-
-
公开(公告)号：JP2017068237A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2016114874
申请日：2016-06-08
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】主表面の中央領域の平坦度を向上した、マスクブランク用のガラス基板を提供する。 【解決手段】回路パターンを有する膜が形成される矩形の主表面を有し、縦横142mmの正方形の中央領域の面形状を下記式で表すと、kとlの和が3以上9以下、且つkとlの和が10以上30以下、である全ての成分を足した成分の平坦度が20nm以下であること。 【選択図】図3
-
公开(公告)号：JP6094708B1
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：JP2016114874
申请日：2016-06-08
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】主表面の中央領域の平坦度を向上した、マスクブランク用のガラス基板を提供する。 【解決手段】回路パターンを有する膜が形成される矩形の主表面を有し、縦横142mmの正方形の中央領域の面形状を下記式で表すと、kとlの和が3以上9以下、且つkとlの和が10以上30以下、である全ての成分を足した成分の平坦度が20nm以下であること。 【選択図】図3
-
公开(公告)号：JP2018066893A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2016206086
申请日：2016-10-20
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 池ノ谷 伸彦
IPC: B24B37/00 , C03C19/00 , C03C23/00 , H01L21/304 , G03F1/60
Abstract: 【課題】従来に比べて、ガラス基板への異物の付着が有意に抑制された、マスクブランク用基板の製造方法を提供する。 【解決手段】マスクブランク用基板の製造方法であって、(I)コロイダルシリカを含む研磨スラリーを用いてガラス基板を研磨する工程と、(II)pHが9超14以下の洗浄液を用いて、前記ガラス基板を洗浄する工程であって、前記ガラス基板の洗浄後に、前記洗浄液のシリカ濃度は、100ppm以下に維持される、工程と、を有する、製造方法。 【選択図】図2
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：JP2017040900A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015202196
申请日：2015-10-13
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】主表面の有効エリアの平坦度を向上した、マスクブランク用の基板の製造方法の提供。 【解決手段】基板の主表面を研磨する主表面研磨工程を有し、前記主表面研磨工程の前に、前記基板は、略矩形状の前記主表面と、前記主表面に対し略垂直な端面と、前記主表面と前記端面とをつなぐ略平坦な傾斜面とを有し、前記傾斜面は前記主表面の4辺の少なくとも1つに形成され前記主表面に対し鈍角に交わり、前記主表面研磨工程における前記主表面の板厚方向における研磨量が50μm以下であり、前記主表面研磨工程の後に、少なくとも1つの前記傾斜面は、前記主表面に対する傾斜角が45°よりも大きく90°よりも小さく、且つ、前記端面に対し垂直な方向における幅が0.1mm以上0.3mm以下である、マスクブランク用の基板の製造方法。 【選択図】図1
Abstract translation: 阿具有改善的主表面的有效面积的平坦度，从而提供用于制造基板的掩模坯件的方法。 具有主表面研磨抛光所述衬底的所述的主表面，前主表面抛光工艺中，衬底具有基本上矩形的所述主表面，基本上垂直的端面的步骤，以所述主表面 当主表面和具有大致平坦的倾斜表面连接所述端面，该倾斜表面相交成钝角相对于至少一个形成在所述主表面的四个边的主表面，所述主表面 比45°相对于倾斜角度在研磨工序的主表面的厚度方向上的抛光量为50μm以下，所述主表面研磨工序后，至少一个所述倾斜表面大于90°到所述主表面 它小，并且垂直于端面的方向上的宽度为0.1mm或更0.3毫米或更小，掩模坯件的基板的制造方法。 点域1
-
公开(公告)号：JP2017182055A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2017041105
申请日：2017-03-03
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】変形を有意に抑制できるマスクブランク用基板。 【解決手段】マスクブランク用基板において、第1の主表面には、標準領域、枠状領域および内部領域が区画され、枠状領域は、各コーナー部に第1〜第4のコーナー領域を有し、隣接するコーナー領域の中央に第1〜第4の中央領域を有し、標準領域の最小二乗平面PP 1 に基づいて定められる内部領域の平坦度は、100nm以下であり、枠状領域の一つのコーナー領域を第nのコーナー領域とし、該第nのコーナー領域に最近接の2つの中央領域を、それぞれ、第1近接中央領域および第2近接中央領域としたとき、第nのコーナー領域、第1近接中央領域および第2近接中央領域において、表面凹凸に関する所定の関係が成り立つ。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2017134108A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016011478
申请日：2016-01-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】凹状欠点数のばらつきを抑制する。 【解決手段】マスクブランク用のガラス基板の製造方法でにおいて、(1)第1の表面および該第1の表面と対向する第2の表面を有する複数のガラス素材を準備する工程であって、各ガラス素材の前記第1の表面の表面積は、実質的に等しい、工程と、(2)研磨定盤に設置された研磨布に、前記複数のガラス素材の前記第1の表面を接触させ、研磨スラリーが供給された状態で、前記研磨定盤を前記ガラス素材に対して回転させることにより、前記複数のガラス素材の前記第1の表面を研磨する工程と、を有し、前記研磨布の面積をS 1 (m 2 )とし、前記ガラス素材の前記第1の表面の表面積をS 2 (m 2 )とし、前記(2)の工程において研磨される前記ガラス素材の枚数をN(枚)としたとき、 Q=N×S 2 /S 1 (1)式 で表される値Qが、0.05以上、0.2以下である。 【選択図】図7
-
公开(公告)号：JP2017107222A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2017017897
申请日：2017-02-02
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】主表面の中央領域の平坦度を向上した、マスクブランクの提供。 【解決手段】回路パターンを有する膜が形成される矩形の主表面を有するガラス基板10と、前記膜とを備えるマスクブランクであって、前記膜の前記ガラス基板とは反対側の主表面は、矩形であって、当該主表面のうち、その四角枠状の外周領域を除く、縦142mm、横142mmの正方形の中央領域の面形状を数式で表すと、式中のkとlとの和が3以上30以下である全てのa kl P k (x)P l (y)を足した成分の平坦度が22nm以下である、マスクブランク。 【選択図】図1
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.019 seconds)
