公开(公告)号：JP2021188042A

公开(公告)日：2021-12-13

申请号：JP2021085499

申请日：2021-05-20

Applicant: 東洋インキSCホールディングス株式会社

Inventor： 間宮 倫孝 ,  小池 隆明 ,  岸本 直樹

IPC: C08F220/10 ,  C08K3/04 ,  C08L51/00 ,  C08F2/44 ,  C08F2/24 ,  C08F265/06

Abstract: 【課題】発色性、基材追従性、耐圧痕性に優れるコロイド結晶を形成し、耐候性試験後も良好な膜物性を維持可能なコアシェル型樹脂微粒子、該コアシェル型樹脂微粒子を含有する樹脂組成物、該樹脂組成物から形成されてなるコロイド結晶の提供。 【解決手段】上記課題は、コロイド結晶を形成するためのコアシェル型樹脂微粒子であって、前記樹脂微粒子が、エチレン性不飽和単量体(a)の重合体であり、下記一般式(1)で表されるエチレン性不飽和単量体(a−1)及び下記一般式(2)で表されるエチレン性不飽和単量体(a−2)からなる群から選ばれる少なくとも1種のエチレン性不飽和単量体由来の構成単位を含むコアシェル型樹脂微粒子により解決することができる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021533224A

公开(公告)日：2021-12-02

申请号：JP2021505264

申请日：2019-07-24

Applicant: ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン ,  Henkel AG & Co. KGaA

Inventor： ブランド、 エイドリアン ,  ベック、 ホルスト ,  タダン、 アンドレアス ,  ネミッツ、 ラルフ ,  カックス、 アレクサンダー ,  スウィーニー、 ナイジェル ,  バーケット、 デイヴィッド ,  ニーフセイ、 ブレンダン ,  ホウリハン、 ジェイムズ エー. ,  ドハーティ、 マイケル

IPC: C08F220/10 ,  C08F224/00

Abstract: 本発明は、再生可能な材料から作製された嫌気的硬化性組成物に関する。特に、α−メチレン−ラクトンは、(メタ)アクリレート成分および硬化システムと共に使用されて、嫌気的硬化性組成物を形成する。

公开(公告)号：JPWO2020149193A1

公开(公告)日：2021-11-25

申请号：JP2020000307

申请日：2020-01-08

Applicant: コスモ石油ルブリカンツ株式会社

Inventor： 寺内 隆二 ,  加藤 裕介 ,  近藤 正章 ,  後藤 拓也

IPC: C08F220/10 ,  C09K5/10 ,  H01L23/36 ,  C08F2/44

Abstract: 一分子中に(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物(A)と、一分子中に(メタ)アクリロイル基を2つ以上有する化合物(B)と、重合開始剤(C)と、分散剤(D)と、酸化亜鉛を含む熱伝導性フィラー(E)と、を含む硬化性組成物及び硬化物。

公开(公告)号：JP2021531354A

公开(公告)日：2021-11-18

申请号：JP2020554232

申请日：2019-04-03

Applicant: コベストロ・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・アンド・コー・カーゲー

Inventor： ディルク、ハインツマン

IPC: C09D133/06 ,  C09D7/65 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  C08K5/29 ,  C08L83/04 ,  C08F220/10 ,  C08F230/08 ,  B29C45/13 ,  C08L33/14

Abstract: 二成分系、二成分系で作られたコーティングを含む複合部品、複合部品を製造するためのプロセス、および特殊なシロキサン含有化合物の使用が本明細書に記載されている。(メタ)アクリレート成分に化学的に組み込まれるか、またはこの成分に物理的に混合される、ポリシロキサン含有成分の添加は、熱可塑性担体への改善された接着をもたらす。

