公开(公告)号：JP6484431B2

公开(公告)日：2019-03-13

申请号：JP2014229726

申请日：2014-11-12

Applicant: 株式会社アドバンテスト

Inventor： 山田 章夫 ,  大川 達朗 ,  瀬山 雅裕 ,  黒川 正樹

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP2018041790A

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：JP2016173564

申请日：2016-09-06

Applicant: 株式会社アドバンテスト

Inventor： 山田 章夫 ,  大川 達朗 ,  黒川 正樹

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 【課題】複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部にビーム制御データを分配する露光装置および露光データ構造を提供する。 【解決手段】第1の方向に配列した複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部と、荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、1本の荷電粒子ビームの幅を有し第2の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第2のデータと第1の方向の位置に基づいて当該第2のデータを特定する第1のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、露光データを格納する第1保存部と、露光順序に従って露光データを再構成してカラム部のそれぞれに分配する分配部と、を備える露光装置、およびそのような露光装置用の露光データ構造およびビーム制御データの作成方法を提供する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2016096179A

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：JP2014229726

申请日：2014-11-12

Applicant: 株式会社アドバンテスト

Inventor： 山田 章夫 ,  大川 達朗 ,  瀬山 雅裕 ,  黒川 正樹

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/3175

Abstract: 【課題】コンプリメンタリ・リソグラフィにおいて、ラインパターン上の任意の位置に配置されたカットパターンやビアパターンを複数のビームを用いて効率よく露光できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供する。 【解決手段】ラインパターンと交差する方向に1列に並んだ複数の荷電粒子ビームを含むアレービームを所定のブランキングタイミングでON・OFFさせて、荷電粒子ビームの照射位置がパターン位置に到達した時に照射を行う荷電粒子ビーム露光装置において、ラインパターンが形成された試料の移動方向を所定の長さの複数の露光範囲に区切り、且つ前記露光領域に設定された基準位置を前記アレービームが通過する時点を基準にビームのON・OFF制御を行うことで、制御データ処理の向上を図る。 【選択図】図3

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束曝光装置和带电粒子束曝光方法，其允许通过使用多个光束来有效地曝光布置在线图案上的任意位置处的切割图案或通孔图案 在补充光刻中，在带电粒子束曝光装置中进行照射时，当带电粒子束的照射位置到达图案位置时，通过转动阵列光束，包括沿着一行排列成一行的多个带电粒子束 在预定的消隐时刻开/关的线路图案，其中形成有线图案的样品的移动方向被分割成预定长度的多个曝光范围，并且光束的开/关控制是 参考阵列光束通过设置在曝光区域中的参考位置的时刻执行，从而增强控制数据处理。选择 图3：