公开(公告)号：JP6101160B2

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：JP2013132979

申请日：2013-06-25

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 平尾 和之 ,  瀬戸口 勝美 ,  石垣 直也 ,  清水 久美子 ,  板井 秀樹

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

公开(公告)号：JP2019169406A

公开(公告)日：2019-10-03

申请号：JP2018057510

申请日：2018-03-26

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 高杉 容徳 ,  山口 聡 ,  酒井 計 ,  板井 秀樹 ,  桃井 義典 ,  亀田 寿昌 ,  木村 嘉宏

IPC: H01J37/244 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】 本発明は、試料表面と底部のそれぞれに焦点を合わせる際に発生する視野ずれを抑制しつつ、試料表面と底部に焦点の合った画像等を取得することを目的とする荷電粒子線装置を提案する。 【解決手段】 上記目的を達成するために、試料表面側に焦点が調整されたビームの照射に基づいて、第1のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第1の画像(301)を形成し、試料に含まれるパターンの底側に焦点が調整されたビームの照射に基づいて、前記第1のエネルギーに対して相対的にエネルギーの高い第2のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第2の画像(304)と、第1のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第3の画像(303)を形成し、第1の画像と第3の画像との間のずれを求め、当該ずれを補正するように第1の画像と前記第2の画像を合成する荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2017134882A

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：JP2014090393

申请日：2014-04-24

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 野尻 正明 ,  山本 琢磨 ,  石川 修平 ,  谷本 憲史 ,  板井 秀樹

IPC: H01L21/683 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01L21/683

Abstract: 【課題】観察中や計測中における帯電が観察画面に与える影響を低減する。 【解決手段】試料が試料室内にロードされてからアンロードされるまでの間に、試料を静電チャックから持ち上げる上昇動作と、持ち上げた試料を再び静電チャックに載置する下降動作とを少なくとも1回実行するウェハリフト機構を有する荷電粒子線装置を提供する。 【選択図】図6A

公开(公告)号：JP6138471B2

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：JP2012268945

申请日：2012-12-10

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 佐々木 実 ,  板井 秀樹 ,  中川 周一

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16 ,  H01J37/22 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20 ,  H01J37/147

公开(公告)号：JP2017020981A

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：JP2015140948

申请日：2015-07-15

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 本美 元伸 ,  酒井 計 ,  板井 秀樹

IPC: G01B15/04

Abstract: 【課題】 本発明は、帯電の影響によらず、高精度な測定やパターン識別を行うことが可能なパターン測定装置の提供を目的とする。 【解決手段】 上記目的を達成するために本発明では、第1の方向に向かって荷電粒子ビームを走査したときに得られる第1の信号波形(103)と、前記第1の方向とは異なる第2の方向に向かって荷電粒子ビームを走査したときに得られる第2の信号波形(105)との間で差分演算を行い、当該差分に応じた重みで、前記荷電粒子ビームの走査によって得られる信号を加算処理することによって、合成プロファイル(110)を生成するパターン測定装置を提案する。 【選択図】 図1

Abstract translation: 本文所公开的是不考虑电荷的影响的，其目的在于提供一种可能的图案的测量装置执行高精度测量和图案识别。 甲为了实现上述目的，从获得的第一信号波形不同，本发明在扫描时朝第一方向（103）的带电粒子束，并且所述第一方向 扫描所述带电粒子束时朝第二方向（105），由所述带电粒子束的扫描获得的重量进行差分运算中，根据所获得的第二信号的波形之间的差 通过信号输出到加法处理是提出一种用于产生合成简档（110）的图案测量装置。 点域1

公开(公告)号：JP2017199452A

公开(公告)日：2017-11-02

申请号：JP2014155679

申请日：2014-07-31

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 板井 秀樹 ,  清水 久美子

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/147

Abstract: 【課題】 本発明は、ビーム照射量の抑制と高い測定成功率の維持の両立の実現する荷電粒子線装置の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明は、所定のフレーム数nの選択に基づいて、走査偏向器を制御する制御装置を備えた荷電粒子線装置であって、前記制御装置は、前記フレーム数nより小さいフレーム数m(m≧1)分、前記荷電粒子ビームを走査することによって得られる画像の中で、所定の条件を満たす画素に相当する試料上の部位、或いは当該試料上の部位を含む領域に、前記荷電粒子ビームが選択的に走査されるように、前記走査偏向器を制御する荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】 図3

公开(公告)号：JP5965739B2

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：JP2012141083

申请日：2012-06-22

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 板井 秀樹 ,  王 志剛 ,  浅尾 一成

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22

CPC classification number: G06K9/4647 ,  G01N23/2254 ,  G06T5/007 ,  G01N2223/42 ,  G06T2207/10061

公开(公告)号：JP2015138609A

公开(公告)日：2015-07-30

申请号：JP2014008400

申请日：2014-01-21

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 清水 久美子 ,  笹嶋 二大 ,  板井 秀樹

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】荷電粒子線装置において、測定対象領域を分割し走査する際に、対象パターンを高精度に計測可能なレシピの設定方法及び装置を提供する。 【解決手段】試料の撮像領域FOVを複数の領域に分割する際に、分割領域R1、R2、R3の境界に測定対象パターン位置が重ならないように設定する。分割領域の設定は、画像メモリに記憶された撮像領域FOV画像データをX方向又はY方向に走査し、走査線上の各画素に対応する輝度分布により生成したラインプロファイルに基づき行う。 【選択図】図8

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于设定配方的方法和装置，当在带电粒子束装置中分割和扫描测量对象区域时，能够高精度地测量对象图案。解决方案： 当样本的成像区域FOV被划分为多个区域时，测量对象图案位置被设定为不与分割区域R1，R2和R3之间的边界重叠。 基于通过对存储在图像存储器中的成像区域FOV图像数据沿X方向或X方向扫描的扫描线上对应于各像素的亮度分布而生成的线轮廓进行分割区域的设定 Y方向。