08J2201/03 , C08J2203/06 , C08J2300/22 , C08J2300/26 , C08J2377/06
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公开(公告)号：JP6651441B2
公开(公告)日：2020-02-19
申请号：JP2016521984
申请日：2014-10-09
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , グートマン,ペーター , アーレルス,ユルゲン
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公开(公告)号：JP2019518849A
公开(公告)日：2019-07-04
申请号：JP2018564814
申请日：2017-05-31
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラウター,ミヒャエル , ロイニッセン,レオナルドゥス , ガルシア ロメロ,イヴァン , ゲヴェンク,ハチ オスマン , プルジビルスキ,ペーター , プレルス,ユリアン , クリップ,アンドレアス
IPC分类号： C11D3/37 , H01L21/304 , C11D1/722
摘要： 化学機械研磨後(CMP後)洗浄組成物であって、 (A)一般式(I)の1種以上の水溶性非イオン性コポリマー及びその混合物 【化1】 (式中、R 1 及びR 3 は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、又はsec−ブチルであり、R 2 は、メチルであり、x及びyは、整数である)、 (B)最大で10,000g/molの質量平均モル質量(Mw)を有するポリ(アクリル酸)(PAA)又はアクリル酸−マレイン酸コポリマー、及び (C)水、 を含むか又はそれらからなり、組成物のpHは7.0〜10.5の範囲内である、組成物が開示される。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2019502803A
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2018533247
申请日：2016-12-20
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラウター,ミヒャエル , プルジビルスキ,ペーター , プレルス,ユリアン , クリップ,アンドレアス , グェヴェンク,ハチ オスマン , ロイニッセン,レオナルドゥス , バオマン,レルフ−ペーター , ウェイ,トー ユイ
IPC分类号： H01L21/304 , C11D7/22
摘要： (A) 400から8,000g/molの範囲内の質量平均分子量(Mw)を有するポリエチレングリコール(PEG)、 (B) ポリ(アクリル酸)(PAA)、アクリル酸−マレイン酸コポリマー、ポリアスパラギン酸(PASA)、ポリグルタミン酸(PGA)、ポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリ(スチレンスルホン酸)、ポリカルボキシレートエーテル(PCE)、PEG−亜リン酸、および該ポリマーのコポリマー、からなる群から選択されるアニオン性ポリマー、ならびに (C) 水 を含むまたはそれらからなり、 pHが7.0から10.5の範囲内である 化学機械研磨後(CMP後)の洗浄組成物について記載されている。
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公开(公告)号：JP2019502802A
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2018533238
申请日：2016-12-20
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラウター,ミヒャエル , プルジビルスキ,ピョートル , プレルス,ユリアン , クリップ,アンドレアス , グェヴェンク,ハチ オスマン , ロイニッセン,レオナルドゥス , バオマン,レルフ−ペーター , ウェイ,トー ユイ
IPC分类号： H01L21/304 , C11D7/22
摘要： (A) ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(PHE(M)A)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルアルコール(PVA)、式(I) 【化1】 (式中、R1が、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチル、またはsec−ブチル、R2が、水素またはメチル、nが、整数である) のポリマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、1種または複数種の非イオン性ポリマー、 (B) 質量平均分子量(Mw)が10,000g/molまでのポリ(アクリル酸)(PAA)またはアクリル酸−マレイン酸コポリマー、ならびに (C) 水 を含むまたはそれらからなり、 pHが7.0から10.5の範囲内である 化学機械研磨後(CMP後)の洗浄組成物について記載されている。
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公开(公告)号：JP6949846B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2018533247
申请日：2016-12-20
申请人： ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラウター,ミヒャエル , プルジビルスキ,ペーター , プレルス,ユリアン , クリップ,アンドレアス , グェヴェンク,ハチ オスマン , ロイニッセン,レオナルドゥス , バオマン,レルフ−ペーター , ウェイ,トー ユイ
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/36 , H01L21/304
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公开(公告)号：JP6886469B2
公开(公告)日：2021-06-16
申请号：JP2018533238
申请日：2016-12-20
申请人： ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラウター,ミヒャエル , プルジビルスキ,ピョートル , プレルス,ユリアン , クリップ,アンドレアス , グェヴェンク,ハチ オスマン , ロイニッセン,レオナルドゥス , バオマン,レルフ−ペーター , ウェイ,トー ユイ
IPC分类号： H01L21/304 , C11D7/22
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公开(公告)号：JP2021504953A
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2020528315
申请日：2018-11-12
申请人： ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエア , BASF SE
发明人： デシュライン,クリスティアン , ジーベルト,マクス , ラン,ヨンチン , ラウター,ミヒャエル , ウスマン イブラヒム,シェイク アンサール , ゴルザリアン,レザ エム , ウェイ,トーユイ , グェヴェンク,ハチ オスマン , プレルス,ユリアン , ロイニッセン,レオナルドゥス
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本請求主題は、無機粒子、アミノ基及び/又は少なくとも1つの酸性基(Y)を含む少なくとも1種の有機化合物、過硫酸カリウム、コバルト及び/又はコバルト合金並びにTiN及び/又はTaNを含む、半導体産業の基板を研磨するための少なくとも1つの腐食防止剤及び水性媒体を含む化学機械研磨(CMP)組成物に関する。
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