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公开(公告)号:JPWO2009069210A1
公开(公告)日:2011-04-07
申请号:JP2009543614
申请日:2007-11-29
Applicant: 株式会社日本マイクロニクス
CPC classification number: H05K3/1241 , C23C26/00 , H05K3/102 , H05K3/225 , H05K3/26 , H05K2201/0257 , H05K2203/086 , H05K2203/095 , H05K2203/1344 , H05K2203/1366
Abstract: 材料を溶解する溶媒の補給間隔を長期化できる霧化装置を提供する。本発明は、霧化部において材料を溶媒中に溶解させ、その材料及び溶媒を霧化させたミストを、導入されたキャリアガスによって外部に導出する霧化装置に関する。そして、霧化部に対し、キャリアガスと気化状態の溶媒との混合ガスを供給する溶媒補給部を有することを特徴とする。溶媒補給部は、液体溶媒を気化させる空間を備え、外部から導入されたキャリアガスと気化させた溶媒とをこの空間で混合するものである。
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公开(公告)号:JP5190465B2
公开(公告)日:2013-04-24
申请号:JP2009543614
申请日:2007-11-29
Applicant: 株式会社日本マイクロニクス
CPC classification number: H05K3/1241 , C23C26/00 , H05K3/102 , H05K3/225 , H05K3/26 , H05K2201/0257 , H05K2203/086 , H05K2203/095 , H05K2203/1344 , H05K2203/1366
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