公开(公告)号：JP5680971B2

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：JP2010550156

申请日：2009-03-09

申请人： ロディア オペレーションズRhodia Operations ,  ロディア オペレーションズRhodia Operations

发明人： エマニュエル・アラン ,  ジュリアン・エルナンデス ,  リオネル・ヴェンテロン ,  ローラン・ギー ,  マルク・エリオ

IPC分类号： C01B33/193 ,  C08K3/36 ,  C08L101/00

CPC分类号： C01B33/193 ,  C01B33/12 ,  Y10T428/2982

公开(公告)号：JP2011513189A

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：JP2010550156

申请日：2009-03-09

申请人： ロディア オペレーションズRhodia Operations

发明人： エマニュエル・アラン ,  ジュリアン・エルナンデス ,  マルク・エリオ ,  リオネル・ヴェンテロン ,  ローラン・ギー

IPC分类号： C01B33/193 ,  C08K3/36 ,  C08L101/00

CPC分类号： C01B33/193 ,  C01B33/12 ,  Y10T428/2982

摘要： 本発明は、沈降シリカの製造方法、大きなシリカ一次粒子の表面に小さなシリカ一次粒子が存在する凝集体を含む沈降シリカに関するものである。 該シリカは、６０〜４００ｍ
2 ／ｇのＣＴＡＢ比表面積（Ｓ
CTAB ）、ｄ５０（ｎｍ）＞（６２１４／Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））＋２３である、超音波解凝集後にＸＤＣ粒度測定により測定される凝集体のｄ５０メジアン径、Ｖ
(d5-d50) ／Ｖ
(d5-d100) ＞０．９０６−（０．００１３×Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））である細孔容積分布、及びモード（ｎｍ）＞（４１６６／Ｓ
CTAB （ｍ
2 ／ｇ））−９．２である細孔径分布を有する。 また、本発明は、該シリカの、重合体用補強充填剤としての使用に関するものでもある。