公开(公告)号：JP5662645B2

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：JP2009026567

申请日：2009-02-06

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 佐藤　浩正 ,  浩正 佐藤 ,  正純 廣瀬 ,  正純 廣瀬

IPC: C08G18/65 ,  C09D7/12 ,  C09D175/02 ,  C09D183/10

公开(公告)号：JP5629640B2

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：JP2011105025

申请日：2011-05-10

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 佐藤　浩正 ,  浩正 佐藤 ,  基昭 梅津 ,  基昭 梅津 ,  正純 廣瀬 ,  正純 廣瀬 ,  匠太 飯野 ,  匠太 飯野 ,  河村　亮 ,  亮 河村 ,  嶋中　博之 ,  博之 嶋中 ,  賀一 村上 ,  賀一 村上

IPC: C08L101/02 ,  C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08J3/24 ,  C08L75/04

公开(公告)号：JP5478224B2

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：JP2009275621

申请日：2009-12-03

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  正純 ▲広▼瀬 ,  基昭 梅津 ,  博之 嶋中 ,  賀一 村上

IPC: B41M5/382 ,  B41M5/40

公开(公告)号：JP5345277B2

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：JP2006150804

申请日：2006-05-31

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  裕明 小林 ,  明弘 渡辺 ,  賢一 高橋 ,  和行 花田

IPC: C08J7/04 ,  B32B7/02 ,  B32B27/18 ,  C08G18/40 ,  C08G18/61 ,  C09D5/00 ,  C09D175/04 ,  C09D183/10 ,  C09K3/16

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic film excellent in static prevention, transparency, solvent resistance, waterproof property, printing aptitude, sliding property, processability, close adhesion with a substrate film, etc., and coating for forming the antistatic layer. SOLUTION: This antistatic film consisting of the substrate film and the antistatic layer installed on at least one of the surfaces of the substrate film is characterized in that the antistatic layer is formed by containing (A) a resin having an active hydrogen group in its molecule, (B) a resin consisting of an ion-conductive polymer and a supporting electrolytic salt and (C) a polyisocyanate as film-forming components. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP5065598B2

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：JP2006007456

申请日：2006-01-16

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  明弘 渡辺 ,  晃男 秋田 ,  和行 花田 ,  賢一 高橋

IPC: C08G18/61

公开(公告)号：JP4851292B2

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：JP2006277203

申请日：2006-10-11

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  裕明 小林 ,  和行 花田 ,  賢一 高橋 ,  克俊 鳥井

IPC: B32B27/40 ,  C09J7/02 ,  G02B5/30

公开(公告)号：JP4802136B2

公开(公告)日：2011-10-26

申请号：JP2007105138

申请日：2007-04-12

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  明弘 渡辺 ,  和行 花田 ,  賢一 高橋

IPC: A61K8/898 ,  A61K8/02 ,  A61K8/84 ,  A61Q1/02 ,  A61Q19/00

公开(公告)号：JP4611665B2

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：JP2004149279

申请日：2004-05-19

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  千也 木村 ,  和行 花田

IPC: C09D175/04 ,  C09K3/00 ,  C08G18/10 ,  C08G18/30 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D127/12 ,  C09D183/04

公开(公告)号：JP3990235B2

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：JP2002246050

申请日：2002-08-27

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 浩正 佐藤 ,  和行 花田 ,  賢一 高橋

IPC: C08L75/04 ,  C08G18/65 ,  C08K3/22

公开(公告)号：JP6254933B2

公开(公告)日：2017-12-27

申请号：JP2014263767

申请日：2014-12-26

Applicant: 大日精化工業株式会社 ,  浮間合成株式会社

Inventor： 正純 廣瀬 ,  正純 廣瀬 ,  佐藤　浩正 ,  浩正 佐藤 ,  基昭 梅津 ,  基昭 梅津 ,  匠太 飯野 ,  匠太 飯野 ,  悠正 佐藤 ,  悠正 佐藤

IPC: C08L75/12 ,  C08L23/26 ,  C08L75/02 ,  C08L77/06 ,  H01M2/02