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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5813413B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2011180385
申请日：2011-08-22
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/66 , H01L21/027 , H01J37/28 , G01B15/04
CPC classification number: G06K9/4604 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01B15/04 , G01N23/22 , G06T7/0004 , H01J37/3174 , H01J2237/2816 , H01J2237/31754 , H01J2237/31796 , H01L22/12 , H01L2924/0002
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公开(公告)号：JP2016058669A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014185849
申请日：2014-09-12
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/3065 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , B06B3/00 , B08B7/028
Abstract: 【課題】歩留まりの低下を抑制できる試料の洗浄装置または洗浄方法を提供する。 【解決手段】処理室内に配置された試料台の上に載せられた試料を保持した状態で超音波振動させる手段と、前記試料の上方の前記処理室内に当該試料の表面に沿った方向にガス流れを形成する手段とを備えて当該ガスの流れを用いて前記試料表面から遊離したパーティクルを排気する試料洗浄装置または試料洗浄方法であって、前記試料台上に配置され前記試料がその上に載せられる誘電体製の膜と、この誘電体製の膜の内部で相互に電気的に絶縁されて隣り合って配置された第1及び第2の電極と、前記試料台上に試料が保持された状態で前記第1及び第2の電極に所定の範囲の周波数の高周波電力を供給する高周波電源とを備えた。 【選択図】 図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供可以抑制产量降低的样品洗涤装置或洗涤方法。解决方案：提供一种样品洗涤装置或样品洗涤方法，其包括在保持放置样品的状态下引起超声波振动的装置 在设置在处理室中的样品台上，以及用于在样品上方的处理室中沿着样品表面的方向形成气流的装置，并且通过使用气流排出与样品表面分离的颗粒。 样品洗涤装置包括：布置在样品台上并在其上放置样品的电介质膜; 第一和第二电极，其在电介质膜中相互电绝缘并排布置; 以及在将样品保持在样品台上的状态下，向规定范围内的频率向第一和第二电极提供高频电力的高频电源。图1
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公开(公告)号：JP5859795B2
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：JP2011221682
申请日：2011-10-06
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: H01J37/28 , G01B15/04 , G01N23/22 , G01B2210/56 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP6018803B2
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2012123901
申请日：2012-05-31
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
CPC classification number: G06K9/4604 , G06K9/4638 , H01J37/222 , H01J37/28 , G06K2209/19 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP5771628B2
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：JP2012548733
申请日：2011-12-05
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/20 , H01J37/05 , H01J37/244
CPC classification number: H01J37/05 , G01B15/00 , H01J37/10 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/04735 , H01J2237/24485
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