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公开(公告)号：JP2021038464A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2020189487
申请日：2020-11-13
申请人： 日立金属株式会社
摘要： 【課題】Coを添加することなく高い耐食性と低い応力とを有するR-TM-B系焼結磁石を提供する。 【解決手段】 24.5〜34.5質量%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも1種)と、0.85〜1.15質量%のBと、0.1質量%未満のCoと、0.07質量%以上0.3質量%未満のGaと、0.15〜0.4質量%のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有することを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021038463A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2020189481
申请日：2020-11-13
申请人： 日立金属株式会社
摘要： 【課題】 Coを添加することなく高い耐食性と低い応力とを有するR-TM-B系焼結磁石を提供する。 【解決手段】 24.5〜34.5質量%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも1種)と、0.96〜1.15質量%のBと、0.1質量%未満のCoと、0.3質量%超0.5質量%以下のGaと、0〜0.15質量%のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有することを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020096187A
公开(公告)日：2020-06-18
申请号：JP2020012756
申请日：2020-01-29
申请人： 日立金属株式会社
摘要： 【課題】Coを添加することなく高い耐食性と低い応力とを有するR-TM-B系焼結磁石を提供する。 【解決手段】 24.5〜34.5質量%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも1種)と、0.89〜1.15質量%のBと、0.1質量%未満のCoと、0.3〜0.5質量%のGaと、0.15〜0.4質量%のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有することを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018059197A
公开(公告)日：2018-04-12
申请号：JP2017187577
申请日：2017-09-28
申请人： 日立金属株式会社
CPC分类号： H01F1/0536 , B22F3/22 , C22C33/0278 , C22C38/002 , C22C38/005 , C22C38/06 , C22C38/08 , C22C38/12 , C22C38/16 , C22C2202/02 , H01F1/0577 , H01F7/02
摘要： 【課題】 Niを添加することなく、高い機械的強度と優れた耐食性とを両立させたR-TM-B系焼結磁石を提供する。 【解決手段】 24.5〜34.5質量%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも1種)と、0.92〜1.15質量%のBと、0.1質量%未満のNiと、0.07〜0.5質量%のGaと、0〜0.4質量%のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有するR-TM-B系焼結磁石であって、前記Ga及びCuの含有量が、Ga量(質量%)及びCu量(質量%)をそれぞれX軸及びY軸としたXY平面上で、点A(0.5、0.0)、点B(0.5、0.4)、点C'(0.1、0.4)、点D'(0.1、0.1)及び点E(0.2、0.0)を頂点とする五角形で囲まれる領域内にあることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。 【選択図】 図1
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