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1.发明专利沈降シリカの新規製造方法、特定の形態、特定の粒度及び特定の多孔度を有する沈降シリカ並びに特に重合体の強化のためのそれらの使用 有权一个新的制造如何沉淀二氧化硅，一种特殊形式，其用于增强使用沉淀二氧化硅和特别是聚合物具有特定的颗粒尺寸和孔隙率的具体
公开(公告)号：JP5680971B2
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：JP2010550156
申请日：2009-03-09
发明人： エマニュエル・アラン , ジュリアン・エルナンデス , リオネル・ヴェンテロン , ローラン・ギー , マルク・エリオ
IPC分类号： C01B33/193 , C08K3/36 , C08L101/00
CPC分类号： C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
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公开(公告)号：JP5628920B2
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：JP2012527318
申请日：2010-09-02
发明人： エマニュエル・アラン
IPC分类号： C01B33/193
CPC分类号： C01B33/193
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公开(公告)号：JP2013503806A
公开(公告)日：2013-02-04
申请号：JP2012527318
申请日：2010-09-02
发明人： エマニュエル・アラン
IPC分类号： C01B33/193
CPC分类号： C01B33/193
摘要： 本発明は、沈降シリカの製造方法であって、（ｉ）２〜５のｐＨを有する水性原料を形成させ、（ii）反応媒体のｐＨを２〜５に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、（iii）珪酸塩をｐＨ値が７〜１０になるまで添加し、（iv）ｐＨを７〜１０に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、（ｖ）酸をｐＨが２．５〜５．３となるまで添加し、（vi）該反応媒体と該酸及び該珪酸塩とを、ｐＨを２．５〜５．３に維持するように接触させ、（vii）ｐＨを４．７〜６．３にまで上昇させるように珪酸塩を添加することからなる。
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公开(公告)号：JP2011513189A
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：JP2010550156
申请日：2009-03-09
发明人： エマニュエル・アラン , ジュリアン・エルナンデス , マルク・エリオ , リオネル・ヴェンテロン , ローラン・ギー
IPC分类号： C01B33/193 , C08K3/36 , C08L101/00
CPC分类号： C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
摘要： 本発明は、沈降シリカの製造方法、大きなシリカ一次粒子の表面に小さなシリカ一次粒子が存在する凝集体を含む沈降シリカに関するものである。 該シリカは、６０〜４００ｍ
2 ／ｇのＣＴＡＢ比表面積（Ｓ
CTAB ）、ｄ５０（ｎｍ）＞（６２１４／Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））＋２３である、超音波解凝集後にＸＤＣ粒度測定により測定される凝集体のｄ５０メジアン径、Ｖ
(d5-d50) ／Ｖ
(d5-d100) ＞０．９０６−（０．００１３×Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））である細孔容積分布、及びモード（ｎｍ）＞（４１６６／Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））−９．２である細孔径分布を有する。 また、本発明は、該シリカの、重合体用補強充填剤としての使用に関するものでもある。
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