公开(公告)号：JP6638422B2

公开(公告)日：2020-01-29

申请号：JP2016012732

申请日：2016-01-26

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 船山 泰弘 ,  宮地 信介 ,  菊池 英行 ,  大森 研 ,  藤田 智行

IPC: B05C9/14 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  B05D7/20 ,  B23K26/18 ,  B23K26/36 ,  H01B13/16

公开(公告)号：JP2018206491A

公开(公告)日：2018-12-27

申请号：JP2017107028

申请日：2017-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 船山 泰弘 ,  石原 純二 ,  宮地 信介 ,  西村 崇善

IPC: H01B13/00 ,  B05C11/02 ,  B05C3/15 ,  B05D7/20 ,  B05D3/00 ,  B05D1/28 ,  H01B13/16

Abstract: 【課題】横型の装置において、走行線がダイスの貫通孔の中心を通過しやすくするための調心機構付きダイス、及びそれを用いたエナメル線の製造装置、並びにエナメル線の製造方法を提供する。 【解決手段】調心機構付きダイスは、走行線を走行させるための貫通孔を有するダイスと、前記ダイスを前記走行線の周方向に回動させるベアリング部材と、前記走行線の走行方向が前記走行方向に直交する方向へ変化するのに対して、前記ベアリング部材による前記ダイスの回動を妨げずに、前記貫通孔の中心軸を前記走行方向に調心させるように前記ダイスを可動させる可動部材と、を備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6868194B2

公开(公告)日：2021-05-12

申请号：JP2017107028

申请日：2017-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 船山 泰弘 ,  石原 純二 ,  宮地 信介 ,  西村 崇善

IPC: H01B13/00 ,  B05C11/02 ,  B05C3/15 ,  B05D7/20 ,  B05D3/00 ,  B05D1/28 ,  H01B13/16

公开(公告)号：JP2021051958A

公开(公告)日：2021-04-01

申请号：JP2019175110

申请日：2019-09-26

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 伊藤 真司 ,  宮地 信介 ,  和田 純 ,  石井 貴大

IPC: H01H11/00

Abstract: 【課題】被覆線に内包されたセンターダミー線やサイドダミー線を、より確実に被覆線から引抜くことが可能となる中空被覆撚り線製造装置、及び中空被覆撚り線製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明は、被覆線の一方端近傍を把持可能な第一クランプと、被覆線の他方端近傍を把持可能な第二クランプと、一方端から突出した前記サイドダミー線、又はセンターダミー線の一部を把持して、第一クランプから離れる方向に移動可能なグリッパと、被覆線の長手方向に対して垂直方向に回転軸を有し、被覆線の長手方向を挟んで対向して配置された、螺旋状の溝を有する回転体と、前記回転体の回転を制御する回転制御部とを具備している。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2017134951A

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：JP2016012732

申请日：2016-01-26

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 船山 泰弘 ,  宮地 信介 ,  菊池 英行 ,  大森 研 ,  藤田 智行

IPC: B05C9/14 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  B05D7/20 ,  B23K26/18 ,  B23K26/36 ,  H01B13/16

Abstract: 【課題】エナメル線塗料中の溶剤を短時間で蒸発させてエナメル線塗料を乾燥させても外観が良好な皮膜を形成することができ、線径の太いエナメル線であっても製造設備のタイプによらずに高速度で製造可能なエナメル線の製造方法及び製造装置を提供する。 【解決手段】導体に塗布したエナメル線塗料中の溶剤を、当該溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致する波長を持つ光を焼付炉内で反射させて当てることにより蒸発させる工程を有するエナメル線の製造方法。 【選択図】図4