-
-
公开(公告)号：JP5294869B2
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：JP2008542137
申请日：2007-10-30
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： G02B6/12
CPC分类号： G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/121
摘要： The present invention provides a flexible optical waveguide in which at least one of a lower cladding layer, a core layer, and an upper cladding layer is composed of an epoxy film formed using an epoxy resin composition containing a polyglycidyl compound having a polyalkylene glycol chain(s) and at least two glycidyl groups or an epoxy film having a glass transition temperature (Tg) of 100° C. or lower, a process for its production, and an epoxy resin composition for flexible optical waveguides.
-
公开(公告)号：JPWO2011149095A1
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：JP2012517349
申请日：2011-05-27
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C01B21/086 , C01D13/00 , C01D15/00 , C07F1/02
CPC分类号： H01M10/0568 , B01D1/22 , B01D3/346 , C01B21/086 , C01B21/0935 , C01D15/00 , H01G9/035 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0565 , Y02E60/122 , Y02P70/54
摘要： 耐熱性に優れ、また、特定の不純物や水分含有量が低減されたフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩、及び、反応溶液から溶媒を容易に除去することができるフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩の製造方法を提供する。本発明のフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩は下記一般式(I)で表され、空気気流下、100℃で8時間保持したときの質量減少率が2%以下であり、本発明のフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩の製造方法とは、フルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩を含む反応溶液中にガスをバブリングしながらフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩溶液を濃縮する工程、及び/又は、薄膜蒸留によりフルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩溶液を濃縮する工程を含む。
-
-
公开(公告)号：JP4660596B2
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：JP2009012344
申请日：2009-01-22
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C01B21/086 , C07C303/34 , C07C303/40 , C07C307/02 , C07C311/09
CPC分类号： Y02E60/13
-
公开(公告)号：JP4621783B2
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：JP2009087472
申请日：2009-03-31
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C07C303/40 , C01B21/086 , C01B21/088 , C07C311/48
CPC分类号： Y02E60/13
-
公开(公告)号：JPWO2016052752A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：JP2016552361
申请日：2015-10-05
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： H01M10/0568 , C01B21/086 , H01G9/035 , H01G11/62 , H01M6/16 , H01M10/0569
CPC分类号： H01M10/0568 , C01B21/083 , C01B21/086 , C01P2006/40 , H01G9/2004 , H01G11/60 , H01G11/62 , H01G11/64 , H01M10/0525 , H01M10/0569 , H01M2300/0028
摘要： 電解液材料の特性に影響を与える残留溶媒を削減した、N−(フルオロスルホニル)−N−(フルオロアルキルスルホニル)イミド、ジ(フルオロスルホニル)イミドを含有する電解液材料を提供する。下記一般式(1)で表されるフルオロスルホニルイミド塩と電解液溶媒を含む電解液材料の製造方法であって、フルオロスルホニルイミド塩と電解液溶媒を含む溶液を減圧及び/又は加熱して、フルオロスルホニルイミド塩の製造溶媒を揮発させることを特徴とする電解液材料の製造方法である。【化1】(一般式(1)中、R1は、フッ素又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基、R2は、アルカリ金属イオンを表す)
-
公开(公告)号：JP5401336B2
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：JP2010007346
申请日：2010-01-15
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C01B21/093 , C07C209/90 , C07C211/05
-
公开(公告)号：JP5208782B2
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：JP2009012345
申请日：2009-01-22
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C01B21/086 , C07C211/63 , C07C303/34 , C07C307/00 , H01G9/035 , H01M10/0568
CPC分类号： Y02E60/13
-
公开(公告)号：JPWO2011065502A1
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：JP2011543332
申请日：2010-11-26
申请人： 株式会社日本触媒
IPC分类号： C01B21/093
CPC分类号： H01M10/0568 , C01B21/086 , C01B21/0935
摘要： 不純物の含有量を低減でき、かつ、長期にわたる連続操業が可能なフルオロスルホニルイミド塩の製造方法並びにフルオロスルホニルイミド塩を提供する。本発明のフルオロスルホニルイミド塩とは、Kの含有量が、10000ppm以下である。また、本発明の製造方法とは、クロロスルホニルイミド又はその塩のフッ素化反応後に、不純物除去のため、反応溶液をアルカリ水溶液と接触させるものである。各種不純物の含有量が極低レベルにまで低減された本発明のフルオロスルホニルイミド塩は、リチウム二次電池、キャパシタ等に用いられる電解質、イオン性液体、あるいはスルホニルイミド塩の中間体等として有用である。また、本発明のフルオロスルホニルイミド塩を電解質として用いることで、高性能な電気化学デバイスとなることが期待される。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
15 条记录 (耗时 0.026 秒)
