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    防曇塗膜およびコーティング組成物
    3.
    发明专利
    防曇塗膜およびコーティング組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018172566A

    公开(公告)日：2018-11-08

    申请号：JP2017072339

    申请日：2017-03-31

    Applicant: 旭化成株式会社

    Inventor： 伊勢田 一也 ,  高野橋 寛朗 ,  廣瀬 淳一

    IPC: C09D7/40 ,  C09D201/00

    Abstract: 【課題】防曇性、防曇持続性、成膜性に優れる新規な塗膜の提供。 【解決手段】金属酸化物(A)と親水性化合物(B)とを含み、表面のXPSによる元素分析においてC1sスペクトルと金属酸化物由来の金属(M)スペクトルとから得られるC元素と金属元素との元素濃度比(C1s/M)が10以上である塗膜。塗膜の水接触角は40°以上であり、水接触角変化度が1〜3であってよい塗膜。表面のXPSによる元素分析において炭素−酸素結合及び/又は炭素−窒素結合に由来するC1sスペクトルから得られるC元素の相対元素濃度は、5原子%以上であってよい塗膜。上記金属酸化物は、コロイダルシリカであってよい塗膜。 【効果】前記塗膜は、防曇塗膜、自動車外装部品用塗膜として、特に好適に用いることができる。 【選択図】なし

    光学塗膜及び反射防止膜
    5.
    发明专利
    光学塗膜及び反射防止膜 审中-公开
    光学涂层膜和抗反射膜

    公开(公告)号：JP2016084374A

    公开(公告)日：2016-05-19

    申请号：JP2014215811

    申请日：2014-10-22

    Applicant: 旭化成株式会社

    Inventor： 廣瀬 淳一

    IPC: C09D7/12 ,  C09D5/02 ,  C09D1/00 ,  B32B7/02 ,  G02B1/11 ,  H01L31/054 ,  C09D201/00

    CPC classification number: Y02E10/52

    Abstract: 【課題】多湿環境下においても優れた反射防止特性を維持可能で水滴跡付着性が改善された光学塗膜を得る。 【解決手段】基材上に形成される塗膜よりなる光学塗膜であって、前記塗膜中に、少なくとも、長径(L)とそれと直交する短径の最大値(D)の平均値:(空隙サイズ=(L+D)/2)が、20nm〜60nmの空隙(X)を有し、前記空隙(X)の長径(L)と短径(D)とが1.1
    【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供即使在高湿度环境下也能够保持优异的抗反射性能并且具有改善的水滴痕迹粘合性的光学涂膜。解决方案提供了一种光学涂层膜，其包括在基板上形成的涂膜 在涂膜中具有至少一个气隙（X），平均大直径（L）的空气间隙（X）和与其正交的小直径的最大值（D）：（气隙 尺寸=（L + D）/ 2）为2.0nm〜60nm，气隙（X）的长径（L）和短径（D）为1.1

    光学塗膜、光学塗膜の製造方法、及び反射防止膜
    6.
    发明专利
    光学塗膜、光学塗膜の製造方法、及び反射防止膜 审中-公开
    光学涂膜，其制造方法和抗反射膜

    公开(公告)号：JP2016045408A

    公开(公告)日：2016-04-04

    申请号：JP2014170443

    申请日：2014-08-25

    Applicant: 旭化成株式会社

    Inventor： 廣瀬 淳一

    IPC: C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  C09D5/02 ,  C09D4/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D5/33 ,  B32B5/18 ,  B32B7/02 ,  B05D7/24 ,  G02B1/11

    Abstract: 【課題】多湿環境下で反射防止特性を長期間維持できる光学塗膜を得る。 【解決手段】基材上に形成される塗膜よりなる光学塗膜であって、 前記塗膜中には、少なくとも、長径(L)とそれと直交する短径の最大値(D)の平均値:(空隙サイズ=(L+D)/2)が、20nm以上の空隙(X)を有し、 前記空隙(X)の長径(L)と短径(D)とが1
    前記空隙(X)が前記基材との界面において、当該基材と非接触である光学塗膜。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够在高湿度环境下长时间保持抗反射性能的光学涂膜。解决方案：光学涂层膜包括形成在基材上的涂膜。 涂膜至少包含空隙（X），每个空隙（X）具有长轴（L）和垂直于长轴的短轴（D）的最大值，其平均值（空隙大小=（L + D）/ 2） 不小于20nm，满足1

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