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公开(公告)号：JPWO2017026377A1
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2017534402
申请日：2016-08-04
Applicant: 国立大学法人山口大学 , 明和化成株式会社
Abstract: 微細加工に有用な化学増幅型レジストを形成するためのフォトレジスト材料として有用であり、安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度で、ラフネスが小さく、かつ良好なレジストパターン形状を与える環状化合物、その製造方法、該環状化合物を含むフォトレジスト組成物及びその製造方法、並びに該組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。該環状化合物は、一般式(1)で表されることを特徴とする。
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3.发明专利ノボラック型フェノール樹脂及びその製造方法、フォトレジスト組成物、エポキシ化ノボラック型フェノール樹脂、エポキシ樹脂組成物並びに硬化物 审中-公开NOVOLAC型酚醛树脂及其制备方法，光刻胶组合物，环氧化型NOVOLAC型酚醛树脂，环氧树脂组合物和固化产品
公开(公告)号：JP2015196709A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2014073917
申请日：2014-03-31
Applicant: 独立行政法人国立高等専門学校機構 , 明和化成株式会社
Abstract: 【課題】柔軟性、耐熱性及び溶解性などが良好であって、様々な用途に好適に使用することができるノボラック型フェノール樹脂及びその製造方法を提供する。 【解決手段】式(1)で表される化合物を含有し、Aは式(2−1)又は特定式で表される官能基からなり、Bは別の特定式で表される官能基からなるノボラック型フェノール樹脂。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供柔软性，耐热性，溶解性等优异的酚醛清漆型酚醛树脂，可适用于各种用途及其制造方法。酚醛清漆型酚醛树脂包括 由式（1）表示的化合物，A包含由式（2-1）表示的官能团或具体式，B包含由另一具体式表示的官能团。
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公开(公告)号：JP2021039302A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019161966
申请日：2019-09-05
Applicant: 明和化成株式会社
Abstract: 【課題】密着性に優れ、耐ドライエッチング性の高いレジストパターンを形成できるフォトレジスト組成物、及びそれに用いられるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供する。 【解決手段】5〜95質量%の第1の成分と、95〜5質量%の第2の成分とを含有するフォトレジスト用フェノール樹脂組成物であって、第1の成分は、質量平均分子量が5000以上のノボラック型フェノール樹脂(A)のみからなり、第2の成分は、一般式(2)で表されるフルオレン化合物(B)からなり、(A)は、メタ置換体のモル数は、メタ置換体とパラ置換体の合計モル数の50%以下であるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物。 (一般式(2)中、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立に水酸基又は炭素数1〜5のアルキル基であり、j及びkは、それぞれ独立に0〜3の整数である。) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2015196707A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2014073903
申请日：2014-03-31
Applicant: 明和化成株式会社
Abstract: 【課題】高耐熱、高感度、高残膜率及び高解像度をバランスよく有し、コストを抑えたフォトレジスト組成物の製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂、その製造方法及びそれを用いたフォトレジスト組成物を提供する。 【解決手段】フェノール成分(a)と、アルデヒド成分(b)と、フェノール樹脂成分(c)とを縮重合反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、前記フェノール成分(a)が、m−クレゾール及びp−クレゾールを含むアルキルフェノール類(a1)からなり、前記アルデヒド成分(b)が、ホルムアルデヒド(b1)からなり、前記フェノール樹脂成分(c)が、フェノール(c1)とホルムアルデヒド(c2)とを縮重合反応して得られたフェノール樹脂(c3)からなることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂、その製造方法及びそれを用いたフォトレジスト組成物である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供酚醛清漆型酚醛树脂和能够以良好平衡生产具有高耐热性，高灵敏度，高膜残留率和高分辨率的光致抗蚀剂组合物的酚醛清漆型酚醛树脂的制备方法， 抑制成本，以及使用酚醛树脂的光致抗蚀剂组合物。溶液：酚醛组分（a），醛组分（b）和酚醛树脂组分（c）的缩聚反应获得酚醛清漆型酚醛树脂， 。 酚组分（a）包括烷基酚（a1），包括间甲酚和对甲酚; 醛组分（b）包含甲醛（b1）; 酚醛树脂组分（c）包含通过苯酚（c1）和甲醛（c2）的缩聚反应获得的酚醛树脂（c3）。 还公开了上述酚醛清漆型酚醛树脂的制备方法和使用该树脂的光致抗蚀剂组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2020148825A
公开(公告)日：2020-09-17
申请号：JP2019043984
申请日：2019-03-11
Applicant: 明和化成株式会社
Inventor： 黒岩 貞昭
Abstract: 【課題】密着性に優れるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物を提供する。 【解決手段】一般式(1)で示されるノボラック型フェノール樹脂(A)とアリーレン骨格を有するユニットを構造中に含むノボラック型フェノール樹脂(B)とを(A)と(B)との質量比が5〜95:95〜5となる量で含むフォトレジスト組成物。 (一般式(1)中、R 1 は、水素原子、又は炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基を表し、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、R 1 の少なくとも一つは炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である。pは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。qは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、p+q≦4である。) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2015196706A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2014073899
申请日：2014-03-31
Applicant: 明和化成株式会社
Inventor： 黒岩 貞昭
Abstract: 【課題】高耐熱、高感度、高残膜率及び高解像度を有するフォトレジスト組成物の製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂の製造方法、ノボラック型フェノール樹脂、及びフォトレジスト組成物の提供。 【解決手段】ナフトール類(a1)、クレゾール類(b1)及びホルムアルデヒド類(c1)を反応させて式1で表される三核体を10〜80質量%含む中間反応物を得る第1工程と、 第1工程で得られた中間反応物中の未反応ナフトール類(a1)の含有量を10質量%以下まで、未反応ナフトール類を除去する第2工程と、第2工程で処理された中間反応物、クレゾール類(b2)及びホルムアルデヒド類(c2)を反応させてノボラック型フェノール樹脂を得る第3工程とを備えた製造方法。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供能够制造具有高耐热性，高灵敏度，高膜残留率和高分辨率的光致抗蚀剂组合物的酚醛清漆型酚醛树脂的制造方法，可以使用酚醛清漆型酚醛树脂和光致抗蚀剂组合物 溶液：制造方法包括：使萘酚（a1），甲酚（b1）和甲醛（c1）反应的第一步骤，得到含有式1所示的三核化合物的中间体反应产物10〜80质量％ 除去未反应的萘酚，直至第一工序得到的中间体反应产物中的未反应的萘酚（a1）的含量为10质量％以下的第二工序; 和使第二工序中处理的中间反应产物与甲酚（b2）和甲醛（c2）反应的第三步骤，得到酚醛清漆型酚醛树脂。
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