公开(公告)号：JP2021178964A

公开(公告)日：2021-11-18

申请号：JP2021110586

申请日：2021-07-02

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 増山 達郎 ,  肥後 睦子 ,  市川 幸司

IPC: C08F20/10 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C08F220/10

Abstract: 【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)を有するレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(I)で表される化合物、樹脂及びレジスト組成物。 [式中、R 0 は、H又はハロゲン原子等を表す。A 1 は、単結合、 * −A 2 −CO−O−A 3 −等を表す。*は酸素原子との結合手を表す。A 2 は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。A 3 は、単結合又は炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。Adは、アダマンタンジイル基等を表す。A 10 は、単結合又は炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。nは1又は2を表す。R 1 は、環状エーテル構造を含む基又はHを表す。] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021176966A

公开(公告)日：2021-11-11

申请号：JP2021116789

申请日：2021-07-15

Applicant: スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

Inventor： ブライアン ブイ.ハント ,  カイル ジェイ.リンドストローム ,  モーリーン シー.ネルソン

IPC: C08F292/00 ,  C08K3/013 ,  C08L101/00 ,  C08F220/10 ,  G02B5/02 ,  C08F2/44

Abstract: 【課題】重合性樹脂組成物から調製された光学フィルムを提供する。 【解決手段】重合性樹脂組成物の反応生成物を含有する重合ミクロ構造化表面を含む光学フィルムであって、前記重合性樹脂組成物がナノ粒子と、少なくとも2個の(メタ)アクリレート基を含む、少なくとも1種の第1のモノマーと、構造式(I) を有する、少なくとも1種の第2の(メタ)アクリレートモノマーと、を含有する、光学フィルムである。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021176919A

公开(公告)日：2021-11-11

申请号：JP2018131844

申请日：2018-07-11

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 石川 暁 ,  和田 光弘

IPC: C08F220/10 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  C09D201/04 ,  C09D201/10 ,  B05D1/36 ,  B05D3/06 ,  B05D5/06 ,  B05D7/24 ,  C08L63/00 ,  C08L33/04 ,  C08G65/18 ,  C08G59/20

Abstract: 【課題】本発明によれば、高精度な積層配線等を形成するのに優れた硬化性組成物、及び高精度な積層配線等の硬化膜を容易に形成する形成方法を提供することができる。 【解決手段】(A)同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される基を有する構造単位、アルコキシシリル基を有する構造単位、および環状エーテル基を有する構造単位を含む重合体成分、 (式(1)中、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、nは1〜10の整数である。nが2以上である場合、複数のR 1 は同一でも異なっていてもよく、複数のR 2 は同一でも異なっていてもよい。*は結合部位を表す。)(B)酸発生剤、(C)溶剤、を含有する硬化性組成物。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2021175730A

公开(公告)日：2021-11-04

申请号：JP2021047925

申请日：2021-03-22

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 小室 勝洋 ,  中小路 崇 ,  市川 幸司

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C09K3/00 ,  C07D307/00 ,  C07D321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F220/10 ,  C07C309/17

Abstract: 【課題】良好なCD均一性を有するレジストパターンを製造することができる塩、該塩を含む酸発生剤及び該剤を含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば、下式の様に合成した(I−3)で表される塩。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021175727A

公开(公告)日：2021-11-04

申请号：JP2021047904

申请日：2021-03-22

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 小室 勝洋 ,  中村 広夢 ,  市川 幸司

IPC: C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  C07D321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C08F220/10 ,  C07C62/24

Abstract: 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)を有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩、該塩を含むカルボン酸発生剤及び該剤を含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば、下式の様に合成した(I−2)で表されるカルボン酸塩。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021175726A

公开(公告)日：2021-11-04

申请号：JP2021047903

申请日：2021-03-22

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 小室 勝洋 ,  中村 広夢 ,  市川 幸司

IPC: C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  C07D321/10 ,  C07D307/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C08F220/10 ,  C08F212/04 ,  C07C309/12

Abstract: 【課題】良好な解像度を有するレジストパターンを製造することができる塩、該塩を含む酸発生剤及び該剤を含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば、下式の様に合成した(I−5)で表される塩。 【選択図】なし