量子ドットの製造方法
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021155660A

    公开(公告)日:2021-10-07

    申请号:JP2020059887

    申请日:2020-03-30

    Abstract: 【課題】 大スケールの合成において量子ドットの粒子径の不均一性およびそれに伴う発光波長の分布の増大を抑制することができる量子ドットの製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 結晶性ナノ粒子蛍光体である量子ドットの製造方法であって、互いに異なる元素を含む第一の前駆体溶液及び第二の前駆体溶液を用い、加熱した第一の前駆体溶液に、第二の前駆体溶液をエアロゾルとして噴霧するか、又は、加熱した溶媒に第一の前駆体溶液及び第二の前駆体溶液の両方ともをそれぞれエアロゾルとして噴霧して、第一の前駆体溶液と第二の前駆体溶液とを反応させて互いに異なる元素を含むコア粒子を合成する量子ドットの製造方法。 【選択図】図1

    研磨組成物及びその製造方法並びに研磨方法
    8.
    发明专利
    研磨組成物及びその製造方法並びに研磨方法 审中-公开
    抛光组合物及其制备方法和抛光方法

    公开(公告)号:JP2017005050A

    公开(公告)日:2017-01-05

    申请号:JP2015115739

    申请日:2015-06-08

    CPC classification number: B24B37/00 C09K3/14 H01L21/304

    Abstract: 【課題】内周部だけでなく外周部の平坦性も高く、金属不純物による汚染が少ない半導体基板を、生産性良く得ることが可能な研磨組成物を提供する。 【解決手段】砥粒として酸化ジルコニウムを含む研磨組成物であって、pHが11.0以上12.5未満のものであり、前記酸化ジルコニウム中に含まれるナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、カリウム、カルシウム、チタン、クロム、鉄、マンガン、ニッケル、銅、亜鉛、鉛、及びコバルトの元素の濃度がそれぞれ1ppm未満のものであることを特徴とする研磨組成物。 【選択図】 図1

    Abstract translation: 外周部的内周部的平坦度更高,以及,由金属杂质污染半导体基板以下,是提供一种能够以高生产率得到的抛光组合物。 本发明涉及一种包括氧化锆作为磨粒的研磨组合物,pH值是小于11.0〜12.5,包含在氧化锆,镁,铝,钾,钙,钛,铬钠, 铁,锰,镍,铜,锌,抛光组合物其特征在于:引线和钴元素的浓度分别为低于1ppm。 点域1

    コアシェル型量子ドット及びコアシェル型量子ドットの製造方法

    公开(公告)号:JP2021084839A

    公开(公告)日:2021-06-03

    申请号:JP2019216307

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 【課題】 第III−V族半導体ナノ結晶をコアとして用いた量子ドットの蛍光発光効率を向上することを目的とする。 【解決手段】 少なくともIn及びPを含み、第III−V族元素を構成元素とする半導体ナノ結晶コアと、前記半導体ナノ結晶コアを被覆する、第II−VI族元素を構成元素とする単一又は複数の半導体ナノ結晶シェルとを含むコアシェル型量子ドットであって、前記半導体ナノ結晶コアと前記半導体ナノ結晶シェルとの間に、第II−V族元素を構成元素とする半導体ナノ結晶を含むバッファー層を有するコアシェル型量子ドット。 【選択図】図1

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