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公开(公告)号：JP2021031719A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019152043
申请日：2019-08-22
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: B22F3/105 , B29C64/153 , B29C64/393 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B22F3/16
Abstract: 【課題】3次元造形物の製造において、予熱工程後の粉末層の温度分布が不均一な場合があり、電子ビームを照射して断面を形成する際に断面全体で不均一な温度条件となるため、製造される3次元造形物の品質が低下する可能性があり、これを抑制できる製造装置の提供。 【解決手段】第1粉末層における、製造対象の3次元造形物の断面となるべき領域を溶融結合させることにより断面を形成する断面形成部と、断面を形成した第1粉末層上に、第2粉末層を積層する粉末積層部と、第2粉末層の積層が完了する前に、第1粉末層および積層途中の第2粉末層の一部の少なくとも一方をビームで加熱する予熱処理部とを備える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017204499A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：JP2016093801
申请日：2016-05-09
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/147 , H01J37/241 , H01J37/3177 , H01J2237/141 , H01J2237/1504 , H01J2237/152 , H01J2237/1526 , H01J2237/20285
Abstract: 【課題】カラムごとの荷電粒子ビームの特性の差の少ないマルチカラム荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子ビームを発生するカラム部122を複数有するマルチカラム荷電粒子ビーム露光装置であって、カラム部122は、磁性体よりなりカラムの光軸周りに所定の強度分布の磁場を発生させるヨーク53と、そのヨーク53に巻き付けられるコイル部52を有している。そのコイル部52は、分割された複数の巻線52a、52bで構成し、それぞれが異なる電源A1〜A3によって駆動されるようにした。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP2018041790A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016173564
申请日：2016-09-06
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 【課題】複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部にビーム制御データを分配する露光装置および露光データ構造を提供する。 【解決手段】第1の方向に配列した複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部と、荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、1本の荷電粒子ビームの幅を有し第2の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第2のデータと第1の方向の位置に基づいて当該第2のデータを特定する第1のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、露光データを格納する第1保存部と、露光順序に従って露光データを再構成してカラム部のそれぞれに分配する分配部と、を備える露光装置、およびそのような露光装置用の露光データ構造およびビーム制御データの作成方法を提供する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6215061B2
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2014003927
申请日：2014-01-14
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01J37/12 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/3007 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016207925A
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：JP2015090453
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01J9/14 , H01J37/147 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0213 , H01J2237/0437 , H01J2237/1501 , H01J2237/20228 , H01J2237/31766
Abstract: 【課題】コンプリメンタリ・リソグラフィで、微細なラインパターンを安定的に加工できるマルチビーム形成素子を実現する。 【解決手段】ビームを成形して偏向させる素子であって、素子の第1面側から入射されるビームを成形して通過させる第1開孔を有するアパーチャ層とアパーチャ層を通過したビームを通過させて偏向させる偏向層とを備え、偏向層は、第1開孔に対応する偏向層内のビーム通過空間に相対する第1電極を有する第1電極部と、偏向層内において隣接層とは独立してビーム通過空間に向かって延伸する延伸部、および端部においてビーム通過空間を挟んで第1電極に対向する第2電極を有する第2電極部と、を有する素子、およびそのような素子を適用した露光装置を提供する。 【選択図】図11A
Abstract translation: 甲互补光刻，以实现多波束形成元件可以加工稳定细线条图案。 本发明涉及一种装置用于偏转和整形光束，它通过穿过孔层，并通过从所述元件的第一面侧成形入射的光束具有用于通过第一开口孔层的光束 并且通过偏转层偏转偏转层，在偏转器层具有对应于所述第一开口的所述偏转器层的第一电极相对的束通道空间中的第一电极部，与相邻的层是 拉伸单元，其独立地朝向束通过空间延伸，并且所述元件具有具有面向跨越束通过空间中的第一电极在所述端部，和这样的元件的第二电极的第二电极部 所述提供所施加的曝光装置。 点域11A
