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公开(公告)号：JPWO2020105505A1
公开(公告)日：2021-10-21
申请号：JP2019044308
申请日：2019-11-12
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/26 , C07D307/20 , C07D307/77 , C07D317/54 , C07D327/02 , C07D493/18 , C07D307/94 , C07D493/10 , G03F7/039
摘要： 本発明の課題は、形成されるパターンの断面形状が矩形性に優れ、且つ調製後に経時させても、形成されるパターンの線幅の寸法変動が生じにくい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供することである。また、本発明の他の課題は、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、ハロゲン系溶剤と、を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、上記ハロゲン系溶剤の含有量が、組成物の全質量に対して、1質量ppb以上50質量ppm以下である。
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公开(公告)号：JPWO2019131351A1
公开(公告)日：2020-12-24
申请号：JP2018046660
申请日：2018-12-18
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： C08F212/04 , C08F220/58 , C08F220/10 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要： 樹脂(A)を含有するレジスト組成物であって、上記樹脂(A)は、特定構造を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含む、レジスト組成物、上記レジスト組成物により形成されるレジスト膜、上記レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
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公开(公告)号：JPWO2019054311A1
公开(公告)日：2020-07-27
申请号：JP2018033328
申请日：2018-09-07
申请人： 富士フイルム株式会社
摘要： 本発明により、樹脂(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 上記樹脂(A)は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含み、 上記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、上記樹脂(A)中の全繰り返し単位に対して15モル%以上であり、 上記酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量が、上記樹脂(A)中の全繰り返し単位に対して20モル%超であり、 上記樹脂(A)のガラス転移温度が145℃以下であり、 膜厚2μm以上の膜を形成するために用いられる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法が提供される。
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公开(公告)号：JPWO2019044547A1
公开(公告)日：2020-03-26
申请号：JP2018030541
申请日：2018-08-17
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/36 , C08F220/58 , C08F12/24 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要： 厚膜用途に適用した際にも、形成されるパターンの解像性及び形状特性に優れる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、膜厚が1μm以上のパターンの形成に用いられる、ネガ型の組成物であって、一般式(ZI−3)で表される化合物及び一般式(ZI−4)で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸発生剤と、架橋剤と、架橋剤と反応可能な反応基を含む樹脂、及び、反応基が酸の作用により分解して脱離する脱離基で保護された構造を含む樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂と、を含む。
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公开(公告)号：JPWO2020022089A1
公开(公告)日：2021-08-02
申请号：JP2019027564
申请日：2019-07-11
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要： 本発明は、2種以上の繰り返し単位を含み、上記2種以上の繰り返し単位のうち、少なくとも1つが、フッ素原子又は、ケイ素原子、又は、炭素数6以上の直鎖状又は分岐状の炭化水素基を有する繰り返し単位であり、特定の条件を満たす、共重合体(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
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公开(公告)号：JPWO2020022088A1
公开(公告)日：2021-08-02
申请号：JP2019027563
申请日：2019-07-11
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F220/24 , G03F7/004
摘要： 本発明は、特定の基を有する重合体(A)と、酸の作用により分解し極性が増大する基を有する重合体(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記重合体(A)の重量平均分子量をMw、Z平均分子量をMzとした場合、Mz/Mwが1.4以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用い羅、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
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公开(公告)号：JPWO2018212079A1
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：JP2018018239
申请日：2018-05-11
申请人： 富士フイルム株式会社
摘要： エッチングの際に、耐クラック性及び耐エッチング性に優れたマスクとして適用できるパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、樹脂を含有する、固形分濃度が10質量%以上の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、上記樹脂は、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が50℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位Aと、酸分解性基を有する繰り返し単位Bとを含み、上記繰り返し単位Bの含有量が、樹脂中の全繰り返し単位に対して20モル%以下であり、且つ、上記樹脂が有する繰り返し単位のいずれか少なくとも1種が、芳香族環を有する繰り返し単位である。
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公开(公告)号：JP2018155788A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2017050037
申请日：2017-03-15
申请人： 富士フイルム株式会社
摘要： 【課題】LWR性能に優れるパターンを得ることができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】下記一般式(1)で表される基を有する繰り返し単位を有する樹脂、を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
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