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公开(公告)号：JP2016096179A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：JP2014229726
申请日：2014-11-12
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/15 , H01J2237/202 , H01J2237/3175
Abstract: 【課題】コンプリメンタリ・リソグラフィにおいて、ラインパターン上の任意の位置に配置されたカットパターンやビアパターンを複数のビームを用いて効率よく露光できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供する。 【解決手段】ラインパターンと交差する方向に1列に並んだ複数の荷電粒子ビームを含むアレービームを所定のブランキングタイミングでON・OFFさせて、荷電粒子ビームの照射位置がパターン位置に到達した時に照射を行う荷電粒子ビーム露光装置において、ラインパターンが形成された試料の移動方向を所定の長さの複数の露光範囲に区切り、且つ前記露光領域に設定された基準位置を前記アレービームが通過する時点を基準にビームのON・OFF制御を行うことで、制御データ処理の向上を図る。 【選択図】図3
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束曝光装置和带电粒子束曝光方法，其允许通过使用多个光束来有效地曝光布置在线图案上的任意位置处的切割图案或通孔图案 在补充光刻中，在带电粒子束曝光装置中进行照射时，当带电粒子束的照射位置到达图案位置时，通过转动阵列光束，包括沿着一行排列成一行的多个带电粒子束 在预定的消隐时刻开/关的线路图案，其中形成有线图案的样品的移动方向被分割成预定长度的多个曝光范围，并且光束的开/关控制是 参考阵列光束通过设置在曝光区域中的参考位置的时刻执行，从而增强控制数据处理。选择 图3：
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公开(公告)号：JP6484431B2
公开(公告)日：2019-03-13
申请号：JP2014229726
申请日：2014-11-12
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
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公开(公告)号：JP2016122676A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：JP2014260001
申请日：2014-12-24
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/31766
Abstract: 【課題】光露光技術および荷電粒子ビーム露光技術を組み合わせて、複雑で微細なパターンを形成する。 【解決手段】試料上のラインパターンに応じた位置に荷電粒子ビームを照射する露光装置であって、ラインパターンの幅方向に照射位置が異なる複数の荷電粒子ビームを発生するビーム発生部と、複数の荷電粒子ビームの照射位置を、ラインパターンの長手方向に沿って走査させる走査制御部と、ラインパターン上の長手方向の指定された照射位置において、複数の荷電粒子ビームのうち試料に照射すべき少なくとも1つの荷電粒子ビームを選択する選択部と、選択された少なくとも1つの荷電粒子ビームを試料へと照射する制御をする照射制御部と、を備える露光装置および露光方法を提供する。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供通过组合光学曝光技术和带电粒子束曝光技术形成复杂精细图案的曝光装置和方法。解决方案：将带电粒子束施加到对应于线图案的位置的曝光装置 提供样品，并提供曝光方法。 曝光装置具有用于在线条图案的宽度方向上产生用于不同照射位置的多个带电粒子束的束发生器，用于沿着线条图案的纵向扫描多个带电粒子束的照射位置的扫描控制器， 选择器，用于从所述线图案上的纵向方向上的特定照射位置选择要从所述多个带电粒子束施加到所述样本的至少一个带电粒子束;以及照射控制器，用于控制所述样品与所述至少一个 选择带电粒子束。选择图：图1
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公开(公告)号：JP2015133400A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2014003927
申请日：2014-01-14
Applicant: 株式会社アドバンテスト
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01J37/12 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/3007 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453
Abstract: 【課題】光露光と荷電粒子ビーム露光とを相補的に用いたリソグラフィ技術に好適な、荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】電子銃1から放出された電子ビームEB 0 を、非対称照明光学系3により縦長の断面形状の電子ビームEB 1 に変形し、その電子ビームEB 1 を一列に並んだ複数の開口21aを備えたビーム成形アパーチャプレート21に照射して複数本の電子ビームEB 3 を発生させる。ステージ装置7を半導体基板80上のラインパターンと直交する方向に移動させつつ、ブランカープレート31及び最終アパーチャ5を用いて、電子ビームEB 3 をステージ装置7の移動に同期させてON又はOFFさせることで、半導体基板の上に所定のパターンの露光を行う荷電粒子ビーム露光装置が提供される。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种有利于以互补方式使用曝光和带电粒子束曝光的光刻技术的带电粒子束曝光装置。解决方案：提供带电粒子束曝光装置，其中电子束EB 电子枪1通过不对称的照明光学系统3变形成具有垂直长横截面形状的电子束EB。包括排列成一行的多个开口21a的光束形成孔板21被照射到电子束EB以产生 多个电子束EB。 当在与半导体衬底80上的线图形正交的方向上移动舞台装置7时，电子束EBis被打开和关闭，以便与舞台装置7的运动同步，通过使用消隐板31和最终的 孔5，从而在半导体衬底上进行预定图案的曝光。
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